【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト組成物。


【効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、矩形性の高いパターンを与えることができ、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト保護膜組成物を提供する。
【解決手段】ＣＦ_２＝ＣＦ−ＣＨ_２ＣＨＲ（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＨ＝ＣＨ_２（Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のフルオロアルキル基を、ｍは０、１または２を、示す。）等の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体であって、繰り返し単位（Ａ）を全繰り返し単位に対して１０モル％以上含む重合体（Ａ）と、ヒドロキシ基、カルボキシ基等の極性基を有する重合性単量体（ｂ）の重合により形成された繰り返し単位を含むアルカリ可溶性の重合体（Ｂ）とを含み、かつ重合体（Ｂ）に対して重合体（Ａ）を０．１〜３０質量％含む液浸露光用レジスト保護膜組成物。 （もっと読む）

【課題】表面が撥インク性に優れたブラックマトリックス付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に撥インク層が製膜された撥インク層付きフィルムとブラックマトリックス層を積層した基板のブラックマトリックス層とを積層する積層工程、基板と反対の側からフォトマスクを通して活性光線を照射する露光工程、現像工程、を少なくとも有するブラックマトリックスパターン付き基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】所定の重合性化合物を組み合わせ、さらに感光層の感度を一定の範囲に調節することにより、感度及び解像度が高く、かつ、テント膜強度が強く、密着性に優れ、未露光膜破れの防止効果に優れるパターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法は未だ提供する。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、前記重合性化合物が、ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）と、分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）とを含有してなり、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法等である。 （もっと読む）

【課題】
別途保護層を設けなくても、ホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔を提供する。
【解決手段】
基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けてなるホログラム転写箔１０において、前記離型層１３がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とし、また、電離放射線硬化性樹脂が特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、また、ホログラム層１５が電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることも特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸塩。


（Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α，β位のみフッ素で置換されているため強い酸性度を示し、ヒドロキシル基を有するため水素結合等により酸拡散長を適度に抑制できる。また、酸ハロゲン化物、酸無水物、ハロゲン化アルキルと反応させることにより様々な置換基の導入が容易であり、分子設計の幅が大きい合成中間体として有用である。更に、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での各種工程に問題なく使用でき、低分子量かつ親水性基を有しているため体内への蓄積性は低く、燃焼廃棄時の燃焼性も高い。 （もっと読む）

【課題】Ｉ／Ｏ値及びガラス転移温度が一定の数値範囲であるバインダーと、Ｉ／Ｏ値が一定の数値範囲であるバインダーとを用いることにより、感光層の厚みが２５μｍ以上であっても、解像度、テント性、密着性、及び剥離に優れ、エッジフュージョンの発生が抑制できるパターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法を提供。
【解決手段】支持体上に厚みが２５μｍ以上の感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０であり、且つ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であるバインダーＡと、Ｉ／Ｏ値が０．７００〜０．９５０であるバインダーＢとを含むことを特徴とするパターン形成材料である。前記パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸塩。


（Ｒ¹はＣ１〜２０のアルキル基、又はＣ６〜１５のアリール基又はＣ４〜１５のヘテロアリール基。Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α，β−位がフッ素で部分置換されているため強い酸性度を示す上、様々な置換基の導入が容易であり、分子設計の幅が大きい。更に、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での各種工程に問題なく使用でき、ＡｒＦ液浸露光の際の水への溶出も抑え、ウエハー上に残る水の影響も少ない。また、エステル部位が塩基性条件下で加水分解されるため、レジスト廃液を適切に処理することで、低分子量の低蓄積性化合物へと変換可能で、燃焼廃棄時の燃焼性も高い。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物、高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物。式（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基であり；Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり；ｎは０〜３の整数であり、Ｚは、置換基としてフッ素原子および／またはフッ素化アルキル基を有する炭素数４〜１２の脂肪族環式基である。
［化１］
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【課題】大画面用の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の作製に好適なパターン形成方法及びＴＦＴアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。
【解決手段】描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ、傾斜角度、描画ピッチ、及び位相差の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して露光を行う露光工程等を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】大画面用の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の作製に好適なパターン形成方法及びＴＦＴアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。
【解決手段】走査方向に対し、描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記ポジ型感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う露光工程等を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する、液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。
【解決手段】レンズとフォトレジスト膜との間に液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、樹脂（Ａ）および下記式（１）および式（２）で表される少なくとも１つの感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含む。


Ｒ¹は水素原子、Ｒ²はアルコキシル基、Ｘはブチレン基、各Ｒ⁴およびＲ⁵は、フッ素化アルキル基である。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が改善され、液浸露光時に於いて、水に対する追随性、およびラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物に好適に用いることができる樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、−ＣＯＮＨＳＯ₂−基とを有する樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸液に対して高い耐性を有することに加え、フッ素を含有しないため、泡かみによる欠陥が発生しにくく、適度なスキャン特性を有する保護膜を形成するための保護膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】空気より屈折率の高い液体（液浸液）を介在させた状態でフォトレジスト膜に放射線を照射し、そのフォトレジスト膜を露光させる液浸露光に際し、前記フォトレジスト膜を前記液浸液から保護する保護膜を形成するために用いられる樹脂組成物であって、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有し、前記脂環式炭化水素基は、その炭素含有量が８５質量％以上のものである保護膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ化学増幅型レジスト用樹脂の提供。
【解決手段】式（１）で表される繰り返し単位を含有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算質量平均分子量が１，０００〜１００，０００である。
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【課題】液浸露光工程の際に、本組成物からなるフォトレジスト被膜が形成された複合基板を、水等の液浸露光用液体中に配置したときにフォトレジスト被膜から溶出する物質の量を低減することができ、得られるレジストパターンの断面形状が良好であり、解像度及び焦点深度にも優れる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本組成物は、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、前記樹脂が、酸の作用によりアルカリ可溶性を発現する構造を有する繰り返し単位を含み、この繰り返し単位の含有量が、前記樹脂を構成する繰り返し単位の全量に対して、６０モル％以上である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に、アルカリ現像液に可溶な保護膜を形成することができ、液浸露光によるパターン形成において、レジスト膜を液浸液から保護しつつ、液浸液により保護膜が膨潤することなく、現像工程において使用するアルカリ現像液で剥離でき、良好なパターンの形成を可能とし、さらには液浸液に対する追随性にも優れる保護膜を形成できる保護膜形成用組成物及び該組成物を用いた液浸露光パターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜上に設けられる保護膜を形成する保護膜形成組成物であって、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を含有する含フッ素原子樹脂、及び、前記レジスト膜を溶解しない溶媒を含有することを特徴とする保護膜形成組成物及び該組成物を用いて液浸露光パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に適したレジスト保護膜材料とパターン形成方法。
【解決手段】炭素数８〜１２のエーテル化合物を溶媒とするレジスト保護膜材料により、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能。またレジスト膜とミキシングしない良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成した時でも、矩形の良好なレジストパターンをより確実に得ることのできるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示されるアミノ基、スルホンアミド基のうち１つ以上を有する繰り返し単位を含む高分子化合物を含有するものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化４９】
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【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）