【課題】 レジスト現像廃液などの金属イオンとテトラアルキルアンモニウムイオンを含む溶液から、効率的に金属イオンを除去する。
【解決手段】 金属イオンとテトラアルキルアンモニウムイオンを含む溶液と、陽イオン交換樹脂を接触させてこれらイオンを該樹脂に吸着させ、次いで、アルカリ金属塩溶液により溶離させる。溶離液中の前記アルカリ金属イオン濃度をモニターし、該アルカリ金属イオン濃度が急上昇する前に回収経路を切り替えることにより、アルカリ金属イオンのみならず、前記他の金属イオンの濃度も低いテトラアルキルアンモニウム塩溶液を回収することができる。
回収したテトラアルキルアンモニウム塩は電解により水酸化テトラアルキルアンモニウムとすることができる。この電解の際の妨害物質となりがたいこと、及びコスト等の観点から、前記アルカリ金属塩溶液としては炭酸ナトリウム水溶液が最も好ましい。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて側壁部形成のための薄膜が堆積される対象構造を有機材料により形成した場合であっても、均一な側壁部を形成する。
【解決手段】基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜をアルカリ性の薬剤に曝す工程と、前記薬剤に曝された前記フォトレジスト膜を露光する工程と、露光された前記フォトレジスト膜を現像する工程とを含むフォトレジストパターン形成方法により上記の課題が達成される。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたビニルアルコールと無水マレイン酸及び／又はマレイミドを繰り返し単位として有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】酸不安定基で置換されたビニルアルコールと無水マレイン酸及び／又はマレイミドを繰り返し単位として有する高分子化合物と酸発生剤を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】耐刷性に優れ、且つ、非画像部の汚れ性が良好な平版印刷版を作製しうる平版印刷版原版、その製造方法、該製造方法により得られた平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、下記一般式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位及び一般式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含有する中間層と、ポジ型画像形成層と、を順次備えるポジ型平版印刷版原版である。式中、Ｒ^１、Ｒ^２は水素原子、メチル基、又はエチル基を表す。Ｌ^１は単結合、又は−ＣＯＯ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）ｎ−を表し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｌ^２は、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び炭素数１〜５のアルキレン基から選ばれる連結基、並びに、これらが２以上結合してなる連結基を表し、Ｌ^３はアルキレン基、又は−ＣＨ_２ＣＨＯＨＣＨ_２−を表す。
（もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用できるだけでなく、従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：下記繰り返し単位を有するフェノール性水酸基発生可能な重合体、該重合体の加水分解物、及び前記重合体の加水分解縮合物のうち少なくとも一つ以上、及び


（Ｂ）成分：特定の加水分解性ケイ素化合物を含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物を含むものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（２）で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びＲ^１_ｍ１Ｒ^２_ｍ２Ｒ^３_ｍ３Ｓｉ（ＯＲ）_{（４−ｍ１−ｍ２−ｍ３）}（１）Ｕ（ＯＲ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_ｍ５（２）（Ｂ）一般式（３）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（４）で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Ｒ^６_ｍ６Ｒ^７_ｍ７Ｒ^８_ｍ８Ｓｉ（ＯＲ^９）_{（４−ｍ６−ｍ７−ｍ８）}（３）Ｓｉ（ＯＲ^１０）_４（４）を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な操作でかつ工業的に有利にTAAH含有廃液を再生処理し、高純度のTAAH水溶液を効率良く製品として回収することができるTAAH含有廃液の再生処理方法を提供する。
【解決手段】水酸化テトラアルキルアンモニウム(TAAH)含有廃液の中和工程１と、この中和工程で得られた中和処理液を、陽イオン交換膜４で陽極室５と陰極室６とに区画された電解槽２で電気分解する電解工程とを有し、電解槽の陰極室側から高純度の製品TAAH水溶液を回収するTAAH含有廃液の処理方法であり、中和処理液の濁度（JIS K0101測定法）を５０００ppm以下に管理すると共に、陽極室内を循環する陽極循環液の流速（線速度）を１．５×１０^-3〜２５×１０^-3m/秒の範囲内に維持し、また、陰極室側からTAAH濃度１５〜３０質量%の製品TAAH水溶液を回収する水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法。 （もっと読む）

【課題】省エネルギーで効率的に廃液中の目的物質を分離濃縮することのできる濃縮方法および濃縮装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、目的物質を含有する廃液中から、上記廃液よりも高い濃度の上記目的物質を含有する液体を分離する、目的物質の濃縮方法であって、上記廃液を霧化する霧化工程と、上記霧化工程により上記廃液から生じた霧粒子を分級する分級工程とを含むことを特徴とする、目的物質の濃縮方法である。 （もっと読む）

【課題】仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂組成物層とを有する感光性樹脂転写材料を用いて、基板上に感光性樹脂組成物を用いたパターンを形成する方法において、先行パターン等による凹凸が基板に存在しても、パターン欠陥、現像残渣、および異物の付着がない感光性樹脂組成物を用いたパターンを、現像工程が簡易であり、且つ短い現像時間で得られる、生産効率の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂転写材料を、基板上にラミネートする工程、画像様の露光と仮支持体の剥離とをこの順又はこの逆順で行う工程、および、前記熱可塑性樹脂層の除去と露光後の感光性樹脂組成物層における未露光部分の除去（前記感光性樹脂組成物がネガ型である場合）または露光部分の除去（前記感光性樹脂組成物がポジ型である場合）とを１種類の処理液で行う工程を、この順で有する感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び高温熱履歴後の耐薬品性に優れ、現像時の膜減りが少なく、現像工程における現像マージンが大きいポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）で表わされる化合物と式（２）で表わされる化合物とを加水分解・縮合反応させて得られる構造からなるシラノール基含有ポリシロキサン化合物、（Ｂ）エポキシ含有有機基を少なくとも２つ有する化合物、（Ｃ）ジアゾナフトキノン類及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。Ｒ¹はＣ１〜４アルキル基等、Ｒ²はＣ２〜１０の２価炭化水素基、Ｒ³はＣ２〜１０の２価飽和脂肪族炭化水素基、Ｘは特定の一般式で表される基をそれぞれ表す。
（もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂及び光酸発生剤を用いて成膜（フォトレジスト層）し、所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後現像液として有機溶媒を含まない水溶液を用いて現像することにより、十分なフォトレジストを得ることのできる反応現像画像形成法を提供する。
【解決手段】所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をＭＯＨ（式中、Ｍはアルカリ金属を表す。）で表される無機アルカリ等を含む水溶液で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層がポリカーボネート樹脂及びキノンジアジド構造を有する有機基と水酸基の両方を有する化合物（光酸発生剤）とから成ることを特徴とする反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および／または下層が、アルカリ水溶液に可溶性又は可分散性の水不溶性ポリウレタン樹脂と、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤 １質量％超２０質量％未満と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】無機膜上に形成するレジストパターンの形成性及びエッチング選択比に優れ、レジスト膜を薄膜化する場合においても忠実なパターン転写が可能な多層レジストプロセス用無機膜形成組成物、並びにパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）、加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解物及び加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに［Ｂ］有機溶媒を含有する多層レジストプロセス用無機膜形成組成物であって、［Ａ］化合物が、第３族元素、第４族元素及び第５族元素からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含有し、かつこの金属元素の含有割合が、［Ａ］化合物に含まれる金属元素及び半金属元素の合計量に対し５０モル％以上であることを特徴とする多層レジストプロセス用無機膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離物とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）とを含む現像廃液を処理してレジスト成分を高度に除去した高純度のＴＡＡＨ再生液を得る。
【解決手段】レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液をｐＨ８〜１２に調整してＭＦ膜モジュール１で膜分離処理し、透過水をナノフィルトレーション（ＮＦ）膜モジュール２により膜分離処理する。ＮＦ膜として、膜表面がゼータ電位−５０ｍＶ以下に負に大きく帯電したものを用いることにより、負に帯電しているレジスト剥離物を効果的に除去して高純度のＴＡＡＨ再生液を得る。 （もっと読む）

【課題】 強塩基性の第四級アンモニウム化合物、その製造法、及びそれを使用した現像液を提供する。
【解決手段】 （ＣＨ_３）_３ＮＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）_３・（ＯＨ）_２で示される第４級アンモニウム化合物、この化合物はハロゲン化メチル、硫酸ジメチル又は炭酸ジメチル並びにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンとを反応させ、強塩基で処理することで製造でき、この化合物を含む水溶液をフォトレジストの現像液として使用する。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない現像剤によりネガ型画像形成性要素を画像形成して現像する方法を提供すること。
【解決手段】ネガ型画像形成性要素を画像形成し、次いで、毒性および腐食性が低く、使用後により容易に廃棄できる低ｐＨ有機系炭素現像液を使用して現像することができる。当該現像液は１２未満のｐＨを有し、ａ）窒素含有複素環を含む両性界面活性剤、ｂ）２又は３個以上の窒素原子を有する両性界面活性剤、またはｃ）ａ）の両性界面活性剤およびｂ）の両性界面活性剤を含む。 （もっと読む）

【課題】コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で、印刷機上現像やｐＨ１１以下の水溶液による現像が可能であり、特に経時後の現像性に優れ、しかも高耐刷かつ耐汚れ性が良好な平版印刷版原版、それを用いる平版印刷版の作製方法、それを用いることができる高分子化合物を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版は、支持体上に、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）増感色素並びに（Ｃ）重合性化合物を含有する画像記録層を有し、画像記録層又は前記支持体と前記画像記録層の間に設けられる下塗り層に、（Ｄ）（ａ１）特定のラジカル重合性基を側鎖に有する繰り返し単位、及び（ａ２）支持体表面と相互作用する特定の構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有する。該高分子化合物の中には新規のものもある。 （もっと読む）

【解決手段】マグネシウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、セシウム、ジルコニウム、及びハフニウムから選ばれる金属の炭素数１〜２０の１〜４価のカルボン酸塩と、水、アルコール類、エステル類、エーテル類等から選ばれる１種以上を溶剤として含むレジスト材料。
【効果】解像性とエッジラフネスが良好な特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）