【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好な化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）は第１の樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、第２の樹脂（Ａ２）を０．１〜２０質量部含有する混合重合体であり、第１の樹脂（Ａ１）が酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない重合体であり、第２の樹脂（Ａ２）が側鎖にノルボルナンラクトンエーテル基を有する繰り返し単位（ａ２−１）と、フッ素原子を含有する繰り返し単位（ａ２−２）とを含む。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアセタール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ²は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｘ¹は単結合又は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状の二価の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明のレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
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【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、低欠陥性、即ち欠陥性にも優れる感放射線性樹脂及びその樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ノルボルナン環とラクトン環が縮合した複素環を有するアルコールの（メタ）アクリル酸エステル及びシクロペンタン環を有するアルコールの（メタ）アクリル酸エステルの共重合体樹脂（Ａ）及びその樹脂と感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１０）、側鎖に３級炭素を有する脂肪族単環式基を有する構成単位（ａ１１）および側鎖に３級炭素を有する脂肪族多環式基を有する構成単位（ａ１２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するポジ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）により表される構造単位（ａ１）と、下記式（２）により表される構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）キノンジアジド基含有化合物、（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型感光性絶縁樹脂組成物。


［式（１）のＲ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。式（２）のＲ^２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 ３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長範囲内にピークを有する光（特に波長４０５ｎｍの青色レーザー）での露光法によるブラックマトリクスの形成において、十分な感度、解像度及び密着性が得られる黒色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）増感剤、及び、（Ｅ）黒色顔料を含有し、上記（Ｃ）光重合開始剤が、（Ｃ１）２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾール、及び、（Ｃ２）２−メルカプトベンゾオキサゾールを含み、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長範囲内にピークを有する光に露光してブラックマトリクスを形成するために用いられる、黒色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】側鎖に、芳香族炭化水素基および三級炭素を含有する鎖状または環状のアルキル基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明の材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。また、マスク加工における、ＥＢ描画において、微細パターンの解像性、高感度で高加速電圧ＥＢ露光に相応しく、エッチング耐性に優れたポジ型レジスト材料を提供でき、マスク加工に極めて有用でもある。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する
【解決手段】 エチレン性不飽和二重結合を有する重合性水溶性化合物Ａ、エポキシ基含有不飽和化合物Ｂ及び下記一般式（１）


で示される化合物Ｃを重合して得られるポリマー、並びに溶媒を含むフォトレジスト組成物であって、モノマー成分の合計量中、化合物Ａの割合が０〜９０重量％、化合物Ｂの割合が０〜５０重量％及び化合物Ｃの割合が１５〜１００重量％であるフォトレジスト組成物 （もっと読む）

【課題】製造ラインを改造することなく、また工数も大きく増加させることなく、高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを簡単に形成し、さらに低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ用感光性ペーストは、黒色材料とガラス粉末とを含む無機材料成分と、感光性ポリマーと感光性モノマーと光重合開始剤とを含む有機材料成分からなり、黒色材料は平均粒径が１μｍ以下であって、ガラス基板２１上に塗布して感光性膜ｂｘを形成した後、露光することによりアライメントマーク５１を形成する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】高価な合成石英フォトマスクを用いることなく高精細な感光性樹脂凸版を製造することができ、かつ、有機電子デバイスの製造コストを低減することを可能とすること。
【解決手段】本発明は、基材１０１と基材１０１の上に形成されている感光性樹脂層１０２とを具備するパターン転移媒体１００を用意する工程と、光照射手段及４０１及び光変調手段４０２を具備する露光ユニットとパターン転移媒体１００とを相対的に移動させて予め入力された情報に基づいて光照射手段４０１から放たれる光を光変調手段４０２により変調することで露光光のパターンを形成して感光性樹脂層１０２に対し照射を行う露光工程と、感光性樹脂層１０２のうち前記露光工程において露光光が照射されない領域を除去して感光性樹脂凸版を形成する現像工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】画像位置バラツキのないＦＭスクリーニング再現性に優れ、微小画像部の耐刷性や耐薬品性に優れた感光層を作製するための感光性組成物およびその感光層を設けたサーマルネガ版用平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表わされる単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂、１−アミノ−２−フェノキシ−４−ヒドロキシアントラキノン（フェノキシ基に置換基を有してもよい)である特定の赤色染料、赤外線吸収剤、ラジカル重合性開始剤とエチレン性二重結合を有する重合性化合物とを含有する感光性組成物。
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【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【解決手段】（Ａ）式（１）の繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れており、十分な定在波防止効果を備え、且つウエハー外周部における縞状欠陥の発生が十分に抑制された反射防止膜を形成できる上層反射防止膜形成用組成物及び上層反射防止膜を提供する。
【解決手段】本上層反射防止膜形成用組成物は、側鎖にＯＨ基を有する３級炭素含有基を有する（メタ）アクリレート単位（１）及び側鎖にスルホン酸基を有する（メタ）アクリレート単位（２）を含む重合体（Ａ）と、側鎖にスルホン酸基を有する（メタ）アクリレート単位（２）及び側鎖にパーフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート単位（３）を含む重合体（Ｂ）と、水（Ｃ）と、を含有し、前記重合体（Ｂ）の含有量が、前記重合体（Ａ）１００質量部に対して、１００〜３００質量部である。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する感活性光線性樹脂組成物。


式中、Ａｒは、芳香族環を表し、−（Ａ−Ｂ）基以外に更に置換基を有してもよい。ｎは、１以上の整数を表す。Ａは、単結合、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ(＝Ｏ)―、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、及び−ＯＳ（＝Ｏ）_２−から選択されるいずれか、あるいは２以上の組み合わせ（但し、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を除く）を表す。Ｂは、３級若しくは４級炭素原子を含む、炭素原子数が４以上の炭化水素基を有する基を表す。ｎが２以上のとき、複数の−（Ａ−Ｂ）基は同一でも異なっていてもよい。Ｍ^＋は、有機オニウムイオンを表す。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシスチレン系構造単位（ａ１）と、アルキルビニルエーテル系構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤、を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、さらに高めたフォトレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びに該レジスト膜の保護層用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、及び成分（Ｃ）下記式（１）で表される溶剤を含有することを特徴とするレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びにパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ₂は炭素数３〜４のアルキル基を表す。） （もっと読む）