【課題】
水性塩基現像液に優れた溶解反応を示すポリマーを含むネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
以下の２つの化学式のうちの１つを有する少なくとも１種のフルオロスルホンアミド・モノマー単位を有するポリマーを含むネガ型レジスト組成物である
【化１】


ここで化学式中、Ｍは、重合可能な骨格部分であり、Ｚは、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−またはアルキルからなる群から選択される連結部分であり、Ｐは、０または１であり、Ｒ_１は、炭素数が１〜２０個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、Ｒ_２は、水素、フッ素、炭素数が１〜６個の直鎖または分岐鎖アルキル基、または一部もしくは全てがフッ素化された炭素数が１〜６個の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、ｎは、１〜６の整数である。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性アクリルポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性ポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

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(a)随時選択的に前処理された基板、
(b)(i)ノボラック樹脂、官能化ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ポリビニルクレゾール、およびフェノール性および／またはスルホンアミド側鎖を有するポリ（メタ）アクリレートから選択される水性アルカリ性現像剤中に可溶性の、少なくとも40重量％（塗膜の乾燥重量に基づく）の少なくとも1種のポリマー、
(ii)水性アルカリ性現像剤に不溶性の0.1〜20重量％（塗膜の乾燥重量に基づく）の少なくとも1種の(C₄〜C₂₀アルキル)フェノールノボラック樹脂、および
(iii)650〜1,300nmの範囲の波長の輻射線を吸収することができ、これを熱に変換できる物質、プリントアウト色素、可塑剤、界面活性剤、無機充填剤、抗酸化剤、コントラスト色素および顔料、ポリマー粒子、およびセルロースポリマーのカルボン酸誘導体から選択される、随時選択的な少なくとも1種のさらなる成分
を含むポジ型塗膜を含んでなる感熱性要素。 （もっと読む）

本発明は、リビングフリーラジカル重合技法によるフォトレジストポリマーの調製に関する。立体的にかさ高いエステルモノマーは、重合成分として利用される。連鎖移動剤の使用は重合処理条件に含まれる。ヘテロ原子を含むポリマー末端基の開裂について述べる。本発明のフォトレジスト組成物は、光酸発生剤と、式［Ａ］_ｘ［Ｂ］_ｙ［Ｃ］_ｚ（式中、Ａ、ＢおよびＣはそれぞれ個別に以下の構造の１つであり、式中、Ｂ≠Ｃという条件で、ｘは両方の数値を含めて約０〜約２００であり、ｙは両方の数値を含めて約１〜約２００、ｚは両方の数値を含めて約１〜約２００である）を含むポリマー樹脂を含む。
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本発明は、電子（又は陽電子）捕獲解離を実行可能な質量分析器、タンデム質量分析法を実行する方法、電子捕獲解離を実行する方法、及び陽電子捕獲解離を実行する方法に関する。一実施形態においては、電子捕獲解離又は陽電子捕獲解離を実行可能な質量分析器が提供され、質量分析器は、第１の質量分析器と、第１の質量分析器の下流側の磁気トラップと、磁気トラップの下流側の第２の質量分析器と、磁気トラップに電子又は陽電子が供給されるように配置された電子源又は陽電子源とを具備する。
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高い酸強度、低揮発性および低拡散率を有する光酸を提供する、光活性部分と過フッ素化多官能性アニオン部分（または初期アニオン部分）とを含む光酸発生剤（ＰＡＧ）が開示される。本発明はさらに、マイクロリソグラフィのためのフォトレジストおよび光重合などの用途のための光開始または酸触媒方法において用いられるような光酸発生剤に関する。 （もっと読む）

本発明は、深紫外線領域の放射線に感度を示す新規のフォトレジスト組成物、特に１００〜３００ｎｍの範囲に感度を示すポジ型フォトレジスト、並びにそれを使用する方法に関する。このフォトレジスト組成物は、ａ）水性アルカリ性溶液中に不溶性でかつ少なくとも一つの酸感応性基を含むポリマーであって、更に、少なくとも一種の脂環式炭化水素単位、少なくとも一種の環状酸無水物、構造式１を有する少なくとも一種のアクリレート単位、及び構造式２を有する少なくとも一種のアクリレート単位を含む上記ポリマー；


［式中、
Ｒ’及びＲは、独立してＨまたは(C₁-C₄)アルキルであり、
Ｒ₁は、環状ラクトン側鎖基であり、そして
Ｒ₂は、非ラクトン系脂肪族炭化水素側鎖部である］
ｂ）露光時に酸を生成することができる化合物またはこのような化合物の混合物を含む。本発明は更に、バレロラクトンを含む溶剤を感光性材料の溶剤として使用することにも関する。好ましくは、溶剤はガンマバレロラクトンである。この溶剤は、一種または二種以上の他のフォトレジスト溶剤との混合物でもよい。
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本発明は、機上現像可能な印刷版の用途に適した輻射線感受性組成物を提供する。この輻射線感受性組成物は、オニウム塩およびIR線吸収剤を含む開始剤系を含む。この開始剤系は重合可能な材料と、ポリエチレンオキシド・セグメントを含む高分子バインダーと組み合わされている。 （もっと読む）

（ｉ）ポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分を含む溶液を基板上に成膜して層を形成する工程、および（ｉｉ）不溶性架橋化ポリマーを形成する条件下で工程（ｉ）で形成された層を硬化する工程を備え、架橋部分が溶液中のポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分の繰返し単位のモル総数に対して０．０５から５モル％の範囲の量で工程（ｉ）に存在することを特徴とする、ポリマーデバイスを形成する方法。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位および／または一般式（１）で表される構造単位の前駆体よりなる化合物を成分（ａ）として含み、かつ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基より選ばれる少なくとも１つの官能基を有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】




（一般式（１）において、ｎは１〜２の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４はＨ、Ｆ、ＣＦ_３、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５、Ｒ^６はＨ、または炭素数１〜１０のアルキル基のいずれか一つを示し、同じでも異なっていてもよい。Ｒａは置換基を示す。） （もっと読む）

【課題】 半導体装置の表面にさらに微細なパターンを形成することができる微細レジストパターン、微細パターンの形成方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 基板６上に、特定の元素を含む特定のガスに接触して特定の元素と結合し所定のエッチングガスに対する耐性が強化される性質を有するレジスト層９を形成する工程と、レジスト層９に第一の露光１０を行い、第一の露光領域９ｂと第一の非露光領域９ａとを形成する工程と、第一の露光領域９ｂに対して第二の露光１１を行い、第二の露光領域９ｃと第三の露光領域９ｄとを形成する工程と、レジスト層９を特定のガスにさらして第三の露光領域９ｄのみを特定の元素と結合させる工程と、第二の露光領域９ｃと第一の非露光領域９ａとをエッチングにより除去し第三の露光領域９ｅからなるレジストパターンを形成する工程とを備えた。 （もっと読む）