【課題】ベイク工程後に得られたＦＰＣの反りを低減し、機械物性を向上させ、溶剤耐性を改善することのできる樹脂パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの製造方法は、（１）ポジ型感光性樹脂組成物をフィルム基材に塗布し、次いで脱溶剤し感光性ドライフィルムを作る工程と、（２）前記感光性ドライフィルムを、パターンを配した基板上に圧着し感光層を形成する工程と、（３）前記感光層に、マスクを通して活性光線を照射する工程と、（４）前記感光層をアルカリ水溶液により現像する工程と、（５）前記感光層を水及び酸性水溶液からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒によりリンスする工程と、（６）前記感光層の全体に活性光線を照射する工程と、（７）１００℃〜４００℃でキュアする工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 対象基材上に、絶縁樹脂組成物の塗膜による被覆層が、テープ基材の剥離によっても接着性および電気絶縁性が劣化せず、その特性が維持された状態で形成される被覆層形成方法の提供。
【解決手段】 被覆層形成方法は、テープ基材上に粘着膜が形成された保護テープを用い、対象基材の一面上に、その粘着膜が前記対象基材の一面上に接触する状態に保護テープを貼り合わせる工程と、粘着膜に熱または光を与えて気体を発生させた後、テープ基材を粘着膜から剥離する工程とを、この順に行って粘着膜による被覆層を対象基材の一面上に形成する方法であって、粘着膜が、熱または光を受けることにより気体を発生する気体発生剤を含有する絶縁樹脂組成物の塗膜よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐熱変色性、基板への密着性及び電気特性に優れ、現像性、保存安定性の良好な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記の［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］を含む感性樹脂組成物である。［Ａ］（ａ１）ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、（ａ２）不飽和エポキシ化合物を共重合成分として含む共重合体、［Ｂ］ジメチルフェノール、トリメチルフェノール、メチルプロピルフェノール、ジプロピルフェノール、ブチルフェノール、メチルブチルフェノール、ジブチルフェノール、４，４'−ジヒドロキシ−２，２'−ジフェニルプロパンから選ばれる１種または２種以上のフェノール類を含むノボラック樹脂、［Ｃ］キノンジアジド基含有化合物。 （もっと読む）

【課題】良好な現像性を示し、焼成後の反りが小さく、難燃性を発現する感光性組成物及び該感光性樹脂組成物からなる感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ溶解性ポリイミド及び／又はポリイミド前駆体、（Ｂ）芳香族性水酸基を有するホスファゼン化合物の水酸基の一部の水素原子がキノンジアジド構造を有する官能基で置換されているキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】印刷機として簡便に使用され、価格も安価であり、デジタル印刷機能を有する印刷システムであり、高速大量印刷のできる大型印刷機として構築でき、また多品種少量印刷にも対応できる補助的小型印刷機としても利用でき、また優れた印刷品質を保持し、且つ環境面、安全性、衛生性、健康面などの要望に対応できる印刷システム、それに使用される印刷版および印刷インクを提供すること。
【解決手段】水性平版印刷方法において、印刷インクが水性媒体中に微細化顔料および水性固着剤を含有する水性顔料インクであり、印刷版が親水性画像部分と撥水性非画像部分からなる平版印刷版であり、親水性画像部分が、前記水性顔料インクが付着するように親水化した光触媒型酸化物を表面に有する膜部分よりなり、撥水性非画像部分が撥水性を有する疎水性部分を表面に有する膜部分からなる平版印刷版であることを特徴とする水性平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】
高耐熱性・高解像度・高感度・高残膜率を両立したフォトレジスト用クレゾール樹脂および、それから得られるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
ビフェニレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも１つの２価のアリーレン基を架橋基に持つクレゾール型重合体単位（ｎモル）と、クレゾール・ホルムアルデヒド重合体単位（ｍモル）を共に有し、両者の重合度のモル比（ｍ／ｎ）を９７／３−７０／３０としたクレゾール樹脂および該樹脂を含有する組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】永久膜用途に用いられ、ハロンゲンを含有する感光剤を用いていない感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びこのドライフィルムを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）脂環式エポキシ基を有するポリマー、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するモノマー、（Ｃ）ラジカル重合開始剤、及び（Ｄ）光照射によってスルホン酸を発生する感光剤を含む感光性樹脂組成物は、永久膜用途に用いたとしても、微細部品等に用いられる材料を腐食させることがないので、永久膜用途の感光性樹脂組成物として、好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体後工程のリフロー又は及びレジスト剥離工程において使用される新規感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたフラックスや溶剤に対して充分な耐性を持ちかつ側壁形状に角のない硬化レリーフパターンの製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


で表される構造を含むヒドロキシポリアミド１００質量部、（Ｂ）ジアゾキノン化合物１〜１００質量部、（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物、及び（Ｄ）熱架橋剤を含有し、該（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物と該（Ｄ）熱架橋剤との合計含有量が２０〜５０質量部であり、且つ、該（Ｃ）オキセタニル基を含有する化合物に対する該（Ｄ）熱架橋剤の質量比が０．０６〜０．６７であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを用いて、フォトレジスト層や各種の基材に微細な凹凸形状を安定して精度よく形成することが可能な凹凸形状の形成方法を提供する。
【解決手段】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを基材１１上で固化して、厚さ５μｍ以上のフォトレジスト層１３を形成し（Ｓ２０）、フォトレジスト層１３を露光及び現像することで凹凸形状２０、３０を形成する方法であり、フォトレジスト層１３を形成後、フォトレジスト層１３を所定温度及び所定湿度に保たれた調湿環境内に、所定時間保持した後、露光する。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物に十分なメルト性を得られながら十分な耐熱性が得られる感放射線性組成物、これを用いて形成されるマイクロレンズおよびその形成方法の提供。
【解決手段】 感放射線性組成物は、（Ａ）成分：不飽和二重結合基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）成分：上記（Ａ）成分以外のポリシロキサンと、（Ｃ）成分：少なくとも２つ以上のメルカプト基を有する有機化合物と、（Ｄ）成分：感放射線剤と、（Ｅ）成分：溶剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなり、各成分の構成割合が（Ａ）１００質量部に対して（Ｂ）５〜５０質量部及び（Ｃ）１〜４０質量部に設定されている。成分（Ａ）：フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）、α，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）及び（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）からなる共重合体。成分（Ｂ）：キノンジアジド基を有する感光剤。成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 （もっと読む）

【課題】スリット塗布を行った後減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく自然乾燥した場合にも、短時間の乾燥で、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、露光、現像後のレジストパターンの形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物として、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド基を含んだ感光剤およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ａ）と沸点が１４５℃以下かつ酢酸ｎ−ブチル蒸発速度が５０以上の溶剤（Ｂ）との混合溶剤を含む感光性樹脂組成物を用い、これを基板上にスリットコーティングし、減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく乾燥し、その後露光、現像することによりレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）感光剤、及び所定の（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】無機物の微細パターンを安定に形成することを可能にするポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、有機成分として少なくともアルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤、およびヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。また、有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、アルカリ可溶基が酸で脱離する基で保護されている樹脂および光酸発生剤、またはアルカリ可溶基がアルカリで脱離する基で保護されている樹脂および光塩基発生剤を含み、さらにヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）

【課題】高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有し、かつ角のないパターン形状を形成可能な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供すること。
【解決手段】以下の：
（Ａ）アルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部、
（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、及び
（Ｃ）置換基を有していてもよいベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環からなる化合物であって、そのα位に、ＯＨ基と少なくとも一つの電子供与基とを有し、かつ、ＯＨ基をその分子内に1つのみ有する化合物１〜３０質量部、
を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 １０μｍ以上の厚膜でも均一性の高い感光性樹脂膜を形成でき、解像性、密着性、アルカリ現像液に対する充分な現像速度、メッキ液耐性に優れ、メッキ工程中の感光性樹脂膜のクラック発生や欠けも低減でき、剥離性に優れるバンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適するポジ型感光性樹脂組成物及びこれらを用いたバンプの製造方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）炭素数４〜１００の不飽和炭化水素基を有する化合物で変性されたフェノール樹脂、（Ｃ）光により酸を生成する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分の含有量が、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分の総量に対して５〜５０質量％であるポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）主鎖にベンゾオキサザールなどのベンゾアゾール骨格を有し、尚且つ分子鎖にＯＲ基（但し、Ｒは酸の作用で分解し、水素に変換し得る一価の有機基である）を含有するポリイミドと、光酸発生剤とを含有することを特徴とするポジ型感光性ポリイミド組成物。 （もっと読む）

【課題】耐アルカリ溶剤性を持つ硬化膜を作成する事が出来るポジ型感光性組成物を提供する。また、本発明の別の目的は、上記のポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】（ａ）珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、および（ｃ）溶剤を含有し、さらに（ｄ）下記一般式（１）で表されるイソシアヌレート基を有する化合物、もしくは（ｅ）イソシアヌレート基を有して珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素、または置換、無置換の炭素数１〜１０価の基を表す。） （もっと読む）

【課題】 微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）主鎖にベンゾオキサザールなどのベンゾアゾール骨格を有し、且つ主鎖及び側鎖の少なくとも何れかにフェノール性水酸基を含有する特定の骨格を有する有機溶剤可溶性のポリイミド樹脂と、（ｂ）活性光線照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体素子及び電子・電気回路に悪影響を及ぼす塩化物や低分子化合物等を含有せず、安価に製造でき、それより得られる膜は電気絶縁性、耐熱性、機械的強度等に優れ、且つ高解像度のパターンが形成可能であり、特に半導体又はプリント基板等の回路基板の保護膜又は絶縁膜として有用な硬化膜を形成し得る、ポリヒドロキシウレア樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される構造単位を含み、重量平均分子量が３，０００乃至２００，０００である少なくとも１種ポリヒドロキシウレア樹脂と、（Ｂ）光により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


（式中、Ｘは２価の脂肪族基、脂環式基又は芳香族基を表し、Ｙは少なくとも１つのヒドロキシ基で置換された芳香族基を含む２価の有機基を表し、Ｒａ〜Ｒｄは夫々独立して水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表す。） （もっと読む）