【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）カルボニル基若しくはスルホニル基とカルボン酸エステル構造とを有する、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の液浸露光用レジスト組成物は、レジストの基材樹脂の他に、シリコン含有側鎖を有し、酸によりアルカリ可溶性に変化する樹脂を含有するものであって、全樹脂中のシリコン含有量が１質量％以下である。本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】高記録容量および高屈折率変調、かつ光照射による体積変化の少ないホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】芳香環含有基と重合性基とを有するラジカル重合性化合物、前記芳香環含有基を有するポリマーマトリックス、および、光ラジカル重合開始剤を含有する記録層を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト層からの添加剤の析出、特に高温高湿雰囲気下での添加剤の析出を抑制することのでき、かつソルダーレジスト層の硬化性が向上する配線回路基板の製法を提供する。
【解決手段】基材１上に所定の導体回路２パターンを形成した後、この導体回路２パターン形成面に感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂組成物層を形成する。ついで、上記感光性樹脂組成物層面に対して所定パターンのフォトマスクを介して活性光線を照射して露光した後、現像液を用いて所定パターンのソルダーレジスト層３ａを形成する。つぎに、上記形成されたソルダーレジスト層３ａに対して低圧水銀ランプを用いて紫外線光を照射する。 （もっと読む）

【課題】表面処理された基材の製造方法を提供する。
【解決手段】含フッ素環式飽和炭化水素基（Ｆ^Ｕ）と反応性基（Ａ^Ｕ）とを有する含フッ素化合物（Ｆ）を含むフッ素系表面改質剤を基材（Ｓ）に塗工した後に反応させる、表面処理された基材の製造方法。たとえば、含フッ素環式飽和炭化水素基（Ｆ^Ｕ）は、下記化合物（１）〜（５）からなる群から選ばれる環式飽和炭化水素化合物の水素原子をｎ個除いたｎ価の基（ただし、ｎは１〜４の整数を示す。）であって残余の水素原子の５０％以上がフッ素原子に置換された基である。
【化１】
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【課題】 フォトマスクを用いることなく、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】 基材の表面に、少なくとも感光層を形成する感光層形成工程と、該感光層に対し、所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光に使用する前記描素部を指定し、指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う露光工程と、露光された前記感光層を現像する現像工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。該製造方法により製造されるカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜が溶解しないように上層膜剤の塗布前のいわゆるプリウェットを実現し、上層膜剤の省液化を図る。
【解決手段】上層膜形成装置には、スピンチャック１３０と、上層膜を形成するための上層膜剤を吐出する第１のノズル１４３と、上層膜剤用のプリウェット溶剤Ａを吐出する第２のノズル１５０が設けられる。第２のノズル１５０から吐出されるプリウェット溶剤Ａには、炭素数１〜１０の一価または二価のアルコール類、炭素数１〜８のハロゲンを置換基として有していてもよいアルキル基を有するエーテル類、及び炭素数７〜１１の炭化水素類の中から選ばれる一種以上の化合物を含有しているものが用いられる。ノズル１５０からプリウェット溶剤Ａが吐出され、当該プリウェット溶剤Ａがレジスト膜の表面に塗布される。その後ノズル１４３から上層膜剤が吐出され、上層膜剤がスピン塗布法によりレジスト膜の表面に塗布されて上層膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマーレーザーによるパターン形成に適した、低屈折率の上面反射防止膜を形成するための組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】ナフタレン化合物、ポリマー、および溶媒を含んでなることを特徴とする、上面反射防止膜形成用組成物。この組成物は１６０〜２６０ｎｍの光によりパターンを形成するためのフォトレジスト膜の上面反射防止膜を形成するのに用いられる。 （もっと読む）

【課題】表面の疎水性が高く、リソグラフィー特性も良好なレジスト膜を形成できる液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびフッ素原子を含有しかつ酸解離性基を有さない樹脂成分（Ｃ）を含有し、前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ１）を含有し、前記樹脂成分（Ｃ）が、非主鎖環状型の樹脂（Ｃ１）と、主鎖環状型の樹脂（Ｃ２）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物；係るレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成するための感放射線性樹脂組成物に含有される感放射線性樹脂組成物用重合体を提供する。
【解決手段】下記式で表される構造を含有する感放射線性樹脂組成物用重合体。


（前記式中、Ｘ、Ｙは互いに独立に酸素又は硫黄を表し、ｍ、ｎは互いに独立に１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】液浸露光工程を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜用重合体およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられ、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のハイドロフルオロ系溶媒（Ｓ）によって除去されて用いられるレジスト保護膜用重合体であって、フッ素含有量が４０〜７５質量％である特定の単量体（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ^Ｕ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）からなるレジスト保護膜用重合体、および該レジスト保護膜用重合体を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 ソルダーレジスト層にフォトマスクを介して所望パターンを露光しレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、露光光を発生する光源とフォトマスクとの間に、３７０ｎｍ以下の光を５０％以上カットし且つ４００ｎｍ以上の光を８０％以上透過するフィルムを介在させ、光源から発生する露光光を前記フィルム及びフォトマスクを介してソルダーレジスト層に照射することを特徴とするソルダーレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストの露光処理用フォトツールを提供すること。また、該フォトツールを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適な感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 ソルダーレジストのパターン形成における露光処理時に用いられ、フォトマスクを具備するフォトツールにおいて、３７０ｎｍ以下の光を５０％以上カットし且つ４００ｎｍ以上の光を８０％以上透過することを特徴とするフォトツール。 （もっと読む）

【課題】パターンの剥離なく光硬化型パターンを作製可能なネガ露光用フォトマスク、及びこれを用い作製した光硬化型パターンを提供する。
【解決手段】目的とするパターン２４とダミーパターン２５とを含むネガ露光用フォトマスク２１であって、目的とするパターン２４が開口部２２と遮光部２３からなり、該目的とするパターン２４の少なくとも１つの辺に接するようにダミーパターン２５を配置したネガ露光用フォトマスク２１である。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストの露光処理用フォトツールを提供すること。また、該フォトツールを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適な感光性組成物を提供すること。
【解決手段】ソルダーレジストのパターン形成における露光処理に用いられ、フォトマスクを具備するフォトツールにおいて、該フォトマスクのレジスト面側に３７０ｎｍ以下の光を５０％以上カットし且つ４００ｎｍ以上の光を８０％以上透過する保護フィルムを具備することを特徴とするフォトツール。 （もっと読む）

【課題】レジストのラインエッジラフネスの改善に寄与するための親水性基含有ナフチル基骨格を持ち、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステル等の重合性モノマーと共重合させた場合に共重合性が良好で、組成が均一であり、波長１９３ｎｍの光線透過率が高い重合体を得ることができる重合性モノマー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特定のナフタレン骨格を有する重合性モノマー及び特定のモノマーを特定の条件下で反応させる重合性モノマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ネガ型の黒色フォトレジスト、超高圧水銀ランプを用い、ブラックマトリックスを形成する際に、ブラックマトリックスの表面に発生する皺を抑制することが可能なカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を提供する。
【解決手段】超高圧水銀ランプ１に波長３３５ｎｍ以下の近紫外線を吸収する近紫外線吸収フィルタ８を設けて、ガラス基板１２上に設けた黒色フォトレジストの塗膜１１上に、超高圧水銀ランプからの照射光をフォトマスク１０を介して露光を行う。近紫外線吸収フィルタが、波長３３５ｎｍ〜波長２７０ｎｍの近紫外線を吸収するソーダ石灰ガラスであること。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）