【課題】レジスト重合体を提供する。
【解決手段】式ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（Ｘ^Ａ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａ）（ＣＨ_２）_ｎａＣＲ^Ａ＝ＣＨＲ^Ａで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含むレジスト重合体（ただし、Ｘ^Ａは水素原子、シアノ基または式−Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａで表される基を示し、Ｚ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲ^Ａは同一であってもよく異なっていてもよい。）。 （もっと読む）

【課題】撥液性とアルカリ溶解性に優れた液浸露光用レジスト保護膜材料の提供。
【解決手段】下式（ａ１）で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位（Ａ１）、好ましくは下式（ａ２）で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位（Ａ２）を含む液浸露光用レジスト保護膜組成物。ただし、Ｚ：式−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ で表される基を１つ以上有する炭素数３から２０の有機基。ｎ：０、１または２。Ｒ：水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲは同一であってもよく異なっていてもよい。
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）（ＣＨ_２）_ｎＣＲ＝ＣＨＲ （ａ１）
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （ａ２） （もっと読む）

【課題】レジスト膜との良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）で示される繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することを特徴とする。
（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又は１価の有機基であり、Ｒ^２は、電子吸引性基を有する１価の有機基である。繰返しにおける複数のＲ^１同士又はＲ^２同士は互いに異なっていてもよい。ａは、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】透明性に優れ輝度の高い画素を形成することができる新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）ヒンダードアミン構造を有するエチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体、（Ｃ）多官能性単量体、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】形成されるスペーサの柔軟性が高く、バンプと同時に形成することが可能であり、高さの異なるスペーサを容易に形成できるポジ型のスペーサ形成用ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ−１）で表される構成単位（ａ１）と、架橋性基を有する構成単位（ａ２）と、を含み、前記構成単位（ａ１）の割合が、４０モル％を超え、かつ質量平均分子量が６００００以上であるアルカリ可溶性樹脂、及びキノンジアジド基含有化合物を含む、質量平均分子量が６００００以上であるポジ型感光性樹脂組成物を用いる。アルカリ可溶性樹脂において、構成単位（ａ１）の割合が、５０モル％〜８０モル％であり、構成単位（ａ２）の割合が、２０モル％〜５０モル％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（ｃ）を２以上含有する樹脂、及び（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成する際の現像性に優れており、さらに形成されたパターン膜の電気絶縁性を高めることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー（Ａ）と、光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも１種の物質（Ｂ）とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物からなる感光性組成物層１を基板２上に形成した後、露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて現像液に不溶にし、次に現像することにより、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および架橋剤成分（Ｃ）を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）は、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物（Ｆ）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性フレキソ印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、大版での高生産性に対応した耐傷性を有し、ｐＨが低い又は疲労した活性の低い現像液に対しての感度、現像ラチテュードに優れ、保存安定性に優れた平版印刷版材料とそれに使用する印刷版材料用樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】下記一般式１で表される化合物を含有することを特徴とする印刷版材料用樹脂組成物。
【化１】
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【課題】顔料分散性に優れた塗膜を形成し得る画像形成用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る画像形成用硬化性組成物は、カルバゾイルアルキレン（メタ）アクリレートを含む単量体成分を共重合してなるポリマー（Ａ）と、ラジカル重合性不飽和化合物（Ｂ）とを含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】ウォーターマーク欠陥やＢｌｏｂ欠陥等を抑制することができる上層膜用組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）及び（２）で表される単位のいずれか、並びにそれ以外の特定の単位を有する重合体（Ａ）を含む重合体と溶剤とを含有する上層膜用組成物。
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【課題】高温における耐熱性に優れるだけでなく耐吸湿性にも優れており、Ｒ．Ｇ．Ｂ．カラーフィルター用カラーレジスト、ブラックマトリクス、カラムスペーサ、絶縁膜、オーバーコートの製造工程でパターン形成が容易なネガティブレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記化１で表されるバインダー樹脂、多価（メタ）アクリルモノマー、光開始剤及び有機溶媒を含むネガティブレジスト組成物。


化１において、Ａは炭素原子数が３〜１０であるエポキシ基で置換された（メタ）アクリル酸エステルモノマーから形成される反復単位、Ｂは特定のマレアミド酸系モノマーから形成される反復単位、Ｃはラジカル重合開始剤で重合が可能なモノマーから形成される反復単位であり、各反復単位の配列順序が任意のランダム共重合体であり、ｘ、ｙ、ｚは、各反復単位のモル比であって、ｘは０.０３〜０.６０、ｙは０.０２〜０.５０及びｚは０.０５〜０.７０である。 （もっと読む）

【課題】ネガ型平版印刷版原版を用いて、水溶性樹脂を含有する水溶液による現像を採用するにあたって、良好な現像性を発揮し、細線再現性に優れ、現像カスの発生を抑制し、さらにＵＶインキ（紫外線硬化インキ）を用いた印刷を行っても細線に挟まれた非画像部が汚れ難く、耐刷性も備えた、平版印刷版の製版方法を提供する。そのように製版された平版印刷版を用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、マレイミド由来の環状構造及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を含有する光重合層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版を、レーザーで画像様に露光した後、水溶性樹脂を有する水溶液を接触させブラシで擦る現像処理を施して光重合層の未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法；上記のように製版された平版印刷版を、印刷機に取り付け、該平版印刷版に油性インキと水性成分とを供給して印刷する平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、エポキシ基含有ラジカル重合性単量体から誘導される構成単位を含有する樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、エポキシ基含有ラジカル重合性化合物からなる構成単位を含有する前記樹脂を除く。）、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】ネガ型平版印刷版原版を用いて、水溶性樹脂を含有する水溶液による現像を採用するにあたって、良好な現像性を発揮し、細線再現性に優れ、現像カスの発生を抑制し、さらにＵＶインキ（紫外線硬化インキ）を用いた印刷を行っても細線に挟まれた非画像部が汚れ難く、耐刷性も備えた、平版印刷版の製版方法を提供する。そのように製版された平版印刷版を用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を含有する光重合層を有するネガ型平版印刷版原版を、レーザーで画像様に露光した後、水溶性樹脂を有する水溶液を接触させブラシで擦る現像処理を施して光重合層の未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法；上記のように製版された平版印刷版を、印刷機に取り付け、該平版印刷版に油性インキと水性成分とを供給して印刷する平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】高精細画像の再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】表面粗さ（Ｒａ）が０．４５〜０．６０である親水性支持体上に、側鎖にアリールスルホンアミド基を有するフェニルアクリルアミド単位を有するポリマーと、フェノール樹脂と、赤外線吸収剤とを含む記録層を備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する光酸発生剤及び、そのような光酸発生剤を含有するレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）で示される含フッ素カルバニオン構造を有する酸を発生することを特徴とする化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤を使用することによって、前記課題は解決する。


前記一般式（４）において、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ’は水素原子もしくは炭素数１〜３の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。Ｒとしてはアダマンチル基等が挙げられ、Ａは、カルボニル基等の２価官能基であり、Ｒ_ＦおよびＲ_Ｆ’はそれぞれ独立に炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】優れた感度、パターンプロファイルおよびデフォーカスラチチュードを示すネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】（ａ１）スルホンアミド構造を含む有機基、スルホンイミド構造を含む有機基、ジカルボニルメチレン構造を含む有機基、ナフトール構造を含む有機基、のいずれかのアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位と（ａ２）エポキシ構造を有する繰り返し単位とを含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）分子内にエポキシ構造を２つ以上持つ化合物、および（Ｃ）光酸発生剤、とを含有するネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）