【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、テトラフルオロエチレンから誘導される構成単位（ａ）を有する樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつ前記構成単位（ａ）を有さない樹脂（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】波長が３００ｎｍ帯又はそれ以下の露光光に対して、表面荒れ及びパターンラフネスが生じないレジスト材料を得られるようにする。
【解決手段】基板１０１上に、ポリ（ビニルジ（アダマントキシメチルスルホンアミド）(30mol%)−ビニルスルホンアミド（70mol%））からなるベースポリマーと酸発生剤とを含むレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。その後、形成されたレジスト膜１０２に対して、波長が１００ｎｍ帯以上且つ３００ｎｍ帯以下若しくは波長が１ｎｍ帯以上且つ３０ｎｍ帯以下の高エネルギー線又は電子線よりなる露光光１０４を選択的に照射してパターン露光を行なう。続いて、パターン露光されたレジスト膜１０２を現像することにより、レジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】高精度で、且つ電子線照射時間を短縮し製造効率の高い３次元モールドの製造方法の提供。
【解決手段】基体上にオルガノポリシロキサンで構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層に電子線を照射する照射工程と、電子線を照射した後のレジスト層を現像してレジスト層に凹凸部を形成する現像工程と、を有し、前記照射工程では、１次電子は前記基板に到達せず且つ２次電子は前記基板に到達するような加速電圧で照射する工程を含むことを特徴する３次元モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂、半導体製造用反射防止膜及びフォトレジスト用樹脂の保護膜に有用な樹脂を合成するための（メタ）アクリル系単量体及び少なくともその単量体を含む樹脂を提供する。また、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）


で表される（メタ）アクリル系単量体。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、絶縁信頼性に優れ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１の吸収が、０．０２未満であるパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いるパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】従来、ホトレジスト層の上層に形成される保護膜にアルコール系溶剤を単独で用いた場合、アルコール易溶型のホトレジスト（例えば、ネガ型ホトレジスト等）を用いることができなかったという問題点があったが、これを解消し、市販のホトレジストに対して広く使用可能で汎用性に優れるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性を備えた保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）エポキシ環を含まず、かつ水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子により置換されたフルオロアルキルエーテルおよびフルオロアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも１種を含む保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける特定構造の化合物であって、通常露光及び液浸露光に於ける、露光ラチチュード、パターン形状が改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける、感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける特定構造の化合物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける特定構造の化合物。 （もっと読む）

【課題】基材上に、表面が平坦な導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。
【解決手段】（１）導電粒子と感光性成分とを含み、感光性成分が光硬化性モノマーと光重合開始剤とを含む導電性パターン形成用液状組成物を、平坦な露光面と接触させる工程と、（２）この組成物に、導電性パターンが形成される表面を有する基材を浸漬する工程と、（３）平坦な露光面と基材の表面との間に、所定厚みの組成物層を介在させ、その組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を形成する工程と、（４）基材の表面から、未硬化の組成物を除去する工程とを有する導電性パターンの形成方法およびその方法に用いる導電性パターン形成用液状組成物。 （もっと読む）

【課題】同一面内ピットパターンとグルーブパターンの二領域が露光される光記録媒体用原盤において、ピットパターン形成を容易にすることができ、露光装置の使用環境を厳しくしないことによりコストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤ならびに光記録媒体用原盤の露光方法を提供すること。
【解決手段】基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層、および第二のフォトレジスト層が順次積層されている二層フォトレジスト原盤を使用した光記録媒体用原盤において、該フォトレジスト原盤の露光工程で、同一面内で露光線速を変更させ、線速が異なる各領域で異なったパターンが露光されたものであることを特徴とする光記録媒体用原盤。 （もっと読む）

【課題】形状安定性が良好であり、高解像度で、かつ、焦点深度にも優れるレジストパターンを形成することが可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】レジスト膜上に設けられ、このレジスト膜を保護するレジスト保護膜を形成するためのレジスト保護膜形成用組成物であって、レジスト膜中の酸の発生を補助する酸発生補助剤を配合した。 （もっと読む）

【課題】 良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除去することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効な保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される化合物を溶媒として含有する、アルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜材料。
【化１】


（上式中、Ｒ¹は炭素数１〜９の直鎖状又は分岐状のフッ素原子を１個以上有するアルキル基であり、Ｒ²とＲ³は同一又は異種で水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基でフッ素原子を１個以上有していても良く、Ｒ⁴は炭素数１〜９の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ¹＋Ｒ²＋Ｒ³＋Ｒ⁴の炭素数の合計が６〜１０の範囲である。） （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、フィルム化した際の保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、ラミネート性、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物及びこの感光性組成物を用いた感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法、及びパターンを提供。
【解決手段】ガラス転移点及び分子量が特定の範囲であり、特定の繰り返し単位からなる樹脂（Ａ）と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含んでなる感光性組成物であり、前記熱架橋剤として融点が８０℃以上であり、且つメチルエチルケトン（ＭＥＫ）への溶解度が１０質量％以上である化合物を用いることを特徴とする感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】ヘイズ値が低く、高感度で、表面のタック性が少なく、フィルム化した際の保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物及びこの感光性組成物を用いた感光性フィルム、並びに半導体分野における高精細な永久パターンを高精細に、且つ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及び永久パターンを提供。
【解決手段】側鎖にベンジル基を有する繰り返し単位と、側鎖に酸性基を有する繰り返し単位と、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位とを含有する樹脂（Ａ）、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤として融点が８０℃以上であり、且つメチルエチルケトン（ＭＥＫ）への溶解度が１０質量％以上である化合物（Ｂ）を少なくとも含んでなる感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物であって、通常露光及び液浸露光に於ける、ラインエッジラフネス、パターン形状が改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける、感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。
【解決手段】２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．３を越え１．４以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N₁,N₂を、N₁=n₁−k₁i,N₂=n₂−k₂iとし、上層、下層の膜厚をd₁,d₂とし、[n₁₀,k₁₀,d₁₀,n₂₀,k₂₀,d₂₀]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n₁,k₁,d₁,n₂,k₂,d₂が、以下の関係式を満足する。{(n₁−n₁₀)／(n_1m−n₁₀)}²＋{(k₁−k₁₀)／(k_1m−k₁₀)}²＋{(d₁−d₁₀)／(d_1m−d₁₀)}²＋{(n₂−n₂₀)／(n_2m−n₂₀)}²＋{(k₂−k₂₀)／(k_2m−k₂₀)}²＋{(d₂−d₂₀)／(d_2m−d₂₀)}²≦１ （もっと読む）

【課題】浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を主鎖に有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールの（メタ）アクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 （もっと読む）