【課題】残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ）下記ｉ）〜ｉｖ）の単量体の共重合体よりなるバインダー樹脂と、ｉ）不飽和基を有する酸、ｉｉ）エポキシ基に置換された（メタ）アクリル酸誘導体、ｉｉｉ）アルキル基に置換された（メタ）アクリル酸誘導体及びｉｖ）アルキル基に置換された（メタ）アクリル酸誘導体、不飽和二重結合を有する化合物またはこれらの混合物、（ｂ）３個以上の（メタ）アクリル基を有する（メタ）アクリル単量体と、（ｃ）１〜２個のアクリル基を有する（メタ）アクリル単量体、及び（ｄ）光開始剤を含有するネガレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、永久パターンが形成される基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、前記永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定する工程と、前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行う工程と、支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】極紫外線の波長域におけるレジスト層の光透過率を向上させることが可能なレジスト材料の製造方法およびレジスト材料ならびに露光方法を提供する。
【解決手段】極紫外線波長域での線吸収係数が１．７４３３μｍ^-1以下となるように、レジスト材料にシリコン原子を含有させる。下記式（１）を満たすように、高分子材料中のシリコン原子含有比率（φ_Si）および高分子材料の密度ρを設定する。
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【課題】光硬化に際して未露光部を希アルカリ溶液で容易に除去することができ、柔軟性、密着性、耐熱性に優れたフォトレジスト用光硬化性樹脂組成物、及び、該フォトレジスト用光硬化性樹脂組成物を用いてなり、低温発泡や重力不良による色ムラの生じにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される架橋可能な加水分解性シリル基を有するアルカリ可溶性（メタ）アクリル重合体（Ａ）、下記一般式（２）で表される分子骨格を有する化合物（Ｂ）、及び、分子内に２以上の重合性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）を含有するフォトレジスト用光硬化性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】
基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ後のクラック発生を抑制することができるとともに、露光感度を大幅に向上させることができるポジ型感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた転写フィルム、および、バンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係るポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する成分、および（Ｃ）有機溶媒を含有し、該重合体（Ａ）が、ラジカル重合開始剤として非シアノ系・非アミン系アゾ化合物を用いて合成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

放射線感受性媒体が親水性ポリマー粒子を含み、その粒子には、加熱により軟化させることが可能な疎水性ポリマー、親水性ポリマー、ならびに化学的に疎水性ポリマーに対しておよび親水性ポリマーに対して結合することが可能な結合性化合物が含まれる。その放射線感受性媒体にはさらに、照射線を熱に変換させることが可能な物質が含まれていてもよい。その放射線感受性媒体は、塗布、乾燥させたときには水不溶出性で、熱の作用を受けて疎水性となる。そのポリマー粒子は、親水性ポリマーの存在下に、少なくとも１種の疎水性モノマーと少なくとも１種の結合性化合物を重合させることにより製造する。その放射線感受性媒体は、プロセスレスで放射線による画像形成可能な平版印刷前駆体を形成させるために、基材に塗布してコーティングすることが可能な組成物として、供給することができる。そのようにして作製した、プロセスレスで放射線による画像形成可能な平版印刷前駆体は、像様に熱に変換される吸収放射線を用いて画像形成され、その結果疎水性を有する領域が形成され、その一方で、画像形成されない領域は親水性のままで残る。これによって、潜像を形成することが可能となり、それを用いて、ネガ作動性の平版印刷マスター版が作製される。そのようにして作製したネガ作動性の平版印刷マスター版は、元に戻ることはなく、親水性を調節した基材を必要とせず、その露光された領域では優れた靱性を備えている。その放射線感受性媒体は、印刷機のドラムも含めて、適切な基材の上に、プレートセッター上または印刷機上でコーティングすることができる。それはさらに、適切な基材の上に印刷機外でコーティングして、プレコートされたプロセスレスで放射線による画像形成可能な平版印刷前駆体を形成させることも可能である。 （もっと読む）

【課題】 サポートを必要とせず、高弾性率かつ耐衝撃性に優れた造形物を得ることができる光学的立体造形用硬化性組成物およびそれを用いた立体造形物を提供する。
【解決手段】 アイソタクチシティが８０％以上のメタクリル酸メチル重合体、ポリアルキルアクリレートブロックとシンジオタクチシティが６０％以上のポリメチルメタクリレートブロックとを有するブロック共重合体、および光重合可能なエチレン性不飽和化合物を特定の割合で含有する光学造形用硬化性樹脂組成物、並びに該組成物を硬化させてなる立体造形物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、感光特性を維持しつつ、焼成工程での割れ、剥がれおよび反りを防止した感光性セラミックス組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】無機粉末と感光性有機成分を必須成分とする感光性セラミックス組成物において、熱分解温度が３５０℃以下で、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有する反応性ポリマを含有することを特徴とする感光性セラミックス組成物。 （もっと読む）

【課題】 低添加量の光重合開始剤、低露光量で物性が発現し、解像性、耐信頼性及び耐ニッケル金メッキ性を損なわず、常温での保存安定性に優れる樹脂組成物及びこれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】 （A）ジオ−ル化合物と多価カルボン酸類とを反応させて得られるカルボキシル基含有共重合体であって、重量平均分子量が2,000〜40,000、酸価が50〜200mgKOH/gである樹脂、（B）光重合可能なエチレン性不飽和結合を一分子中に少なくとも１つ以上含む不飽和化合物、（C）エポキシ化合物、（D）光重合開始剤を主成分とし、（A）成分と（B）成分の合計100重量部に対して、（C）成分が10〜40重量部、（D）成分が0.01〜2.0重量部含有され、且つ、（D）成分の光重合開始剤として下記一般式(I)で表される化合物を含有する絶縁膜用感光性樹脂組成物である。
【化１】
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【課題】 熱刺激によるゾルゲル可逆性を示し、かつ硬化収縮率の小さい光学的立体造形法用硬化性樹脂組成物およびそれを用いた立体造形物を提供する。
【解決手段】 アイソタクチシティが８０％以上のメタクリル酸メチル重合体、重合体の全体または少なくとも一つのブロックのガラス転移温度が−５０〜８０℃、かつ重合体の全体または少なくとも一つのブロックのシンジオタクチシティが４０％以上である（メタ）アクリル酸エステル（ブロック共）重合体、および光重合可能な単量体を特定の割合で含有する光学造形用硬化性樹脂組成物、並びに該組成物を硬化させてなる立体造形物。 （もっと読む）

【課題】 未露光膜破れの防止効果に優れ、高解像度であり、かつテント性及び現像性に優れ、エッチング時の剥離性が良好なパターン形成材料、並びにパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下、解像度が２０μｍ以下であり、前記感光層が穴部を有する基材上に積層され、該感光層の露光後に支持体を剥離した際に、前記基材の穴部を被覆する前記感光層の未露光部分に破れを生じさせない前記穴部の直径が、５ｍｍ以下であることを特徴とするパターン形成材料である。該基材の穴部を被覆する前記感光層の未露光部分に破れを生じさせない前記穴部の直径が、６ｍｍ以下であるのが好ましい。前記バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５である態様。 （もっと読む）

【課題】 複雑なフイルムを介した画像露光を必要とせずに画像を記録ができ、耐刷性があり、感度および解像度に優れた画像形成材料及びその製造方法の提供、また、画像を記録してから湿式現像処理を行わずに印刷する画像形成方法の提供。
【解決手段】 親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより４０℃低いコアを有するコア／シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。 （もっと読む）

【課題】 近赤外領域の光に感光し、明室で取り扱うことができ、版に直接レーザー光により描画でき、現像や拭き取り操作を不要とすることが可能であり、さらに、非画線部の親水性が顕著の向上した印刷適性に優れるＣＴＰ用の平版印刷用原版を提供すること。
【解決手段】 レーザー露光により、露光部表面の親水性が親インク性に変化する性質を有する親水性樹脂感光層を有する平版印刷用の原版であって、該親水性樹脂層が純水に浸漬した際の不凍水の含有量が特定値以上であることを特徴とする平版印刷用原版。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターン形成性、導体パターン形成性、保存安定性に優れる感光性樹脂付き積層板を提供する。
【解決手段】 絶縁性樹脂層の片面、または両面に導体箔が積層された長尺状の構造体の少なくとも片面の導体箔上に厚さが１μｍ以上２０μｍ以下の感光性樹脂からなる層が積層された感光性樹脂付き積層板であって、感光性樹脂が、（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００以上６００以下であり、かつ、重量平均分子量が２万以上５０万以下の線状重合体を含むバインダー用樹脂、（ｂ）光重合可能な不飽和化合物、ならびに（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物、を含有することを特徴とする長尺状の感光性樹脂付き積層板。
【化１】
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【課題】 近赤外領域の光に感光し、明室で取り扱うことができ、版に直接レーザー光により描画でき、現像や拭き取り操作を不要とすることが可能であり、さらに、非画線部の親水性が顕著の向上した印刷適性に優れるＣＴＰ用の平版印刷用原版を提供すること。
【解決手段】 支持体上に直接又は下地層を介して親水性樹脂層を有する平版印刷用原版において、該親水性樹脂層が、（ａ）親水性ポリマー、（ｂ）架橋剤、（ｃ）疎水性ポリマー、（ｄ）光熱変換材および（ｅ）水溶性の炭酸塩を含有することを特徴とする平版印刷用原版。 （もっと読む）

【課題】従来のポジ型レジスト材料と同等か若しくはこれを上回るほど高感度、高解像度であるとともに、特に高反射基板上でのパターン形状が良好で、定在波の発生が軽減され、エッジラフネスが少ない特性を示すポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、ベース樹脂に含まれる高分子化合物が、波長２４８nmの光において吸収のある酸不安定基を有する繰り返し単位を含むものであり、且つ、該繰り返し単位が、前記ベース樹脂に含まれる全ての高分子化合物の繰り返し単位中、１％〜１０％の割合で含まれるものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線がなく、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、かつ該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に少なくとも重合性基を３つ以上有する化合物を含有し、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜２０ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】導体回路への追従性、可撓性、現像性、解像性、半田耐熱性、耐溶剤性、電気絶縁性に優れた特性を示す感光性樹脂積層体を得ることのできる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物である。
（Ａ）下記の（Ａ１）および（Ａ２）を主成分とするポリマー成分。
（Ａ１）重量平均分子量が１００，０００〜２５０，０００で、かつ酸価５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシル基含有（メタ）アクリル系ポリマー。
（Ａ２）重量平均分子量が１０，０００〜８０，０００で、かつ酸価５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシル基含有（メタ）アクリル系ポリマー。
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する（メタ）アクリル系モノマー成分。
（Ｃ）光重合開始剤。
（Ｄ）アミノ樹脂。 （もっと読む）

【課題】 剥離性が良好であり、現像ラチチュードが広く、線幅のバラツキが小さく、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、かつ該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有し、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜２０ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】金属表面等の極性の高い表面に対する密着性、疎水性および耐熱性に優れ、レジスト用の溶剤に対する溶解性が良好な共重合体および該共重合体を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有する単量体と、ラクトン骨格を有する単量体と、脂環式骨格を有する単量体よりも高い極性を持ち、かつラクトン骨格を有する単量体よりも低い極性を持つ他のビニル系単量体とを重合して得られる共重合体を用いる。 （もっと読む）