【課題】高精細なＰＤＰパネル等の製造を可能とする、高精細な積層体パターン及びその製造方法、リブ形成材料並びにガラスリブパターンを提供する。
【解決手段】ガラス粉末と有機バインダーとを少なくとも含むリブ形成材料の上に硬化レジスト層が積層されている積層体パターンであって、該リブ形成材料のパターンの幅Ａ１と高さＢ１とが式（Ｉ）及び（ＩＩ）、Ｂ１／Ａ１≧１０ （Ｉ）、Ａ１≦２５ （ＩＩ）（Ａ１：リブ形成材料のパターンの幅（μｍ）、Ｂ１：リブ形成材料のパターンの高さ（μｍ））を満たすことを特徴とする積層体パターンを提供する。硬化レジスト層は、（Ａ）アクリル系樹脂、（Ｂ）分子内に少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物を光硬化させて得られたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基体に塗布した際の膜厚が均一でピンホールやハジキ等の面状欠陥が発生しにくく、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、高精細な永久パターンを効率良く形成可能な感光性フィルム、感光性フィルムの製造方法、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性フィルムの製造方法は、i）感光性基およびアルカリ現像性を付与するための酸基を導入した化合物、ii）重合性化合物、iii）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液に脱泡処理を施す脱泡工程と、前記脱泡工程後に、前記塗布液を支持体に塗布する塗布工程と、前記塗布液を乾燥させて前記支持体上に感光層を形成する乾燥工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、オキシム系光重合開始剤と、紫外線吸収剤と、全固形分中における含有量が３０質量％以上である、芳香環を有するモノマーと、を含有し、固体撮像素子の画素形成に用いられる感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、半田耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）部分イミド化された、ポリアミド酸部位以外にアミド結合を有する、ポリイミド前駆体、（Ｂ）感光性樹脂及び（Ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】低残留応力と良好な機械物性を有するポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、下記式（１）：


｛式中、Ｒ_１は、脂肪族環を有する４価の有機基であり、そしてＲ_２Ｒ_４は、４価の芳香族環含有有機基である。｝で表される繰り返し単位を一つの構成成分とするポリマーであって、ポリマー骨格に脂肪族環及びフェノール性水酸基を有するポリイミドとポリベンゾオキサゾール前駆体を共重合して得られるポリマー。 （もっと読む）

【課題】被処理基体への感光層の優れた密着性が得られ、感度が安定して作業効率に優れ、パターンを高精細に形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、支持体と前記支持体に積層された感光層とを備えたパターン形成材料を用いて被処理基体の処理対象表面にパターンを形成するパターン形成方法であって、前記感光層が前記処理対象表面側になるようにして、前記パターン形成材料を前記被処理基体に真空ラミネートするラミネート工程と、前記ラミネート工程の後に、前記支持体を前記感光層から剥離する剥離工程と、前記剥離工程の後に、前記感光層に対して所望のパターンの露光をする露光工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基又は１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基を有する１、３、５−トリス（パラ−（パラ−ヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、高解像度と高感度を両立するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
（メタ）アクリロイル基を有していてもよい親水性樹脂（Ａ）、紫外線吸収剤（Ｂ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物であって、前記紫外線吸収剤（Ｂ）を感光性樹脂組成物の固形分の重量に基づいて０．５〜１０重量％含有し、前記親水性樹脂（Ａ）中の（メタ）アクリロイル基濃度が１．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である場合は、さらに多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｄ）を必須成分として含有してなり、感光性樹脂組成物の固形分の重量に基づく（メタ）アクリロイル基濃度が１．５〜６．０ｍｍｏｌ／ｇであるアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】直線性に優れた金属パターンを形成する方法、およびその方法に使用することができる転写フィルムを提供すること。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）圧延により形成された金属箔、および（Ｃ）粘着層がこの順に積層されてなり、前記レジスト層（Ａ）の形成時の流れ方向が、前記金属箔（Ｂ）の圧延方向と略平行であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】基体に塗布した際の膜厚が均一でピンホールやハジキ等の面状欠陥が発生しにくく、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、高精細な永久パターンを効率良く形成可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、下記構造式（１）で表されるモノマーに由来する構造単位及び下記構造式（２）で表されるモノマーに由来する構造単位の少なくともいずれかと、ポリオキシアルキレン基を有するエチレン性不飽和モノマーに由来する構造単位とを有する共重合体、バインダー、重合性化合物、熱架橋材並びに光重合開始剤を含むことを特徴とする。


（もっと読む）

【課題】後退接触角が高くかつ前進接触角が低い、つまり、スキャン速度を上げることが可能な上層膜にもかかわらず、バブル欠陥が少ない上層膜を形成することが可能な上層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、（Ａ）下記式（１）で示される繰り返し構造単位を有する重合体、（Ｂ）上記（Ａ）以外の重合体であって、スルホン酸基を有する重合体および（Ｃ）溶剤を含有する上層膜形成組成物。
（もっと読む）

【課題】レジスト組成物に好適な高いアルカリ可溶性を有し、熱処理工程において水分等の低分子成分を発生することなく、解像性や耐熱性に優れた高い耐熱性を有する硬化物を生成することができるアルカリ可溶性樹脂であり、該アルカリ可溶性樹脂を用いたポジ型レジスト組成物及びネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】ベンゾオキサジン環の開環構造を有するアルカリ可溶性樹脂であり、該樹脂は、ベンゾオキサジン環を有する化合物と、フェノール性水酸基を１つのベンゼン環上に１以上有する芳香族化合物を交互共重合させた繰り返し単位からなり、絶縁性、機械強度、難燃性、耐水性等、ベンゾオキサジン樹脂が有する基本的な特徴を兼ね備え、フェノール性水酸基含有化合物由来の高いアルカリ可溶性が発現される。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、設計寸法通りの高精細なパターンを形成でき、また、画素上のスカム（浮きかす）の発生を抑制することができる感光性樹脂組成物、並びに、前記感光性樹脂組成物により形成されたカラーフィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】顔料、一般式（I）又は一般式（II）で表される化合物、及び、光重合開始剤を少なくとも含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、並びに、前記感光性樹脂組成物により形成されたカラーフィルタ及びその製造方法。
（もっと読む）

【課題】高い感度と解像性を備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物の提供。
【解決手段】溶剤と（２-ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタノール誘導体でアモルファス性を示す、例えば４−（４'''−｛２−［ヒドロキシ−（２−ヒドロキシフェニル）−フェニル−メチル］｝［１，１’；４’，１”］ビフェニル）−（２−ヒドロキシフェニル）−フェニル−メタノールや下式で示される化合物をマトリックス化合物として含有する感光性組成物。
（もっと読む）

【課題】現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子化合物：２０〜８０質量％、（Ｂ）特定ポリウレタンプレポリマー：１０〜７０質量％、（Ｃ）少なくとも１つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜６０質量％、及び（Ｄ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 はく離片を細分化（はく離後のレジスト片のサイズを小さく）させることができ、且つ耐めっき性に優れ、感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダーポリマーが、少なくとも（メタ）アクリル酸及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステルを共重合成分として含む感光性樹脂組成物。さらに、（Ｄ）密着性付与剤として、（Ｄ−１）ベンゾトリアゾール及び（Ｄ−２）一般式（Ｉ）で表されるカルボキシベンゾトリアゾール誘導体を含有すると好ましい。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸基含有感放射線性酸発生剤（Ａ）と、樹脂成分全体を１００ｍｏｌ％としたとき、酸解離性基を有する繰り返し単位の合計が２５〜４０ｍｏｌ％である樹脂（Ｂ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


〔前記一般式（１）において、Ｒ^１は炭化水素基等を示し、Ｍ^＋は１価のオニウムカチオンを示す。〕 （もっと読む）

【課題】高精細パターンを簡便に形成できる新規なパターン形成方法と、このようなパターン形成方法に好適なフォト沈降型組成物を提供する。
【解決手段】無機粉末の凝集沈降によりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法であって、無機粉末、分散媒、及び光酸発生剤を含むフォト沈降型組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、得られた塗膜をパターン露光して無機粉末を凝集沈降させる工程と、現像する工程と、現像して得られたパターンを焼成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、ドライエッチング耐性等のレジストとしての基本物性に優れ、且つ、解像度、焦点余裕度、パターン形状に優れる。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤と、溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物において、上記樹脂は、特定構造の酸解離性基を有する繰り返し単位を含む共重合体を含有し、酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、５５モル％を超えて含有し、共重合体は、樹脂全体に対して、９０質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光による微細パターン形成プロセスにおける現像工程で、良好なレジストパターン形状を与える液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物を５０質量％以上含む溶剤系に、フルオロアルコール基を側鎖に有する水不溶性、かつアルカリ可溶性ビニルポリマーを溶かしてなることを特徴とする液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法。式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ独立に炭素数３〜５のアルキル基である。
（もっと読む）