【課題】レジストの解像度を損うことなく、レジストの感度を向上させることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレジスト組成物は、金属塩、樹脂、及び溶剤を含むことを特徴とする。金属塩がアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩のいずれかである態様、金属塩がセシウム塩である態様、金属塩の含有量が、樹脂に対し、５質量％〜５０質量％である態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】半導体素子及び電子・電気回路に悪影響を及ぼす塩化物や低分子化合物等を含有せず、安価に製造でき、それより得られる膜は電気絶縁性、耐熱性、機械的強度等に優れ、且つ高解像度のパターンが形成可能であり、特に半導体又はプリント基板等の回路基板の保護膜又は絶縁膜として有用な硬化膜を形成し得る、ポリヒドロキシウレア樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される構造単位を含み、重量平均分子量が３，０００乃至２００，０００である少なくとも１種ポリヒドロキシウレア樹脂と、（Ｂ）光により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


（式中、Ｘは２価の脂肪族基、脂環式基又は芳香族基を表し、Ｙは少なくとも１つのヒドロキシ基で置換された芳香族基を含む２価の有機基を表し、Ｒａ〜Ｒｄは夫々独立して水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】記録感度に優れ、ホログラム記録波長に対する光透過率の高いホログラム光記録媒体並びに、該ホログラム光記録媒体の記録層形成に用いるホログラム記録層形成用組成物およびホログラム記録材料の提供。
【解決手段】下記式Ｉで表されるホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料、およびこれらを含む記録層を備えることを特徴とするホログラム光記録媒体。


（式中、Ｘは単結合、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換基を有しても良いアルケニレン基−（ＣＨ=ＣＨ）ｎ―、置換基を有しても良いアルキニレン基―(Ｃ≡Ｃ)ｎ−、及びこれらの組み合わせ（ｎは１〜５の整数を表す。）からなる群から選ばれる２価の基であり、Ｒ^１は芳香環及び／またはヘテロ芳香環を含む1価の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】ガラス転移温度等耐熱性、並びに現像性、感度、及び解像度といった感光性に優れた効果を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリエーテルスルホン１００質量部に対して、（Ｂ）酸触媒の存在下、架橋反応を起こすＣＨ_２ＯＲ基（ここで、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）を有する架橋剤２〜４０質量部、（Ｃ）ナフタレン核またはアントラセン核を有する光酸発生剤２〜２０質量部、および（Ｄ）溶媒１００〜４０００質量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】製膜条件によらず、安定して優れた撥液性を示す撥液性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシエステル化合物と、多塩基性カルボン酸またはその無水物とを、反応させることにより得られる、縮環構造含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）と、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）とを含む撥液性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】長期保存安定性、現像速度及び感光性に優れ、さらに、光照射及び／または焼成によって硬化した後の塗膜が、耐熱性、基板との密着性、硬度、耐溶剤性、耐アルカリ性、複屈折性に優れた、カラーフィルタ等を形成するための感光性組成物に好適な熱硬化性樹脂を提供すること。
【解決手段】メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させてなり、重量平均分子量が２５００以上である熱硬化性樹脂、メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させてなり、二重結合当量が１００〜２０００である熱硬化性樹脂、メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物と酸無水物とを反応させてなり、固形分酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である熱硬化性樹脂、メラミン樹脂と酸無水物とを反応させてなり、固形分酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である熱硬化性樹脂。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成すること、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材上にパターン状に形成された光触媒含有層２とを有する光触媒含有層側基板３と、光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層５を有するパターン形成体用基板６とを、所定の方向からエネルギーを照射することにより、特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属ペーストを塗布することにより、パターン状に金属ペーストを付着させる金属ペースト塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属ペーストを固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、現像性が良好な硬化性組成物、さらに、顔料を含む場合であっても、顔料の分散性、分散安定性に優れ、且つ、現像性が良好でパターン形成性に優れた硬化性組成物、それにより形成された着色領域を有するカラーフィルタ、その製造方法、並びに該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）窒素原子を含んで構成される主鎖部とオキシアルキレン基を含む側鎖部とを有する樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、及び、（Ｄ）溶剤、を含有する硬化性組成物。さらに、着色剤として、（Ｅ）顔料を含有することで、カラーフィルタ形成用の着色硬化性組成物となる。 （もっと読む）

【課題】信号記録後の回折効率等の強度変動を抑え、安定して高いＳ／Ｎ比を発現する、安定性・信頼性に優れる体積ホログラム光記録媒体等を提供する。
【解決手段】記録層中に、テルペノイド骨格を有する化合物（Ａ１）と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ２）と、少なくとも２個の二重結合を有し且つ当該二重結合のうち２個の二重結合の位置が相対的１，４位に存する環状もしくは非環状化合物（Ａ３）と、から選ばれる少なくとも１つの化合物を含む体積ホログラム光記録媒体。但し、式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、炭素数１〜２０の有機基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２は、これらが結合された環構造でも良い。
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【課題】低線熱膨張係数を有するエステル基含有ポリ（イミド−アゾメチン）共重合体及びその製造方法、その前駆体であるエステル基含有ポリ（アミド酸−アゾメチン）共重合体とその共重合体と感光剤とからなるポジ型感光性組成物、この組成物からエステル基含有ポリ（イミド−アゾメチン）共重合体の微細パターンを得る微細パターン製造方法および感光剤を含まないエステル基含有ポリ（イミド酸−アゾメチン）共重合体をアルカリエッチングして微細パターンを得る微細パターン製造方法を提供する。
【解決手段】 エステル基含有ポリ（イミド−アゾメチン）共重合体は、式（１）のエステル基含有アゾメチン重合単位及び式（２）のイミド重合単位


（Ｄはエステル基を含有している。）からなる。 （もっと読む）

アブレーション機構ではなく透過性を変化させることで、平板印刷プレートのイメージング層の選択的な除去を促進し、それによってアブレーションが起こるエネルギーレベルを付与する必要のない低出力レーザを用いたイメージングを可能とする。 （もっと読む）

【課題】 配線の保護膜、絶縁膜等、プリント配線基板、半導体等の分野において好適に用いられ、十分な膜厚を有し、優れた耐薬品性、表面硬度、又は耐熱性を発現する永久パターン及び該永久パターンの形成方法の提供。
【解決手段】 基材上に最終的に形成される永久パターンにおける硬化膜厚の１．２〜３．０倍の乾燥膜厚となるように前記基材の表面に感光性組成物を塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像する永久パターン形成方法である。該感光性組成物が、アルカリ可溶性バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む液状の感光性組成物である態様、該感光性組成物が、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して０．１〜１．２当量の１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を少なくとも含む液状の感光性組成物である態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 現像時のマージンが長く、さらに残渣の発生が少ないといった現像性に優れたカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 顔料、顔料分散剤、有機溶剤、皮膜形成樹脂、光重合性化合物および光重合開始剤を主成分とするカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物において、さらに上記有機溶剤に溶解可能なケトン樹脂を含有することを特徴とするカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像ラチチュードが広く、且つ耐薬品性に優れた、赤外線レーザ用のポジ型平版印刷版原版として有用な画像記録材料を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）ＨＬＢ１０未満の界面活性剤、（Ｂ）ＨＬＢ１０以上の界面活性剤、（Ｃ）少なくとも２種のアルカリ可溶性樹脂、及び（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有し、前記アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種が分散相を形成していることを特徴とする画像記録材料。 （もっと読む）

本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）芳香環とアルキレン基と酸素原子とからなる主鎖にグリシジルオキシ基が結合した構造のエポキシ化合物と、二重結合及びカルボキシル基を有する不飽和カルボキシル化合物と、の反応物に酸無水物を反応させてなる、炭素−炭素二重結合及びカルボキシル基を有するポリマーと、（Ｂ）光重合性モノマーと、（Ｃ）光ラジカル重合開始剤と、（Ｄ）前記ポリマー及び／又は前記光重合性モノマーの官能基と反応性を有する硬化剤と、を含むことを特徴とするものである。この感光性樹脂組成物により、解像度、密着性、耐ＰＣＴ性、耐電食性、耐熱性及び耐熱衝撃性の特性に優れるソルダーレジストの形成が可能となる。
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【課題】 ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線，Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも利用できる感放射線性レジスト組成物を提供する。簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（1）で表される化学構造式で表されることを特徴とするレジスト化合物を一種以上と、可視光線、紫外線、極端紫外線，エキシマレーザー、電子線、Ｘ線およびイオンビームから選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤を一種以上含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも利用でき、簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるレジスト化合物を一種以上と、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、Ｘ線およびイオンビームから選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤を一種以上含む。


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（ｉ）ポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分を含む溶液を基板上に成膜して層を形成する工程、および（ｉｉ）不溶性架橋化ポリマーを形成する条件下で工程（ｉ）で形成された層を硬化する工程を備え、架橋部分が溶液中のポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分の繰返し単位のモル総数に対して０．０５から５モル％の範囲の量で工程（ｉ）に存在することを特徴とする、ポリマーデバイスを形成する方法。 （もっと読む）