【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、アルカリ現像液に対して分解性を示す一般式（ｃ−１）［式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよい。ただし、当該重合性基は、炭素原子間の多重結合を有するものであって、その炭素原子のいずれもが、式（ｃ−１）における−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子に直接結合しない基である。Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。］で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
［化１］
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【課題】色純度及び遮光性を向上させても、パターン形状の悪化や高精細化が可能な着色アルカリ現像型感光性組成物、ならびにそれを用いたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】（イ）バインダー樹脂、（ロ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（ハ）光重合開始剤、（ニ）色材、（ホ）溶剤からなる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物において、（ロ）エチレン性不飽和結合を有する化合物のエチレン性不飽和結合の当量が、８０〜１１０の範囲であることを特徴とする着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物である。ここで、エチレン性不飽和結合当量（二重結合当量）は、エチレン性不飽和結合当量＝（エチレン性不飽和結合を有する化合物の1分子の分子量）／（エチレン性不飽和結合を有する化合物1分子中に含まれるエチレン性二重結合の数）で定義される。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ高感度で高解像度のパターン形成が可能なポジ型感光性組成物の提供、および、上記のポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子の提供。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表されるオルガノシランの１種以上と下記一般式（２）で表されるオルガノシランの１種以上を加水分解し縮合させることによって合成されるポリシロキサンと（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。


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【課題】ハロゲンフリーかつ高水準の難燃性を備え、硬化後の低反り性に富み、可塑性、解像性、はんだ耐熱性、耐薬品性等に優れた被膜を形成できるアルカリ現像型の感光性熱硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基とを有し、希アルカリ溶液に可溶な樹脂成分と、（Ｂ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）有機リン化合物と、（Ｅ）希釈剤と、（Ｆ）所定の構造を有するポリイミド樹脂と、を含有するアルカリ現像型の感光性熱硬化型樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物は、分子内に２個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＡと、分子内に酸分解性基および１個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＢを、該ラジカル重合性モノマーＡおよび該ラジカル重合性モノマーＢの合計モル数に対して５モル％以上２００モル％以下の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、酸性官能基を有する重合性不飽和化合物、脂環式炭化水素基を有する重合性不飽和化合物および他の重合性不飽和化合物を重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、重合性不飽和化合物、光重合開始剤ならびに、相互に独立に、水素原子または（メタ）アクリロイル基を有する１価の基を有する化学式で表される化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】微粒子パターンを単層で、かつ位置選択的に形成可能な微粒子パターンの形成方法および基板の加工方法を提供する。
【解決手段】基板上に光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位を有するシランカップリング剤（Ｂ１）を成膜してシランカップリング剤層を形成する工程、前記シランカップリング剤層上に表面がラジカル重合性官能基で修飾された微粒子（Ａ１）からなる微粒子層を形成する工程、前記微粒子層にマスクを通して露光し、露光部位の最下部の微粒子（Ａ１）を光ラジカル重合によりシランカップリング剤（Ｂ１）と結合させて基板上に固定する工程、前記微粒子層の基板に固定されていない微粒子を除去する工程を有する微粒子パターンの形成方法。上記の方法を用いて形成された微粒子パターンをエッチングマスクとして、下地基板を加工するする基板の加工方法。 （もっと読む）

【課題】安価で、低抵抗、高精細かつ基板に対して薄膜で密着強度が高いパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）を含有し、該アルミニウム粉末（Ａ）の平均粒子径が２〜２０μｍ、平均円形度が０．７以上、該粉末粒子の長径と短径との比（長径／短径）の平均値が５以下であり、該アルミニウム粉末（Ａ）およびガラス粉末（Ｂ）の合計１００重量％に対する、該ガラス粉末（Ｂ）の含有量が１０〜３０重量％であることを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】メッキを行った後に、剥離液で容易かつ充分に基板から剥離することが可能な、微細なバンプ形成用材料の形成に好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ１）フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（ａ２）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、および（ａ３）他のラジカル重合性化合物に由来する構成単位を有するアルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）下記式（１）で示される架橋剤を含む架橋剤類、ならびに（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。
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【課題】経時安定性に優れ、高感度で硬化し、加熱経時による着色を抑制しうる硬化膜を形成可能な光重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示素子を提供すること
【解決手段】（Ａ１）下記一般式（Ｉ）で示される増感色素と、（Ａ２）α−アミノケトン類及びアシルフォスフィンオキシド類からなる群より選択される重合開始剤と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、（Ｃ）着色剤と、を含有する光重合性組成物である。下記一般式（Ｉ）中、Ｘは、Ｏ、Ｓ、又はＮＲを表し、Ｒは、水素原子、アルキル基、又はアシル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｒ^１〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、水素原子、又は１価の置換基を示す。
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【課題】露光、現像、及び後加熱処理により、高精細で、且つ、順テーパーの断面形状を有し、更に、膜強度に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供する。また、本発明の他の目的は、高精細で、且つ、順テーパーの断面形状を有し、更に、膜強度に優れた着色パターンを有するカラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（ａ）分子内に、１つ以上の重合性基を有しない環構造、２つ以上のラジカル重合性基、及び１つ以上の脂環式開環重合性基を有する化合物、（ｂ）光重合開始剤、及び（ｃ）着色剤を含むことを特徴とする着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】少なくとも光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する記録層を備えた光記録媒体のダイナミックレンジの浪費を抑えること
【解決手段】光重合性化合物、光重合開始剤、バインダー及びホストゲスト化合物を含有する記録層、或いは、さらに増感剤を含有する記録層を備え、前記光重合開始剤及び／又は増感剤がゲストとして前記ホストゲスト化合物に内包されている光記録媒体とする。そして、情報を記録しようとする部位に局部的な発熱を起こし、当該部位に存在するホストゲスト化合物に内包されていた光重合開始剤及び／又は増感剤を記録層内に露出させることで、目的とする記録エリアのみ記録可能な状態とする。その結果、ダイナミックレンジの浪費を抑えることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 溶剤現像に対応可能であり、低温硬化可能であり、吸水率が十分に低く、耐湿熱性に優れ、厚膜で解像度よく像形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）主鎖に炭素数５〜２０のアルキレン基を有するポリアミック酸と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有し、上記（Ｂ）重合性化合物が、分子内に４〜１０のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】安価で、低抵抗かつ高精細のパターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、ならびにＡｌ、ＬｉおよびＭｇから選択される金属を含有する有機金属化合物（Ｇ）を含むことを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成を利用した印刷版において、プリンタブルエレクトロニクスの特殊なインクによる高品質印刷に対応でき、さらに印刷後の版の洗浄にも耐えうる印刷版を提供すること。
【解決手段】少なくとも、支持体上に１．０μｍ以上５０．０μｍ以下の厚みの紫外線吸収層を有し、フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、１０μｍ以上３００μｍ以下の厚みでネガ型感光性レジスト（Ａ）層を有する積層体を、フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、該ネガ型感光性レジスト（Ａ）を現像液により現像する工程と、を経て作成される印刷版であって、該紫外線吸収層が樹脂レリーフのパターン下部にだけ残されていることを特徴とする印刷版。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ−１）で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物（式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよく；Ｘは酸解離性部位を有する二価の有機基であり；Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。）；かかる液浸露光用レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
［化１］
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【課題】フォトレジストによるリソグラフィー技術は、非常に高い経時安定性を得る必要がある。また、基板に依存しない良好なパターンプロファイルや高解像度が得られるものでなければならない。本発明はこれらの課題を同時に解決し得る化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターンの形成方法、さらにフォトマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジスト化合物であって、下記一般式（１）等で表されるモノマー単位を１種あるいは２種以上含有し、ポリマーの水酸基の一部がアセタール基により保護されたアルカリ不溶性ポリマーであって、酸触媒によって脱保護された時にアルカリ可溶性となるベースポリマー、スルホネートアニオンを含有するトリアリールスルホニウム塩、塩基性成分、有機溶剤を主要成分として含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
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【課題】 溶剤現像に対応可能であり、低温硬化可能であり、吸水率が十分に低く、耐湿熱性に優れ、厚膜で解像度よく像形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）主鎖に炭素数５〜２０のアルキレン基を有するポリアミック酸と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有し、上記（Ｂ）重合性化合物が、分子内に炭素数６〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基及び２以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの形状悪化、解像性の低下、現像時のレジスト残渣の発生を抑えつつ、耐クラック性を高めたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るポジ型レジスト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び（Ｃ）感光剤を含有し、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂が下記一般式（Ｂ−１）で表される（ｂ１）構成単位を有することを特徴とする。


［一般式（１）中、Ｒ^１ｂは水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２ｂは置換基を有していてもよい炭素数５以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示す。］ （もっと読む）