【課題】立体基板上に透明樹脂構造体を形成する場合に、寸法精度よく透明樹脂構造体を形成することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】立体基板上に、紫外線吸収剤を含有する紫外線硬化型透明性樹脂組成物を載置した後、フォトマスクを介して紫外光を照射して選択露光することにより、該樹脂組成物を硬化させる工程と、未露光部分を除去することにより硬化された樹脂構造体を形成させる工程とを備えることを特徴とする立体基板上に透明性樹脂構造体を形成する方法を行う。 （もっと読む）

【課題】予備露光などの前処理が不要で、使用時の重合に伴う収縮が小さく、酸素による重合阻害を受けることなく、良好な屈折率コントラストを得ることが可能な感光性材料を提供する。
【解決手段】ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合性化合物がラジカル重合することによって形成されたポリマーマトリックスと、光カチオン重合開始剤と、カチオン重合性化合物とを具え、前記光カチオン重合開始剤の還元電位が、前記ラジカル重合開始剤から生じるラジカルの酸化電位よりも低くなるようにして、感光性材料を作製する。 （もっと読む）

【課題】
フォトリソ工程に必要な現像性と光反応性を損なうことなく、かつ硬化収縮が少なく反りの無い基板を提供できる光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム及びそれらの硬化物を提供すること。
【解決手段】
本発明のアルカリ現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物は、一分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基を併せ持つ重量平均分子量が２，０００〜５０，０００である化合物と、光重合開始剤から構成された感光性成分と、熱硬化性成分を含有し、不飽和二重結合を有するモノマーを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた印刷版を簡便に製造することができ、かつ、環境に優しい印刷版の製造方法および印刷版製造用光硬化性液体を提供すること。
【解決手段】本発明の印刷版の製造方法は、印刷版原版上に、エポキシ変性脂肪酸エステルおよび／またはアクリル変性脂肪酸エステルと光重合開始剤とを含む印刷版製造用光硬化性液体を付与し、未硬化の膜を形成する印刷版製造用光硬化性液体付与工程と、未硬化の前記膜に、選択的に紫外線を照射し、前記膜の一部を硬化させる紫外線照射工程と、前記印刷版原版上の前記膜のうち、未硬化の部分を除去する未硬化部除去工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光の伝搬損失の発生を抑制できる感光性樹脂組成物、光導波路フィルムおよび光導波路フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）置換または無置換の環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーと、（Ｃ）光酸発生剤と、を備える。このような感光性樹脂組成物は、屈折率が異なる領域を含むフィルムに使用され、たとえば、光導波路フィルムに使用される。 （もっと読む）

【課題】良好な解像度、熱安定性、耐薬品、溶解性を有し、高感度でかつ基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（Ｒ₁はアルキル基又はアリール基を、Ｒ₂及びＲ₃はアルキル基、アリール基又はアルケニル基を表す。Ｙはフッ素原子又は塩素原子を、Ｚはフッ素原子、シアノ基、ニトロ基及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる基２つ以上で置換されたフェニル基を、ｍは０から３の整数、ｎは１から４の整数、ｍ＋ｎ＝４。）で表される光カチオン重合開始剤（Ａ）とエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光カチオン重合開始剤（Ａ）と１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤（Ａ）がトリフルオロメチルスルホニウム含有イオン化合物からなる光カチオン重合開始剤であるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】テトラキスペンタフルオロフェニルボレート錯体からなる光カチオン重合開始剤（Ａ）と１分子中に２個以上のエポキシ基を有する特定構造のエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。該エポキシ樹脂（Ｂ）の軟化点が４０℃以上１２０℃以下かつエポキシ当量が１５０〜５００／ｅｑ．であるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が193nmのArFエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、ブリッジマージンが良好な（即ち、パターン間が繋がってしまう欠陥の起こりにくい）ネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が減少する樹脂、
（Ｂ）カチオン重合性化合物、
（Ｃ）光カチオン重合開始剤、
（Ｄ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、且つ保存安定性に優れたフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製された解像度の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基材上に、（Ａ）遮光材料、（Ｂ）特定構造の増感色素、（Ｃ）ラジカル、酸または塩基を生成しうる開始剤化合物、及び（Ｄ）ラジカル、酸または塩基の少なくともいずれかによって反応する重合性化合物を含有する感光性層を有することを特徴とするフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性および弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、およびプロペニルエーテル基からなる群から選ばれる１種または２種以上の反応性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】i線照射により酸を発生する優れた光酸発生剤及びこれを含むフォトリソグラフィ組成物の提供。
【解決手段】光酸発生剤は、式（Ｉ）


（式中、R₁は低級アルキル基であり、R₂は低級アルキル基である。また、R₃は水素又は低級アルキル基である。さらに、X^-はCF₃SO₃^-、PF₆^-、SbF₆^-、BF₄^-、C₄F₉SO₃^-のうちの何れか一つである。）で示される化合物やその異性体などを含むものである。また、フォトリソグラフィ組成物は前記光酸発生剤を含むものである。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）

【課題】エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などのカチオン重合性化合物に対して速やかに硬化させることができ、得られた硬化物が、透明性、耐光性などの光学特性、硬さ、長期耐熱性、誘電率など電気特性に優れ、光半導体用封止剤、光学電子部材及びこれらの接着剤として好適に使用できるエポキシ組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ケトン基含有アダマンタン誘導体とトリメチルスルホニウムヨージドとを塩基性触媒存在下で反応させて得られたアダマンタン含有エポキシ化合物と、（Ｂ）カチオン重合開始剤および／又は硬化剤を含有するエポキシ組成物、又は更に（Ｃ）カチオン重合性化合物を含有するエポキシ組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【課題】画素部平坦性に優れたカラーフィルタを得ることができる着色組成物、及びこれを用いて得られたカラーフィルタ、及び色むらが抑制された表示装置を提供する。
【解決手段】色材、溶剤を含有し、該溶剤が下記一般式（１）からなるジオール誘導体であることを特徴とする着色組成物。
一般式（１） Ａ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｂ
［一般式（１）中、Ｃ_ｎＨ_２ｎはｎが５以上の整数である直鎖若しくは分岐アルキレン基を表す。Ａはヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表し、Ｂは炭素数１〜６のアルコキシル基、又はアセトキシル基を表す。 （もっと読む）

【課題】 近紫外線領域である３００〜４００ｎｍ付近での感度が非常に高く、反応速度を非常に高めることができる光酸発生剤、および近紫外線照射による反応時間が非常に短い光反応性組成物を提供すること。
【解決手段】 式（１）：
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい単環式炭素環基、置換基を有してもよい縮合多環式炭素環基または置換基を有してもよい単環式複素環基を示し、Ｘ⁻は、無機酸イオンまたは有機酸イオンを示す。）で表されるジチエニルベンゼンジスルホニウム塩、当該ジチエニルベンゼンジスルホニウム塩を含有する光酸発生剤、および当該光酸発生剤を含有する光反応性組成物。
（もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れたグラフトポリマーパターンを、基材表面の所望の領域にのみ簡便に形成しうるグラフトポリマーパターン形成方法、エッチング工程を行うことなく微細な導電性パターンの形成が可能であり、且つ、基材界面の凹凸が少ない場合であっても基材との密着性に優れた導電性パターンを形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布均一性を向上させることにより、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供する。
【解決手段】多官能エポキシ樹脂及びカチオン重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物中に、シリコーン系の界面活性剤を添加することにより、塗布均一性が向上し、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供できる。 （もっと読む）