【課題】２００℃以下の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては密着性や各種耐性に優れた層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、、〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物、並びに〔Ｃ〕特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、現像性が良好な硬化性組成物、さらに、顔料を含む場合であっても、顔料の分散性、分散安定性に優れ、且つ、現像性が良好でパターン形成性に優れた硬化性組成物、それにより形成された着色領域を有するカラーフィルタ、その製造方法、並びに該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）窒素原子を含んで構成される主鎖部とオキシアルキレン基を含む側鎖部とを有する樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、及び、（Ｄ）溶剤、を含有する硬化性組成物。さらに、着色剤として、（Ｅ）顔料を含有することで、カラーフィルタ形成用の着色硬化性組成物となる。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラチチュード、パターン形状が良好であり、且つ、二重露光において、露光ラチチュード、パターン形状が良好である、ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位（Ｂｂ）を有する樹脂及び（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）と、アルカリ難溶性の含フッ素樹脂成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物；当該ネガ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】１，０００Ｊ/ｍ^２以下の露光量でも十分な残膜率が得られ、２００℃未満のポストベーク温度においても、密着性、ラビング耐性に優れ、さらに高い弾性回復率を有する表示素子用スペーサーまたは保護膜を形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）前記（ａ１）以外の不飽和化合物の共重合体、〔Ｂ〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、〔Ｃ〕感放射線性ラジカル発生剤、並びに〔Ｄ〕特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 （もっと読む）

【課題】通常露光、液浸露光、二重露光において、感度、パターン形状が良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定構造の非酸脱離性炭化水素基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物
を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、および密着性に優れ、ドライフィルム保存時の脱色が起こらず、アルカリ性水溶液によって、現像しうる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、（ｄ）塩基性染料：０．００１〜０．３質量％及び、（ｅ）下記式（Ｉ）で表される少なくとも一種の化合物：０．０１〜０．８質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、これらは同一であっても相違してもよい。） （もっと読む）

【課題】フッ素含有基を含まない、耐酸化アッシング性に優れた、高感度、高解像度を有するポジ型感光性樹脂組成物と、それに用いられる耐熱性樹脂前駆体組成物およびその原料であるジアミン化合物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるジアミン化合物。
【化１】


（一般式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は同じでも異なってもよく、炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｐおよびｑは０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】解像度と感度に優れたポジ型レジスト組成物に好適な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】５−ヒドロキシ−３−オキサ−２−チア−トリシクロノナンとアクリル酸よりなるアクリル酸エステル（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、前記高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）カルボニル基若しくはスルホニル基とカルボン酸エステル構造とを有する、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の液浸露光用レジスト組成物は、レジストの基材樹脂の他に、シリコン含有側鎖を有し、酸によりアルカリ可溶性に変化する樹脂を含有するものであって、全樹脂中のシリコン含有量が１質量％以下である。本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】被膜形成性、アルカリ現像性に優れ、現像後の現像液中で現像カスを発生しない、ネガ型平版印刷版原版の感光層に好適な重合性組成物、それ含む感光層を備えてなる平版印刷版原版、及び、重合性組成物に好適なアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に、一般式（Ｉ）で表される側鎖構造および一般式（ＩＩ）で表される側鎖構造を有するアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、（Ｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、及び、（Ｃ）光又は熱重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。一般式（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｕはポリウレタン主鎖骨格を表し、Ｌ^３は連結基を表し、Ｌ^６は単結合又は連結基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。Ｐは、アルカリ加水分解により酸基となりうる官能基を表す。ただし、Ｌ^６が連結基を表す場合、連結基の主骨格を構成する原子数は１以上６以下である。
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【課題】多層フォトレジストプロセスのための熱可塑性ポリエステル抗反射コーティングを提供する。
【解決手段】高い光学密度、迅速なプラズマエッチ速度、好ましい溶媒における高い溶解性、優秀な像被覆面積、および改良された溶媒中安定性を示す、熱硬化性下層適用性ポリマー抗反射コーティングについて記載する。これらの新規反射コーティングの主成分は、二官能性脂肪族カルボン酸の一種もしくはそれ以上と二−および／または三官能性脂肪族第一アルコールの化学量論的過剰量との反応により製造されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸の少なくとも一種が反応性メチレン基（−ＣＨ₂−）を含み得るものであ
る。該樹脂に存在する反応性メチレン基（存在する場合は）および／またはヒドロキシ基の幾つか、または全てに吸光基を結合させることにより、得られたポリエステル樹脂反応生成物を更に変性する。適当な溶媒系で、上記染料が結合したポリエステル樹脂をアミノプラスト架橋剤および酸触媒と組み合わせ、最終抗反射コーティングを形成させる。 （もっと読む）

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、フッ素原子の含有量が５〜４０％である含フッ素樹脂。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）とを含有する感光性樹脂組成物。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトが少ない重合体を提供する。
【解決手段】α−エステル脂環式骨格を有する構成単位（Ａ）と、ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ）、酸脱離性基を有する構成単位（Ｃ）、親水性基を有する構成単位（Ｄ）、ナフタレン骨格を有する構成単位（Ｅ）から選ばれる少なくとも１種を含有する重合体。 （もっと読む）

【解決課題】 走査レーザーに反応せず、高感度でＦＭ小点再現性に優れ、耐刷性や耐溶剤性に優れた感光層が設けられたサーマルネガ版用平版印刷版原版を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｃ）ラジカル重合性開始剤と、（Ｄ）パーフルオロアルケニル基をもつ重合性化合物（Ｉ）及び／または（ＩＩ）に示す重合性化合物を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト組成物に添加する高分子化合物の合成を行う際、重合反応により得られた重合反応生成物混合物を良溶剤と貧溶剤を用いる分液法によって分子量分画を行う分画工程で、分液法による分画操作を２回以上行うと共に、該２回以上の分画操作のいずれか１回以上に、他の回で行った分画操作時に添加する良溶剤とは異なる良溶剤を添加することを特徴とするフォトレジスト組成物用高分子化合物の合成方法。
【効果】本発明によれば、重合反応で得られた高分子化合物の分散度を下げるための分子量分画操作において、過大な高分子化合物のロスを伴うことなく目的を達成することができると共に、それにより得た高分子化合物は、レジスト組成物材料として用いた場合、パターン形成時に、良好な形状のレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】膜厚が均一でムラがなくスリットダイコーター法に好適なスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物溶液を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種と（ａ２）成分（ａ１）と異なる他の不飽和化合物との共重合体、
（Ｂ）重合性不飽和化合物、
（Ｃ）感放射線性ラジカル発生剤、ならびに
（Ｄ）下記式（１）で示される溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


〔式（１）中、Ｒ_１は炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ_２は水素原子もしくは炭素数１〜３のアルキル基である、〕 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性を備えたマイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明にかかるマイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物は、熱架橋基を有する繰返し単位を有する共重合体と、感光剤とを含み、共重合体の質量平均分子量が１０，０００〜３０，０００であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜硬化性を有し、エッチング耐性に優れ、更に、ドライエッチングプロセスによって形成したパターンが折れ曲がり難いため、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能なレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される基、及び芳香族炭化水素基を有する樹脂と、（Ｂ）溶剤と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。


（前記一般式（１）において、ｎは０または１を示し、Ｒ^１は置換されてもよいメチレン基などを示し、Ｒ^２は水素原子などを示す。） （もっと読む）