【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】〔Ａ〕（ａ１）エチレン性不飽和カルボン酸および／またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物と（ａ２）（ａ１）以外のエチレン性不飽和化合物との共重合体、
〔Ｂ〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに
〔Ｃ〕光重合開始剤
を含有する感光性組成物であって、〔Ｃ〕光重合開始剤の含有量が〔Ｂ〕１００重量部に対して０．１〜５重量部であることを特徴とする垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するための感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 感光性組成物の室温での溶融粘度が好適であり、感光層の感度低下を抑制できると共に、パターン形成材料による基体への積層体形成時に、保護フィルムの剥離跡が発生せず、保護フィルムをスムーズに剥離でき、効率よくパターンが形成でき、高感度かつ高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を有し、該感光層が、アルカリ可溶性バインダー、重合性モノマー及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、該感光性組成物の３０〜４０℃における溶融粘度が、１×１０^４〜１×１０^７ｍＰａ・sであり、前記感光層を露光、現像して得られるパターン厚みが未露光状態の厚みの９０％となる波長４０５ｎｍのレーザ光における最少露光量が、２０ｍJ/ｃｍ^２以下のパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び該感光性永久レジストフィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第１の感光性層、第２の感光性層をこの順に有し、基板上にラミネートする際のラミネート温度における、第１の感光性層の溶融粘度をη_１、第２の感光性層の溶融粘度をη_２としたとき、次式、η_１＞η_２、を満たすことを特徴とする感光性永久レジストフィルムである。 （もっと読む）

【課題】 短時間で露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 ランプ９ａは、光源２１ａを有し、光源２１ａの上部にはコールドフィルタ２３が設けられている。
また、光源２１ａの周囲には反射板２５ａ、２５ｂが設けられている。
コールドフィルタ２３と反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２７ａ、２７ｂが設けられており、反射板２５ａ、２５ｂの間には排熱口２９が設けられている。 なおランプ９ａは、露光装置の内部に設けられている。
ランプ９ａに反射板２５ａ、２５ｂを設けることにより、光源２１ａの側面や下面に照射された紫外線３９ａ、３９ｅも光源２１ａの上面に照射されるため、基板に照射される紫外線量を増やすことができる。 （もっと読む）

【課題】 通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｆ）塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、現像欠陥、レジストパターンの倒れが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、特に液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）脂環炭化水素構造を有する繰り返し単位と、ナフタレン構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ＫｒＦおよびＡｒＦの露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の液浸媒体に溶出することなく安定な被膜を維持しする。
【解決手段】 フォトレジスト膜に被覆されて上記液浸媒体に安定な膜を形成できる樹脂と該樹脂を溶解する溶媒とを含み、上記樹脂は、下記式（１）で表される基を側鎖末端に有する繰り返し単位、カルボキシル基を側鎖末端に有する繰り返し単位および下記式（２）で表される基を側鎖末端に有する繰り返し単位からなる群より選ばれた少なくとも１つの繰り返し単位を含む樹脂であり、上記溶媒は、炭素数７〜１０の１価アルコールを含む溶媒である。
（１）
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【課題】平版印刷版及び平版印刷方法に於ける、機上現像性、細線再現性、耐刷性および機上現像ランニング性を改良する。
【解決手段】支持体上に、赤外線吸収剤、重合開始剤および重合性化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様に赤外線レーザーを照射して画像記録を行う平版印刷版原版の画像記録方法であって、該赤外線レーザー照射を、酸素濃度１０×１０^-3ｍｏｌ／Ｌ以下の雰囲気下で行うことを特徴とする平版印刷版原版の画像記録方法、及び上記の方法によって平版印刷版原版を画像記録する工程、平版印刷原版を印刷機のシリンダーに取り付けた状態で、画像記録層の未露光部を除去して平版印刷版を製版する工程および製版された平版印刷版を用いて印刷する工程を含む平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】 上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 （もっと読む）

【課題】 得られるレジスト面形状が良好であり、レジスト線幅のばらつきが小さく、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、かつ該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成材料である。該支持体の全光線透過率が、８６％以上である態様、該支持体のヘイズ値、及び、支持体の全光線透過率を求める場合の光の波長が、４０５ｎｍである態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成後の剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像ラチチュードが広く、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィおよび液浸フォトリソグラフィシステムにおいて非常に適したフォトレジスト用のトップコートを提供する。
【解決手段】本発明のトップコートは、式Ｔ_ｍ^Ｒ３（ただしｍが８、１０、または１２に等しい）および式Ｑ_ｎＭ_ｎ^{Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３}（ただしｎが８、１０、または１２に等しい）の官能化多面体オリゴマー・シルセスキオキサン誘導体を含む組成物である。その官能基として、塩基性水溶液可溶性部分を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高解像度と細線密着性を両立でき、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、前記支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、前記感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び密着促進剤を含有するパターン形成材料である。該密着促進剤が、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、チオトリアゾール誘導体、チオオキサジアゾール誘導体、Ｎ−置換インダゾール誘導体、芳香族置換インダゾール誘導体、テトラゾール誘導体、カルボチオ酸アミド誘導体及びベンゾトリアゾール誘導体から選択される少なくとも１種である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、高アスペクト比の配線パターン等のパターンを極めて高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を有し、該感光層が重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含むパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用のＡｒＦレーザ光等に対する透過率が高いレジストカバー膜形成材料。
【解決手段】レジスト膜に対して液浸露光を行う際に該レジスト膜をカバーするレジストカバー膜を形成するのに用いられ、アルカリ可溶性基を有し一般式（１）〜（３）で表されるケイ素含有ポリマーから選択される少なくとも１つとを含むレジストカバー膜形成材料。






一般式（１）〜（３）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^６〜Ｒ^８の少なくともいずれかはアルカリ可溶性基を有する一価の有機基及びトリオルガノシリル基の少なくともいずれかを表し、Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^９は一価の有機基、トリオルガノシリル基及び水酸基の少なくともいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体はフッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の３０〜１００モル％含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、アルカリ可溶性である。 （もっと読む）

【課題】基板との良好な密着性及び優れた耐メッキ性を有する感光性組成物の提供。
【解決手段】バインダー・重合性化合物・光重合開始剤・カーボネート構造を有する化合物（下記構造式を参照）を含有する感光性組成物である。


ａ、ｂ、ｃ、ｍ、ｎ、及びｏは０又は１を表す。Ｘ，Ｙは単結合及び二価の置換基のいずれか、Ａ，Ｂは単結合のアルキル基及びアリール基のいずれか、Ｌはアルキル基・アリール基・トリアジン基・イソシアヌル酸のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体は式（１）で表される基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の３０〜１００モル％含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、アルカリ可溶性である。
（もっと読む）

【課題】 感度、テンティング強度が良好であるのみならず、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性、及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性が良好であるのみならず、感度、解像度、及び得られるパターン形状が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 （もっと読む）