【課題】水現像可能で、現像液のアルカリ濃度の管理が不要であり、また、現像後の廃液の中和処理も不要となる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体、


（式（１）中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ² は炭素数１〜５のアルキル基である。）（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレート、および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらに現像性に優れ、得られたパターン表面に凸凹状の表面荒れがない液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物の共重合体に、ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネートを反応させて得られる重合体ならびに不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と（ａ３）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する不飽和化合物の共重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規な電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル、高分子化合物及びフォトレジスト樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ¹は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示す。Ａは炭素数１〜６のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子又は非結合を示す。）で表される電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板やＳｉＯ₂またはＳｉＮ等の絶縁膜を有する基板をウェットエッチング加工する際のレジスト膜の形成に好適な放射線硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係る放射線硬化性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）下記式（１）で示される化合物、（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物（ただし、化合物（Ｂ）を除く）および（Ｄ）放射線ラジカル重合開始剤を含有する。


〔ｎは２〜４の整数、Ｒ₁は芳香族炭化水素基を１つ以上有するｎ価の有機基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】レジストとしての物性に優れたポジ型レジスト組成物を与えることのできる環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及び／又は下記一般式（１）で表される化合物を下記一般式（２）で表されるジビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる化合物を、下記一般式（３）で表されるモノビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる環状シロキサン化合物である。


ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｒ^２−ＣＨ＝ＣＨ_２ （２）
ＣＨ_２＝ＣＲ^３−（Ｒ^４）_ｈ−Ｔ （３） （もっと読む）

【課題】耐刷性、耐薬品性に優れ、露光におけるアブレーションの発生が抑制される平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）（ａ）下記一般式（１）で表されるモノマーと、（ｂ）メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルメタクリレート、及び、エチルアクリレートから選択されるモノマーと、（ｃ）アクリル酸、メタクリル酸、及び、ビニル安息香酸から選択されるモノマーと、に由来する共重合成分を含むポリマー、及び（Ｂ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有し、露光又は加熱によりアルカリ現像液に対する溶解性が向上するポジ型記録層を有する平版印刷版原版（一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は水素原子、脂肪族基、芳香族環を表し、Ｘは−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−又は−（ＣＨ_２）_ｎを表し、Ｙは−ＮＨ−又は−Ｏ−を表し、ｎは０〜１０の整数を表す。）。
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【課題】優れたリソグラフィー性能と安定性を有し、低温キュアで機械特性、耐熱性、基板密着性に優れた硬化レリーフパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターンの製造方法、および該製造方法により得られた硬化レリーフパターンを含む半導体装置を提供する。
【解決手段】ポリベンゾオキサゾール前駆体、感光剤、及び、オキタセン基を有する化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターンの製造方法、および該製造方法により得られた硬化レリーフパターンを含む半導体装置。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲが改良され、且つレジスト膜形成時のディフェクトが非常に少ない、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、該樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸解離性溶解抑制基を有するモノマーを重合溶媒に溶解し、重合開始剤を用いて重合させることにより、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂を製造する際に、重合開始剤を少なくとも２種用いて重合することを特徴とする、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、（Ａ）その製造方法で製造された、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、かつ、層間絶縁膜、マイクロレンズとして必要な耐熱性、耐溶剤性、透明性、下地との密着性を備えた硬化物を与えうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタンと他のオレフィン系不飽和化合物との共重合体、１，２−キノンジアジド化合物、ならびにエポキシ基含有化合物および／または他のオキセタニル基含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ｕ又はＶは２価の有機基を示し、Ｕ又はＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基である。）で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体と、（ｂ）感光剤と、及び（ｃ）溶剤とを含有する樹脂組成物を課題の感光性樹脂組成物として用いる。 （もっと読む）

【課題】高感度で、かつパターン倒れと良好な露光ラチチュードの両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂として、所定の一般式（ｐＩ）〜（ｐＶ）から選ばれる構造を有する繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ａ１）と、繰り返し単位（ａ１）とは異なる繰り返し単位（ａ２）を有する樹脂（Ａ２）とを有し、さらに、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
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【課題】官能基濃度が高く、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位と、特定の構造を有するアクリル系単量体が重合してなるモノマー単位に由来する単位と、を有する含フッ素共重合体。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂ＣＨ（Ｃ（ＣＦ₃）₂（ＯＲ³））（ＣＨ₂）_nＣＲ¹＝ＣＨＲ²・・（１） （もっと読む）

【課題】樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子含有感光性樹脂組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも一つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）一次粒径が１〜２００ｎｍの金属酸化物を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるとともに、解像度が良好なパターン形成材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、−Ｃ（Ｒ¹）＝Ｎ−Ｏ−で表される部位（Ｒ^１は水素原子または１価の有機基を表す）を少なくとも１つ分子中に有するポリマーを含有する層を設けたパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）はヒドロキシナフタレン（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）を有し、さらに架橋性ポリビニルエーテル化合物（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光により高感度で硬化し、硬化領域では材料表面との密着性が高く、未硬化領域では未硬化部の除去性に優れた良好なパターンを形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】樹脂、エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物及び光重合開始剤を含有する硬化性組成物であって、該樹脂が少なくとも双極子モーメント２．０以上のモノマーを共重合成分として重合した樹脂であることを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式


（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）で示される繰り返し単位と縮合多環式炭化水素基のかわりに脂肪族炭化水素基を有する繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、耐現像性に優れた強固な被膜を形成し、赤外線露光により速やかに耐現像性が解除され、赤外線露光におけるアブレーションの発生が抑制された赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）（ａ）一般式（１）で表されるモノマーと、（ｂ）メチル（メタ）アクリレート類から選択されるモノマーと、（ｃ）（メタ）アクリル酸、及び、ビニル安息香酸から選択されるモノマーと、（ｄ）Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等から選択されるモノマーと、を共重合成分として含むポリマー、及び（Ｂ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層を有する。一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、アルキレン基を表す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基を表す。
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【課題】ＬＥＲ、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有し、リビングラジカル重合で製造されたことを特徴とする、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。式中、Ｘ_ａ１は水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。Ｒは単環の脂環基を含有する酸分解性基を表す。

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【課題】大型基板上への塗布に適しており、塗布均一度が向上する他、スジムラやモヤムラなどのムラの発生を防ぐと共に、スピンレスコートにより塗布速度が高速になり、しかも、最終品の品質を高めることのできる感光性有機物を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン樹脂の混合高分子樹脂と、感光性化合物と、有機溶媒とを有する。 （もっと読む）