パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法

【課題】所定の重合性化合物を組み合わせ、さらに感光層の感度を一定の範囲に調節することにより、感度及び解像度が高く、かつ、テント膜強度が強く、密着性に優れ、未露光膜破れの防止効果に優れるパターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法は未だ提供する。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、前記重合性化合物が、ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）と、分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）とを含有してなり、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法等である。

Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、
前記重合性化合物が、ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）と、分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）とを含有してなり、
前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
光重合開始剤の含有量が、前記感光層の固形分全量に対して、５〜２０質量％である請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）が、下記構造式（１）で表される請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【化１】

構造式（１）中、Ｒ_１１及びＲ_１２は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、水素原子、及びメチル基のいずれかを表し、Ａは、エチレン基（−Ｃ_２Ｈ_４−）を表し、Ｂは、プロピレン基（−ＣＨ_２ＣＨ(ＣＨ_３)−）を表し、ｎ_１１及びｎ_１２は、それぞれ１〜２９のいずれかの整数を表し、ｎ_１３及びｎ_１４は、それぞれ０〜２９のいずれかの整数を表し、ｎ_１１＋ｎ_１２の値は、２〜３０のいずれかの整数を表し、ｎ_１３＋ｎ_１４の値は、０〜３０のいずれかの整数を表す。ただし、（Ａ−Ｏ）及び（Ｂ−Ｏ）で表される繰り返し配列は、ランダム配列でもよいし、ブロック配列でもよい。前記（Ａ−Ｏ）及び（Ｂ−Ｏ）で表される繰り返し配列がブロック配列である場合は、ビスフェノール基側の繰り返し配列は、前記（Ａ−Ｏ）及び（Ｂ−Ｏ）で表される繰り返し配列のいずれでもよい。
【請求項４】
構造式（１）におけるｎ_１３＋ｎ_１４の値が、２〜３０のいずれかの整数である請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）の分子量が、１,０００〜２,０００である請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
重合性化合物が、３種以上の重合性化合物を含有する請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）及び分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）以外の重合性化合物をさらに含み、該重合性化合物が、反応性基が３つ以下であり、且つプロピレンオキサイド基及びエチレンオキサイド基の少なくともいずれかを有する重合性化合物（ａ−３）を含む請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）及び分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）以外の重合性化合物が、ウレタン基を有する請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）の含有量が、重合性化合物全固形分量に対して、１０〜９５質量％である請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１０】
分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）の含有量が、重合性化合物全固形分量に対して、２〜５０質量％である請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１１】
バインダーの質量平均分子量が、５０，０００〜１５０，０００である請求項１から１０のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１２】
バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５０〜０．６５０である請求項１から１１のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１３】
感光層が、ヘテロ縮環系化合物をさらに含有する請求項１から１２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１５】
請求項１から１３のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１６】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項１５に記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
露光が、形成するパターン情報に基づいて像様に行われる請求項１５から１６のいずれかに記載のパターン形成方法。

【図２５】