【課題】第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（１）第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程と、（４）第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法の工程（１）で用いられる、特定の繰り返し単位を５〜６５モル％含む酸解離性基を有する樹脂を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】可とう性、耐めっき性、耐熱性、解像性及び耐薬品性に優れる永久マスクレジストを形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂と、（Ｂ）（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルを構成モノマーとして含むバインダーポリマーと、（Ｃ）光重合性化合物と、（Ｄ）光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂が、（ａ１）ノボラック型エポキシ樹脂及びトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂の一方又は双方を含むエポキシ樹脂と（ａ２）ビニル基含有モノカルボン酸とを反応させて得られる樹脂と、（ａ３）多塩基酸無水物と、を反応させて得られる樹脂を含有するものである、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】直描用として新規に開発された感光性乳剤をスクリーン印刷用メッシュに塗布し、直描装置により作製できるようにしたスクリーン印刷用製版を得る。
【解決手段】版枠の内側にスクリーン印刷用メッシュが張設され、スクリーン印刷用メッシュの中央部の印刷領域に直描用感光性乳剤が塗布されたものにおいて、直描用感光性乳剤は、スクリーン印刷用メッシュのスキージ面に塗布された高感度ＳＢＱ系乳剤と、スクリーン印刷用メッシュのプリント面に塗布された高解像性ジアゾ系乳剤と、少なくともプリント面に塗布されて表面保護層を形成するオーバーコート剤とからなる多層構造である。 （もっと読む）

【課題】不溶化処理された第一のレジストパターンの間にスカムをほとんど生じさせることなく、微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（１）第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程と、（４）第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法の工程（３）で用いられる、特定の光崩壊性塩基を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物。
（もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１−１）〜（１−３）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位のいずれか１種以上を有する高分子化合物であることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。Ｙは水酸基又はヒドロキシメチル基を示す。ｍは０、１又は２である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成する有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来る有機電界発光素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有する有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、およびアルカリ可溶性バインダーを含有し、有機電界発光素子の有機層を区画する撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、基板上に乾燥膜厚が２μｍとなるように塗布し、該塗布膜に、線幅１５μｍの細線パターンを有するマスクを介して、波長３６５ｎｍの紫外光を１００ｍＪ／ｃｍ２ で照射し、次いで、２３℃、水圧０．１４ＭＰａのシャワー現像を行うことにより得られる細線画像１の側面と基板とが形成するテーパ角Ｗ１ （°）と、該細線画像１をさらに２３０℃で３０分間加熱して得られる細線画像２の側面と基板とが形成するテーパ角Ｗ２ （°）が、下記式（１）を満たす、有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。
１．１０≦Ｗ１ ／Ｗ２ ≦２．５ ・・・（１） （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｙは水素原子又は水酸基を示し、少なくとも１個のＹは水酸基である。波線は結合の向きが不特定であることを示す。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルによりパターン形状の明暗分布を指定して、それをレチクルやマスクの代替として露光するとき、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有するレジストは感光させることができなかった。
【解決手段】波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得る事ができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示される構造単位の共重合組成からなるバインダーポリマー、
【化１】


（ここでＲ^１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はアルコキシ基、ＯＨ基、ハロゲンを表し、Ｒ_３はラジカル重合性不飽和二重結合含有の置換基を示し、ｍは０〜５の整数である。）
（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さい（ＥＬマージンが大きく）レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の酸発生剤および当該酸発生剤として有用である化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式（ｂ１）中、Ｙ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の脂肪族環式基であり、Ｒ^１１’は置換基を有していてもよいアリール基またはアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子またはアルキル基であり、ｎ１は０または１であり、Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。
［化１］
（もっと読む）

【課題】より微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）半導体基板上に、酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物からなる第一のレジスト層を形成し、前記第一のレジスト層を選択的に露光し、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する前記第一のパターン同士の間に、酸発生剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物からなる第二のレジスト層を形成する工程と、（３）第一のパターンおよび第一のパターンに隣接する第二のレジスト層を選択的露光し、第一のパターン側壁に前記第二のレジスト層に由来する側壁層を形成する工程と、（４）前記第一のパターン及び前記第二のレジスト層を除去する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】高集積化、高速度化が進むＬＳＩを生産する際、極めて微細なパターンルールを加工する技術として、簡便で工程管理に有用なダブルパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に第１ポジ型レジスト材料を塗布し、高エネルギー線をパターン照射し、アルカリ現像して第１ポジ型パターンを得る工程、得られたポジ型パターンを第２レジスト材料の溶剤に対して不溶化並びに第２レジスト材料をパターニングする際の不溶化させる工程として高温加熱及び／又は高エネルギー線の照射工程を含み、次いで、第２レジスト材料を第１レジストパターン上に塗布し、高エネルギー線をパターン照射、現像して、第２レジストパターンを得る工程を含むダブルパターン形成方法で、該第１レジスト材料含有の樹脂が式（１）の繰り返し単位を有するダブルパターン形成方法。
（もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は二級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【解決手段】置換又は非置換のヒドロキシアルキルナフタレンを有する繰り返し単位と、酸によってアルカリに可溶になる繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光する工程と、加熱処理後に現像液を用いて上記レジスト膜を現像する工程と、その後に熱あるいは酸と熱によってレジスト膜を架橋硬化させる工程とを有することを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、上記高分子化合物と、酸発生剤とを添加したレジスト材料を用いて第１のパターンを形成後、熱あるいは酸と熱による架橋反応によってアルカリ現像液やレジスト溶液に不溶化させ、その上に更にレジスト溶液を塗布し、露光現像することにより、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングによって基板を加工できる。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は三級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光によるパターニングにおいて、ラインエッジラフネス低減とともに、高感度、高解像度、パターン形状が良好であるポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有するスルホニウム塩化合物を、ポジ型レジスト組成物中の全固形分に対し、２１質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン露光後の現像工程を省略することができる、新規なフォトリソグラフィー法を提供すること。
【解決手段】被加工表面上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光すること、および、上記パターン露光後の蒸着膜を有する被加工表面の少なくとも一部にエッチング処理を施し、上記パターン露光において露光された部分に対応する領域における被加工表面の少なくとも一部をエッチングすること、を含む被加工表面のエッチング方法。被加工物上に複数の凹凸を形成する加工方法。被加工物上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、および、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光することにより、該蒸着膜に複数の凹部を形成すること、を含む。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、式（１）の化合物を含む（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３及びＲ^４のうち少なくとも１つ並びにＲ^５〜Ｒ^１２のうち少なくとも１つはアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、−（ＡＯ）−及び−（ＯＢ）−は（ポリ）オキシエチレン鎖又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】透明性、硬度、耐熱性等の被膜性能と感度、解像度等のレジスト性能との両立を図ることができるアルカリ現像性ネガ型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ現像性ネガ型樹脂組成物は、下記の成分Ａ、成分Ｂ、成分Ｃ及び成分Ｄを含有し、カルボキシル当量(ｇ／モル)／エポキシ当量（ｇ／モル）の比ａ／ｅ＝０．５〜１．５、（成分Ａ＋成分Ｃ）／成分Ｂの質量比＝０．７〜５．６及び成分Ｄ／（成分Ａ＋成分Ｂ＋成分Ｃ）の質量比＝０．０１〜０.１２である。成分Ａ：イタコン酸モノエステル由来の構成単位（ａ１）及びビニル単量体又はビニルエステル単量体由来の構成単位（ａ２）より構成され、質量平均分子量が３，０００〜３００，０００及び酸価が５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであるアルカリ可溶性共重合体。成分Ｂ：光重合性多官能（メタ）アクリレート。成分Ｃ：エポキシ樹脂。成分Ｄ：光重合開始剤。 （もっと読む）