【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１２）で表される化合物。
Ｒ^２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｙ^１−ＳＯ_３⁻ Ａ^＋ ・・・ （ｂ１−１２）
［式中、Ｒ^２は１価の芳香族有機基であり；Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］ （もっと読む）

【課題】膜硬化性を有し、エッチング耐性に優れ、更に、ドライエッチングプロセスによって形成したパターンが折れ曲がり難いため、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能なレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される基、及び芳香族炭化水素基を有する樹脂と、（Ｂ）溶剤と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。


（前記一般式（１）において、ｎは０または１を示し、Ｒ^１は置換されてもよいメチレン基などを示し、Ｒ^２は水素原子などを示す。） （もっと読む）

【課題】 印刷不良を生じずかつ解像度に優れた印刷版を製造できるレーザー彫刻用印刷原版の原料となる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（A）水分散ラッテクスから得られる疎水性重合体、（Ｂ）光重合性化合物、（C）光重合開始剤および（Ｄ）数平均分子量が１０００〜３００００の架橋基をもたない共役ジエン重合体を含有することを特徴とする、レーザー彫刻可能な印刷原版用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、レジスト膜の、水に対する接触角が７５°以上であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用及び／又は１３０℃〜２５０℃の熱によって分解可能な結合を有する不飽和二重結合含有化合物からなる構成単位を含むラジカル重合性ポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー露光により効率よく画像を形成することができ、耐刷性と、着肉性および機上現像性に優れる平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】層状化合物を保護層に含有し、かつ、繰り返し単位として式（Ｉ）および式（II）の構造を含むポリマーを画像記録層および保護層の少なくともどちらかに含有することを特徴とする平版印刷版原版。
【化１】


（式（II）中、Ｒ^１は水素原子等を、Ｒ^２はアルキル基等を表し、Ｒ^３は水素原子等を、ｎは１または２を表す。） （もっと読む）

【課題】２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、
［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、ならびに
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】成膜した際の基板との密着性に優れ、高膜厚、高アスペクト比の微細な樹脂パターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物に密着増強剤としてジフェニルスルホン又はその誘導体を含有させる。ジフェニルスルホン誘導体としては、ジフェニルスルホンの１以上の水素原子がアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、フッ素原子、塩素原子、又は酸無水物で置換されたものが好ましい。その中でも、ジフェニルスルホンの３，３’位及び／又は４，４’位の水素原子がアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、フッ素原子、塩素原子、又は酸無水物で置換されたものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塗布ムラ、乾燥ムラ、乾燥付着物や突沸孔が発生しにくく基材面内の色度均一性に優れる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】マレイミド系共重合樹脂、光重合性モノマー、顔料、分散剤、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物であって、該溶剤が大気圧の沸点として１００℃以上かつ１６５℃未満である溶剤Ａ及び大気圧の沸点として１６５℃以上かつ２００℃以下である溶剤Ｂからなることを特徴とする感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜または液浸上層膜に対する撥油性が高く、スキャン露光時に液残りによる欠陥等の問題がなく、液浸露光用液体として用いた場合に好適なパターンを形成できる液浸露光用液体を提供する。
【解決手段】投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられ、波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．８の範囲にあり、上記基板上に形成されるフォトレジスト膜またはこのフォトレジスト膜上に形成される液浸上層膜に対する接触角が６０°〜８５°を示す脂環式飽和炭化水素化合物である。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法において有用である、除去可能な撥液性層を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】パーフルオロアルキル基含有重合性不飽和モノマーと他の重合性不飽和モノマーとを共重合することにより得られる、酸価２０〜２００であるパーフルオロアルキル基含有樹脂（Ａ）；および ジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）；を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、感放射線性樹脂組成物に使用する高分子樹脂組成物において、経時変化に伴うカルボキシル基とエポキシ基との架橋反応による分子量変化が起き、露光現像により得られる微細パターン、およびその諸特性の劣化が起こることにある。
【解決手段】（Ａ１）分子中に不飽和炭化水素とエポキシ基を有する特定のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル化合物と、（Ａ２）分子中に不飽和炭化水素を有するカルボン酸化合物と、（Ａ３）分子中に不飽和炭化水素を有する化合物を、含有することを特徴とする高分子樹脂組成物。及び、その高分子樹脂組成物を使用して感放射線性樹脂組成物を得ること。 （もっと読む）

【課題】高感度で、現像性、保存安定性が良好であり、さらに耐熱性の高い硬化膜を形成できる感光性組成物、及び該硬化膜を含む表示素子を提供する。
【解決手段】Ｎ−置換マレイミドとカルボキシ含有ラジカル重合性モノマーとを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ａ）、Ｎ−置換マレイミドと熱架橋性官能基含有ラジカル重合性モノマーを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、二つ以上のラジカル重合性二重結合を有するラジカル重合性化合物（Ｄ）を含有する感光性組成物、この組成物を用いて製造された硬化膜、カラーフィルター用保護膜及び表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、しかもパターンの精度が高い導電性回路を簡便に形成できる導電性回路の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性回路の形成方法は、基材上に導電性高分子溶液を塗布して導電性塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記導電性塗膜をパターン露光した後、現像液を用いて現像して導電性回路を形成する回路形成工程とを有し、導電性高分子溶液が、π共役系導電性高分子と水溶性ポリアニオンと水溶性アクリル化合物と非水溶性アクリル化合物と溶媒とを含み、非水溶性アクリル化合物が、導電性高分子溶液中の全アクリル化合物１００質量％に対して４．２〜６６．６質量％であり、導電性高分子溶液中の全アクリル化合物の質量が、π共役系導電性高分子と水溶性ポリアニオンの合計に対して１．７〜１６．６倍であり、現像液が、水及び／又は水溶性溶媒を含む液である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】レジスト組成物用酸発生剤として、下式の化合物（式中、Ｒ^４０はハロゲン原子、特にフッ素原子；Ｒ^４１〜Ｒ^４３はアルキル基等；ｎ_０は１〜５；ｎ_１〜ｎ_３は０等；Ｘ⁻は１価の有機アニオン）。
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【課題】 ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、アルカリ現像液で十分な解像性が得られ、ＰＣＴ試験での表面の変色及び配線板上の銅と樹脂との界面でのふくれがなく、且つ、ブリードアウトの問題が十分に低減されたリン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成に於いても、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、アルコキシカルボニル基で置換された３級エステル基を有する繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、定在波の残存、パターンプロファイルを同時に満たす良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】
２４８ｎｍに吸収を有する基を主鎖末端に有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】グラフトポリマーを高感度で生成しうる積層体、及び該積層体を用い、高感度でグラフト膜又はグラフトパターンを形成する方法を提供することにある。
【解決手段】基材と、ラジカル重合開始部位と該基材に直接化学結合可能な部位とを有する化合物が前記基材に化学結合してなる重合開始層と、ラジカル重合可能な不飽和部位を有する化合物、及び、加熱又は露光によりラジカルを発生しうる化合物を含有するグラフトポリマー前駆体層と、をこの順に有することを特徴とする積層体、該積層体に対し、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長の全面露光又は像様露光を行い、前記ラジカル重合可能な不飽和部位有するポリマーを前記重合開始層表面に直接結合してグラフトポリマーを生成させることを特徴とするグラフト膜形成方法、グラフトパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】粘度が安定でかつ濾過詰まりしにくいカラーフィルタ用赤色着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供をする。
【解決手段】顔料、樹脂、モノマー、光重合開始剤および溶剤を含有するカラーフィルタ用赤色着色組成物であって、該顔料がC.I Pigment Red 48:1、48:2、48:3、48:4、48:5から選択される少なくとも１種の顔料を含み、該溶剤が溶剤の全量100重量部に対して70重量部以上のエステル系溶剤を含み、該樹脂が下記一般式（１）で表される化合物と他のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物とを共重合してなる共重合体樹脂Ａを含む。
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