【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイルに優れＰＥＢ温度依存性を改善したポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ１）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、
（Ａ２）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、および、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
を含有するポジ型レジスト組成物であって、該酸分解樹脂（Ａ１）、（Ａ２）とも、残留モノマーが各樹脂に対して０．５質量％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、かつ基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、前記露光が、前記光変調手段により変調された光を、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて結像し、前記略矩形状の短辺方向を、前記感光層のうねり方向に向けて行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネス、エッチング速度比が良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）ラクトン基とナフタレン環を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】通常露光時及び液浸露光時に於ける、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、露光−ＰＥＢ間の引き置きによる線幅の変動が低減されたポジ型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ１）活性光線又は放射線の照射により一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表わされる酸を発生する化合物並びに（Ａ２）活性光線又は放射線の照射により他の特定構造の酸を発生する化合物を含有する。
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【課題】 前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して感光層に対して露光が行われることを特徴とする永久パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、かつ基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段から出射した光ビームを、光分布補正手段を有する集光光学系を介して照射し、前記光変調手段により変調された光ビームを照射して露光を行うことを少なくとも含み、該露光が、前記光照射手段から前記光変調手段に照射される光ビームの照射領域内での光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光ビームの光量分布が、前記感光層の被露光面上において均一となるように補正されて行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光のような高エネルギー線による露光下で、溶解コントラストが良く優れた感度のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）一般式（Ｂ１）で表されるスルホニウムカチオンを有する酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。


式（Ｂ１）中、Ｒ_b1〜Ｒ_b3は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ_b1〜Ｒ_b3に含まれる酸素原子の総数は４つ以上である。Ｒ_b1〜Ｒ_b3のうち２つが互いに連結して環を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用い、かつ露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して露光を行うことを含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光層に対し、光照射手段から出射した光ビームを、光分布補正手段を有する集光光学系を介して照射し、前記光変調手段により変調された光ビームを照射して露光を行うことを少なくとも含み、該露光が、前記光照射手段から前記光変調手段に照射される光ビームの照射領域内での光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光ビームの光量分布が、前記感光層の被露光面上において均一となるように補正されて行われることを特徴とする永久パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光層１２に対し、光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層１２の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、前記露光が、前記光変調手段により変調された光を、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域８１Ｔのみにおいて結像し、前記略矩形状８１Ｔの短辺方向を、前記感光層１２のうねり方向に向けて行われることを特徴とする永久パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、解像力、ラインエッジラフネスが改良され、且つ液浸露光に於いてラインアンドスペースパターンを良好に解像し得るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（I）


で表される構成単位と、α−ヒドロキシアルキル置換アルキルアクリレート単位との２種の構成単位を有するアルカリ可溶性ポリマーを含有して保護膜形成用材料を構成する。 （もっと読む）

【課題】 高感度であるとともに、感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００〜０．６５０であり、かつ、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 青紫外光レーザに対し高感度であるとともに、黄色安全灯下での光安定性及び熱安定性に優れ、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリジン誘導体と中性ラジカル発生剤とを含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体、前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置、などである。 （もっと読む）

【課題】液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（I）
【化１】


（式（I）中、Ｒ₁は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ₂は炭素原子数１から５のアルキレン鎖を示し、Ｒ₃は水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された炭素原子数１から１０のフッ素化アルキレン鎖であり、ｍは繰り返し単位を表す）
で表される構成単位を有するアルカリ可溶性ポリマーを少なくとも含有して保護膜形成用材料を構成する。 （もっと読む）

【課題】青色レーザーによる書き込みが可能で、ＦＭスクリーンの高画質網点が安定的に得られる平版印刷版を製版することが可能な、平版印刷版原版の製版方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有する感光性組成物により形成された感光層を有する平版印刷版原版を、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に発振波長を有する光源を搭載したインナードラム露光装置を用いて露光する製版方法において、該露光装置の光ビームスポット形状が、光ビームを常光線と異常光線とに等光量で平行に分割し、その２つのビームスポットが一部重なるように隣接して副走査方向に並んでいることを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 ４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、レーザ露光時の露光波長のばらつきによる影響を受けず、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物などの提供。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、増感剤、及び熱架橋剤を含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０〜５００ｎｍである増感剤を２種以上含有する感光性組成物である。３８０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有すると共に、４００〜４１０ｎｍの領域におけるパターン形成可能な最小露光量Ｓが２１０ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、かつ該領域での最小露光量の最大値Ｓｍａｘと、最小露光量の最小値Ｓｍｉｎとが、次式、Ｓｍａｘ／Ｓｍｉｎ≦１．２を満たす態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 青紫外光レーザに対し高感度であるとともに、黄色安全灯下での光安定性及び熱安定性に優れ、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、熱架橋剤、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、アクリジン誘導体と、オニウム化合物を含む感光性組成物、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料、前記感光性組成物からなる感光層を有する感光性積層体、前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置、などである。 （もっと読む）

【課題】 保護膜形成材料に適当な接触角および転落角をもたせることにより、液浸露光用液体のスキャン追従性能を向上させるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性（撥水性等）を備えた、特に局所液浸露光プロセスに好適に適用される保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、フルオロヒドロキシアルキル基を有する環状炭化水素を含むアルカリ可溶性ポリマーを含有する保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物及び前記フォトレジスト組成物を用いる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物はフェノール系重合体を含むバインダ樹脂１０〜７０重量％、光酸発生剤０．５〜１０重量％、架橋結合剤１〜２０重量％、染料０．１〜５重量％及び溶媒１０〜８０重量％を含む。前記フォトレジスト組成物は４枚マスクを用いた薄膜トランジスタ基板の製造工程に適用される。前記フォトレジスト組成物は薄膜トランジスタ基板の製造工程の際フォトレジスト層を形成し前記フォトレジスト層はスリット露光によって安定的にハーフトーンを実現することができる。 （もっと読む）