パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
【課題】高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が20mJ/cm2以下、露光後に現像する際の最短現像時間が15〜50秒間である。前記感光層を、線幅10〜40μmでライン/スペース=1/1の露光により形成されるラインパターンと、L/S=1/100の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が5μm以下、バインダーのI/O値が、0.5〜0.8、重合性化合物のI/O値が、0.5〜1.5、また、バインダーと重合性化合物との質量比(バインダー/重合性化合物)が、1〜2である。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が20mJ/cm2以下、露光後に現像する際の最短現像時間が15〜50秒間である。前記感光層を、線幅10〜40μmでライン/スペース=1/1の露光により形成されるラインパターンと、L/S=1/100の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が5μm以下、バインダーのI/O値が、0.5〜0.8、重合性化合物のI/O値が、0.5〜1.5、また、バインダーと重合性化合物との質量比(バインダー/重合性化合物)が、1〜2である。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が20mJ/cm2以下であり、該感光層を露光後に現像する際の現像時間が15〜50秒間であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項2】
感光層を、線幅10〜40μmでライン/スペース(L/S)=1/1及びL/S=1/100で露光し現像して得られたパターンの、前記L/S=1/1の露光により形成されるラインパターンと、L/S=1/100の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が5μm以下である請求項1に記載のパターン形成材料。
【請求項3】
バインダーのI/O値が、0.5〜0.8である請求項1から2のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項4】
重合性化合物のI/O値が、0.5〜1.5である請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項5】
バインダーと重合性化合物との質量比(バインダー/重合性化合物)が、1〜2である請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項6】
バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有する請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項7】
バインダーのガラス転移温度が、80℃以上である請求項1から6のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項8】
バインダーの酸価が、70〜250mgKOH/gである請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項9】
重合性化合物が、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマーを含む請求項1から8のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項10】
光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、芳香族オニウム塩及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも1種を含む請求項1から9のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項11】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項12】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光し、現像時間15〜50秒間で現像を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項13】
現像が、現像温度25〜40℃で、炭酸ソーダ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、有機アミン、及び炭酸水素ナトリウムのいずれかから選択され、アルカリ濃度が0.1〜10質量%のアルカリ現像液を用いて行われる請求項12に記載のパターン形成方法。
【請求項14】
露光が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行われる請求項12から13のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項12から14のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項16】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項12から14のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項17】
マイクロアレイレンズが、描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有する請求項15から16のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項18】
非球面が、トーリック面である請求項15から17のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項19】
マイクロアレイレンズが、円形のレンズ開口形状を有する請求項16から18のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項20】
レンズ開口形状が、そのレンズ面に遮光部を設けることにより規定される請求項16から19のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項21】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項12から20のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項1】
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が20mJ/cm2以下であり、該感光層を露光後に現像する際の現像時間が15〜50秒間であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項2】
感光層を、線幅10〜40μmでライン/スペース(L/S)=1/1及びL/S=1/100で露光し現像して得られたパターンの、前記L/S=1/1の露光により形成されるラインパターンと、L/S=1/100の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が5μm以下である請求項1に記載のパターン形成材料。
【請求項3】
バインダーのI/O値が、0.5〜0.8である請求項1から2のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項4】
重合性化合物のI/O値が、0.5〜1.5である請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項5】
バインダーと重合性化合物との質量比(バインダー/重合性化合物)が、1〜2である請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項6】
バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有する請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項7】
バインダーのガラス転移温度が、80℃以上である請求項1から6のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項8】
バインダーの酸価が、70〜250mgKOH/gである請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項9】
重合性化合物が、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマーを含む請求項1から8のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項10】
光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、芳香族オニウム塩及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも1種を含む請求項1から9のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項11】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項12】
請求項1から10のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光し、現像時間15〜50秒間で現像を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項13】
現像が、現像温度25〜40℃で、炭酸ソーダ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、有機アミン、及び炭酸水素ナトリウムのいずれかから選択され、アルカリ濃度が0.1〜10質量%のアルカリ現像液を用いて行われる請求項12に記載のパターン形成方法。
【請求項14】
露光が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行われる請求項12から13のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項12から14のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項16】
露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる請求項12から14のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項17】
マイクロアレイレンズが、描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有する請求項15から16のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項18】
非球面が、トーリック面である請求項15から17のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項19】
マイクロアレイレンズが、円形のレンズ開口形状を有する請求項16から18のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項20】
レンズ開口形状が、そのレンズ面に遮光部を設けることにより規定される請求項16から19のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項21】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項12から20のいずれかに記載のパターン形成方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【公開番号】特開2007−171643(P2007−171643A)
【公開日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−370231(P2005−370231)
【出願日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【出願人】(306037311)富士フイルム株式会社 (25,513)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【出願人】(306037311)富士フイルム株式会社 (25,513)
【Fターム(参考)】
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