【課題】酸性から中性域で現像可能であり、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層の分散安定性の問題を克服し、現像液補充量、廃液量低減、ランニングコスト、環境面にも有利で耐汚れ性に優れた平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光により露光部の画像記録層を硬化させた後、下記式（Ｉ）で表される化合物および下記式（II）で表される化合物の少なくともいずれかを含有し、ｐＨ２〜１０である水溶液にて現像を行うことを特徴とする。
（Ｉ） Ｃ_ｌＨ_２ｌ＋１−Ｘ
（II） Ｃ_ｎ−ｍＨ_{２（ｎ−ｍ）＋１}ＯＣ_ｍＨ_２ｍ―Ｘ
（式中、ｌ≧８、ｎ≧８、ｎ≧ｍ≧０であり、Ｘはスルホン酸塩、硫酸モノエステル塩、カルボン酸塩または燐酸塩を表す。） （もっと読む）

【課題】酸性から中性域で現像可能であり、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層の分散安定性の問題を克服し、現像液補充量、廃液量低減、ランニングコスト、環境面にも有利で耐汚れ性に優れた平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法の提供。
【解決手段】支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光後、下記式（Ｉ）で表される化合物および下記式（II）で表される化合物の少なくともいずれかを含有し、ｐＨ２〜１０である水溶液にて現像を行うことを特徴とする。
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【課題】十分な難燃性を確保でき、アルカリ現像液で十分な解像性が得られ、十分な伸び率を有する硬化物が得られ、ブリードアウトの問題が十分に低減されたリン含有化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる構造単位を有するリン含有化合物。
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【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する製版方法、およびこの方法に用いる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）３５０〜４５０ｎｍに吸収極大を有する特定の増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）酸価０．３ｍｅｑ／ｇ以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法およびこの方法に用いる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下、露光後に現像する際の最短現像時間が１５〜５０秒間である。前記感光層を、線幅１０〜４０μｍでライン／スペース＝１／１の露光により形成されるラインパターンと、Ｌ／Ｓ＝１／１００の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が５μｍ以下、バインダーのＩ／Ｏ値が、０．５〜０．８、重合性化合物のＩ／Ｏ値が、０．５〜１．５、また、バインダーと重合性化合物との質量比（バインダー／重合性化合物）が、１〜２である。 （もっと読む）

【課題】 近赤外領域の光に感光し、明室で取り扱うことができ、版に直接レーザー光により描画でき、現像や拭き取り操作を不要とすることが可能であり、印刷適性に優れ、著しく露光感度の向上したＣＴＰ用の平版印刷用原版を提供すること。
【解決手段】 支持体上に直接又は下地層を介して親水性樹脂層を有する平版印刷用原版において、該親水性樹脂層が、（ａ）親水性ポリマー、（ｂ）架橋剤、（ｃ）疎水性ポリマー、（ｄ）光熱変換材からなり、該（ｃ）疎水性ポリマーが、アルカリ膨潤性の粒子であり、アルカリ膨潤による動的光散乱法による粒子径の変化が１５０％以上であることを特徴とする平版印刷用原版。 （もっと読む）

【課題】通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュード（ＤＯＦ）を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、および
（Ｄ）溶剤を含有し、
樹脂（Ｃ）が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれか及び脂環構造を有する樹脂（Ｃ１）、及び、側鎖にフッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位及び側鎖に無置換アルキル基を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ｃ２）の少なくともいずれかであることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率変化、柔軟性、高感度、低散乱、耐環境性、耐久性、低収縮性、及び高多重度が達成される、体積型ホログラム記録に適したホログラム記録材料、及びホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも２種の金属、酸素、及び芳香族基を少なくとも有し、且つ２つの芳香族基が１つの金属に直接結合している有機金属単位を有している有機金属化合物と、分子内に１つの重合性官能基を有する単官能化合物（Ａ）を少なくとも含んでいる光重合性化合物とを含むホログラム記録材料。光重合性化合物として、分子内に２つ以上の重合性官能基を有する多官能化合物（Ｂ）とを含んでいてもよい。ホログラム記録材料層２１を有するホログラム記録媒体１１。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性及び密着性が十分に優れた感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供する。
【解決手段】バインダーポリマーと、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、光重合開始剤が下記一般式（２１），（２２），（２３）で表される基を含有するイミダゾール二量体を１種又は２種以上含む、感光性樹脂組成物。
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【課題】解像度が高く、長時間現像を行ってもテント膜強度が維持低下しにくく、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び染料を含み、前記重合性化合物が、分子内に４個以上のウレタン基を有する化合物を含有する。前記分子内に４個以上のウレタン基を有する化合物が、２つ以上のエチレン性重合基を更に有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】青紫色レーザ露光システム中において、高感度で、表面タック性が小さく、剥離性、基板への密着性、保存安定性に優れ、現像後に優れた絶縁性、耐熱性、耐薬品性、表面硬度などを有する硬化膜が得られる感光性ソルダーレジスト組成物及びこれを用いた感光性ソルダーレジストフイルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性光架橋性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、熱硬化促進剤及び着色剤を含有してなる感光性ソルダーレジスト組成物であって、更に、酸価が９０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇで、質量平均分子量が３０，０００〜８０，０００である（メタ）アクリルアミド共重合体（ただし、置換基に自己縮合性基を持つものを除く）を前記アルカリ可溶性光架橋性樹脂の１０〜５０質量％含有する感光性ソルダーレジスト組成物、これを用いた感光性フイルム、永久パターン及びその形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明により、光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なハイパーブランチポリマーを提供する。また、本発明により、スチレン誘導体をリビングラジカル重合反応させて得られるハイパーブランチポリマーの分子末端に酸分解性基を有することを特徴とするハイパーブランチポリマーを提供する。
【解決手段】本発明のハイパーブランチポリマーは、クロロメチルスチレン等のリビングラジカル重合により形成されるコア部に結合した、ｐ-ｔｅｒｔ-ブトキシスチレン等の酸分解性基をポリマー分子末端に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加工精度が高く、かつ深く加工することが可能なガラスエッチング処理方法、及び、その方法に好適に使用される紫外線硬化型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸基含有樹脂、（Ｂ）不飽和化合物、（Ｃ）光開始剤、（Ｄ）不飽和基又はエポキシ基を含有するアルコキシシラン化合物、及び、（Ｅ）無機微粉末を含有するガラスエッチング用紫外線硬化型レジスト組成物；並びに、このレジスト組成物を用いて（１）レジスト膜形成工程、（２）露光工程、（３）現像及び加熱工程、（４）ガラスエッチング工程及び（５）レジスト膜の剥離工程を行なうガラスエッチング処理方法。 （もっと読む）

【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤として特定の化合物：０．１〜２０質量％含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高解像性及び高密着性を発現し、現像後のスソが極めて小であるレジスト形状を有し、良好なエッチング特性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】 （ａ））カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂、（ｂ）光重合性不飽和化合物、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）特定の化合物を含む感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性樹脂積層体を作成する。 （もっと読む）

【課題】高感度を有し、現像性に優れると共に、少ない露光量でも高硬度で画素欠陥の発生が抑えられた先鋭で表面平滑な硬化部（カラーフィルタ）の形成を可能にする。
【解決手段】２官能以上の多官能重合性化合物、光重合開始剤及び着色剤と共に、３官能以上の多価不飽和二重結合を有する共重合単位を含むアクリル系共重合体を含む感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：３〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤としてオフィンダイマー化合物：０．１〜２０質量％、及び、感度向上剤としてピラゾリン化合物：０．１〜２０質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍにおける透過率を制御した組成において、波長４０５ｎｍの波長を有する露光光源に対し十分な感度を示し、かつ解像度及び密着性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる、感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５０００〜５０００００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、および（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有してなる感光性樹脂組成物であって、かつ、該感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥して得られた感光性樹脂層の４０５ｎｍにおける透過率が、膜厚４０μm換算で、１５〜４０％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像性、硬化膜のテント性、密着性に優れ、かつエッチング時の剥離性、解像性にも優れ、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、前記バインダーが、ウレタン基を含有するバインダーと、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーと、を含有することを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法である。前記スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５である態様、ウレタン基を含有するバインダーの含有量が、バインダーの総量に対して５〜３５質量％である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイルに優れＰＥＢ温度依存性を改善したポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ１）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、
（Ａ２）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、および、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
を含有するポジ型レジスト組成物であって、該酸分解樹脂（Ａ１）、（Ａ２）とも、残留モノマーが各樹脂に対して０．５質量％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）