【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素の表面平滑性および輝度・色純度に優れた色域再現性の良いカラーフィルターの製造に使用できるカラーフィルター用感光性着色組成物を提供すること。
【解決手段】バインダーポリマー、多官能エチレン性不飽和モノマー、光重合開始剤、および着色剤を有機溶媒中に少なくとも含有してなり、上記のバインダーポリマーが、構成成分として、エポキシ基とエチレン性不飽和基を有するモノマーおよび／またはオキセタニル基とエチレン性不飽和基を有するモノマー（モノマーＡ）と、脂環式（メタ）アクリル酸エステル（モノマーＢ）とを少なくとも含むコポリマーを含有することを特徴とするカラーフィルター用の感光性着色組成物。 （もっと読む）

【課題】水または水性の現像液による現像性に優れ良好な膜強度を有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】光重合開始剤、重合性化合物、並びにグラフト部位および／またはブロック部位を有するポリマーを少なくとも１種含有する感光性樹脂組成物であって、
該グラフト部位およびブロック部位が、水素受容性および水素供与性のいずれかの機能を有する部位であり、
該ポリマーとして、水素受容性の部位と水素供与性の部位とを有するポリマーを含有するか、水素受容性の部位を有するポリマー及び水素供与性の部位を有するポリマーを含有するかの、少なくともいずれかを含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い分岐度を維持したまま目的とする分子量を有するハイパーブランチポリマーを安定的に得ること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、下記（１）または（２）の少なくとも一方をおこなうようにした。
（１）Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される化合物の少なくとも一種類を添加する。
ただし、上記化合物中、Ｒ₁は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基、Ａはシアノ基、水酸基またはニトロ基、Ｒ₂およびＲ₃は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、Ｂはカルボニル基またはスルホニル基をあらわす。
（２）反応系に対するモノマーの１回当たりの混合量を、当該反応系に混合するモノマーの全量未満とする。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザーを用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印刷版原版、特に、ｐＨ１０以下の水溶液や印刷機上において現像可能な高感度、高耐刷の簡易処理型平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、双極子モーメントが３．８デバイ以上の官能基を有し、且つ、酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下であるバインダーポリマー、ラジカル重合性化合物、及びラジカル重合開始剤を含有する感光層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】除去性に優れた半導体装置に用いられる有機平坦化材料を提供する。
【解決手段】光および／または熱処理（前処理）により、有機溶剤および／またはアルカリ水溶液に不溶となり、さらに光および／または熱処理（後処理）後、ドライエッチング処理する組成物に関し、前記後処理後のエッチングレートが、前記前処理後のエッチングレートに対し、１．２倍以上であり、該組成物が下記（ａ）および／または（ｂ）を含有することを特徴とする半導体装置用組成物。
（ａ）２３℃大気圧下で液体である有機低分子化合物に可溶性のポリマー
（ｂ）重合性基および／または架橋性基を有する低分子化合物 （もっと読む）

【課題】加熱工程の際に顔料の結晶析出のない高耐熱性でかつ微細化された非水系顔料分散組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、顔料（Ａ）、非水系溶媒（Ｂ）、並びに下記の主鎖とグラフト鎖とを有するポリマー（Ｃ）を含有する非水系顔料分散組成物である。
主鎖：溶解度パラメーター〔ＳＰ値（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2〕が１０．０以下であるモノマー由来の構成単位（ｃ３）を含むポリマー鎖
グラフト鎖：窒素原子を含有する重合体由来の構成単位（ｃ１）を含むポリマー鎖、及び窒素原子を含有しない重合体由来の構成単位（ｃ２）を含むポリマー鎖 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基および／またはオキセタニル基含有不飽和化合物、および（ａ３）（ａ１）成分および（ａ２）成分以外の不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、ならびに［Ｃ］［Ａ］成分と熱により架橋反応する官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、重合溶媒として、窒素原子を有する溶媒を単独で又は混合して用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジストパターンのサイドウォールのガタツキや表面の凹みがなく高解像、高密着であり、硬化膜柔軟性、テンティング性、耐メッキ性、剥離性、保存安定性、凝集性に優れる感光性樹脂積層体を提供すること、および、該感光性樹脂積層体を用いたレジストパターンの形成方法ならびに導体パターンの形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に、少なくとも、膜厚が０．１μｍ以上１０μｍ以下の中間層と、感光性樹脂層とを順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、該中間層が、ポリビニルアルコール、及びオレフィンを１〜２０モル％共重合したポリビニルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも一種のポリビニルアルコールを含み、該感光性樹脂層が、バインダー用樹脂、光重合可能な不飽和化合物、光重合開始剤を含み、該光重合可能な不飽和化合物が特定の化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が乏しくても、カバーフィルムの粘着力により、感放射線性樹脂組成物とカバーフィルムの密着性が良好であり、また容易にカバーフィルムを剥離できるドライフィルムレジストを提供すること。
【解決手段】ベースフィルム上に厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層を有する積層フィルムと、フィルム上に自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとが、感放射線性樹脂組成物層と自己粘着性樹脂層とが直接接触するように積層されているドライフィルム。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の親水性基を有する構成単位（Ｄ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高膜厚を有し、かつ低散乱性および高透明性であり、さらに記録信頼性の高い、体積ホログラム記録媒体を提供する製造方法を提供すること。
【解決手段】マトリックス前駆体（ａ）、マトリックス前駆体反応性化合物（ｂ）、光ラジカル重合性化合物（ｃ）、光ラジカル重合開始剤系（ｄ）、ならびに、無機ナノ粒子および有機溶媒を含む無機ナノ粒子分散液（ｅ）を混合する混合工程；得られた混合物から、有機溶媒を除去する、脱溶媒工程；脱溶媒された混合物を、区画形成され所定の深さを有する空間中に注入する、注入工程；およびこの空間中の混合物を加熱してマトリックス前駆体（ａ）およびマトリックス前駆体反応性化合物（ｂ）を反応させる、マトリックス形成工程；を包含する、体積ホログラム記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトｇ少なく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ限界以上のピッチを有する微細パターンを形成することができる方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の微細パターン形成方法に関し、被食刻層が形成された半導体基板上に第１フォトレジスト組成物を塗布して第１フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第１フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って第１フォトレジストパターンを形成する段階と、前記結果物上に前記第１フォトレジストパターンと非反応性の第２フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第２フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って前記第１フォトレジストパターンの間に第２フォトレジストパターンを形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。また、移動度の高い高性能の有機ＴＦＴと、高精度で生産効率の高い有機ＴＦＴの製造方法を提供することにある。
【解決手段】酸の存在下で分解する保護基を分子内に有することを特徴とする表面処理材料。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィーを中心としたナノファブリケションのためのポリマー素材として利用可能な、表面平滑性及びアルカリ可溶性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、モノマーとラジカル重合を開始させる開始剤とラジカル重合の進行を抑制するラジカル捕捉剤とが存在する反応系において、ラジカル重合をおこなうようにした。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を示し、かつ、優れたラインエッジラフネスを与える化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるオニウム塩と、式（ＩＩ）で表されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
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【課題】透明性、耐熱性、耐熱変色性、基板への密着性及び電気特性に優れ、現像性、保存安定性の良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の［Ａ］及び［Ｂ］を含む感性樹脂組成物である。［Ａ］少なくとも（ａ１）４位に３級アルキル基を有するシクロヘキサノールの（メタ）アクリル酸エステル化合物、及び（ａ２）酸性基含有不飽和化合物とを含む共重合体、［Ｂ］キノンジアジド基含有化合物。 （もっと読む）