【課題】低コストで感光性膜を保護する保護膜を形成することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロック、レジストカバー膜用処理ブロック、レジストカバー膜除去ブロックおよびインターフェースブロックを含む。レジスト膜用処理ブロックにおいて、基板上にレジスト膜（感光性膜）が形成される。レジストカバー膜用処理ブロックにおいて、レジストカバー膜（保護膜）が形成される。レジストカバー膜は、レジスト膜上に有機溶媒を供給した後にレジストカバー膜の処理液を供給することにより形成される。有機溶媒およびレジストカバー膜の処理液は、レジスト膜の成分に応じて決定される。 （もっと読む）

【課題】感光性セラミックスグリーンシートに関し、パターン加工性、保存安定性を向上した感光性セラミックスグリーンシート及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】感光性有機成分と無機粉末とを含有する感光性セラミックス組成物が支持体上に形成された支持体付感光性セラミックスグリーンシートに、透過率が９０〜１００％でかつ厚さが２〜２０μｍのカバーフィルムが設置されている支持体付感光性セラミックスグリーンシート。 （もっと読む）

【課題】光などのエネルギー線によりラジカルを発生し感光性組成物中の重合性化合物の重合を効率的に開始する高感度なラジカル発生剤として作用する新規なオキシム誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）及び下記一般式（Ｂ）のいずれかで表される部分構造を有することを特徴とするオキシム誘導体。高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。


（もっと読む）

【課題】スループットが向上されるとともに、露光後に迅速に基板の加熱処理を行うことができる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、載置兼ベークユニットＰＡＳＳ−ＰＥＢを含む。露光装置１６において露光処理が施された基板Ｗは、第２の洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ２において洗浄および乾燥処理が施された後、載置兼加熱ユニットＰ−ＰＥＢに搬入される。載置兼加熱ユニットＰ−ＰＥＢにおいては、基板Ｗに対して露光後ベーク処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】保存時の低温下又は常温下では反応を生じず、保存安定性に優れ、表面のタック性が小さく、フィルム化した際のラミネート性及び取扱い性が良好であり、保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、高感度で現像性にも優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、耐熱性、誘電特性、電気絶縁性などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物。
【解決手段】（Ａ）バインダーと、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）軟化点及び融点の少なくともいずれかが、５０〜２５０℃であり、かつ溶媒に可溶である熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（式中、Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基を示す。Ｒ¹は構成炭素上の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示す。ＷはＣＨ₂、酸素原子、硫黄原子のいずれかを示す。）
【効果】本発明のラクトン含有化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射線レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、高解像性かつ液侵媒体である水への溶出及び水の浸入を抑制し、この高分子化合物がレジスト材料として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法で発生する液浸特有のレジスト欠陥を極力抑制する。
【解決手段】化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜101とそれを覆う保護膜102とが形成された被処理基板100を所定の液体103を表面に保持しながら露光する液浸露光工程と、露光された被処理基板100を熱処理する露光後ベーク工程と、熱処理された被処理基板100を現像液を用いて現像する現像工程とを行う、フォトレジストパターン形成方法において、前記液浸露光工程と露光後ベーク工程との間に、被処理基板上の保護膜102を剥離液110で剥離する剥離工程を行う。保護膜102を浸透してレジスト膜101との界面に到達した液体103があって、その液体103中にレジスト膜101から反応性物質が溶出していても、保護膜102とともに除去することができるので、露光後ベーク時に、溶出した反応性物質に起因する脱保護の促進・抑止を抑えることができ、レジスト欠陥を低減できる。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下、露光後に現像する際の最短現像時間が１５〜５０秒間である。前記感光層を、線幅１０〜４０μｍでライン／スペース＝１／１の露光により形成されるラインパターンと、Ｌ／Ｓ＝１／１００の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が５μｍ以下、バインダーのＩ／Ｏ値が、０．５〜０．８、重合性化合物のＩ／Ｏ値が、０．５〜１．５、また、バインダーと重合性化合物との質量比（バインダー／重合性化合物）が、１〜２である。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域において高い透明性と不感性とが得られ、ＰＥＤ効果抑制に優れ、アルカリ現像液に可溶であり、現行のレジストプロセスの現像工程にて除去可能であり、かつ高い撥水性を有するレジスト保護膜の提供。
【解決手段】Ｃ−Ｆ結合およびＣ−Ｓｉ結合を有する含ケイ素重合体（Ａ）を含むレジスト保護膜。ここで前記含ケイ素重合体（Ａ）がＣ−Ｆ結合を有する単量体およびＣ−Ｓｉ結合を有する単量体を共重合して得られる重合体が好ましい。また前記Ｃ−Ｓｉ結合を有する単量体が、ＣＨ_２＝ＣＲ^４−ＣＯＯ−Ｘ−Ｓｉ（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３）で表される単量体であることが好ましい。ただしＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３はエーテル性酸素原子および／またはＳｉ原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ^４は水素原子またはメチル基、Ｘは単結合または炭素数１〜８の２価の有機基。 （もっと読む）

【課題】前記保護フィルムによる前記感光層へのシワの転写がなく、高精細なパターンを形成可能な前記感光性転写材料、及び該感光性転写材料を用い、前記パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層と保護フィルムとをこの順に有し、前記保護フィルムが、巻取りコア上に５００ｍ以上巻取られたフィルムロールの形態において、該フィルムロールを、温度２０〜２５℃、相対湿度５５〜６５％の条件下で前記巻取りコア方向に水平に設置した際、前記フィルムロールの巻取り径方向の下方に生じる弛み量の最大値が５ｍｍ以下であることを特徴とする感光性転写材料である。該感光性転写材料の感光層を基材上に積層し、積層された前記感光層に対し、露光及び現像を行うパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 従来のエネルギー線硬化性組成物に比べて非常に少ない芳香族系光重合開始剤含有量、又は芳香族化合物を全く含有しないにもかかわらず実用的な硬化性を有する活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 ２個のカルボニル基に挟まれた炭素原子が四級炭素である置換β−ジカルボニル構造を分子内に１個以上有する化合物（Ａ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物及び該組成物を用いた効率的な硬化皮膜形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】混色や白抜け等の発生を抑制することができ、画素を位置精度良く形成することができ、液晶表示装置に搭載したときに表示ムラを抑制することができる、低コストかつ高効率なカラーフィルターの製造方法、この方法によって得られたカラーフィルター、このカラーフィルターを備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に遮光性を有する隔壁を形成し、該隔壁により区切られた凹部に、インクジェット方式によってＲ、Ｇ、Ｂの各色のインクを付与することにより着色層を形成するカラーフィルターの製造方法であって、前記隔壁が、光重合性遮光層を貧酸素条件下で露光することにより形成され、前記インクが、着色剤、重合性化合物および重合開始剤を含み、かつインク中の溶剤量が５０質量％以下であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、特定の酸素含有置換基を有するナフタレン環を側鎖に含む繰り返し単位（ａ）及び特定のスルホニウム塩基を側鎖に有する繰り返し単位（ｂ）を必須単位として含む高分子化合物をレジスト材料として使用することで高いドライエッチング耐性が得られる。 （もっと読む）

【課題】通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュード（ＤＯＦ）を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、および
（Ｄ）溶剤を含有し、
樹脂（Ｃ）が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれか及び脂環構造を有する樹脂（Ｃ１）、及び、側鎖にフッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位及び側鎖に無置換アルキル基を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ｃ２）の少なくともいずれかであることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率変化、柔軟性、高感度、低散乱、耐環境性、耐久性、低収縮性、及び高多重度が達成される、体積型ホログラム記録に適したホログラム記録材料、及びホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも２種の金属、酸素、及び芳香族基を少なくとも有し、且つ２つの芳香族基が１つの金属に直接結合している有機金属単位を有している有機金属化合物と、金属酸化物微粒子と、光重合性化合物とを含むホログラム記録材料。金属酸化物微粒子は、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、ジルコニア微粒子、及び前記金属酸化物を構成する金属原子の１種以上を含む複合酸化物微粒子からなる群から選ばれる。ホログラム記録材料層２１を有するホログラム記録媒体１１。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れた感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくともバインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び炭素系ナノ材料を含む感光性組成物である。本発明の感光性組成物は、パターン情報に基づいて、光を変調しながら露光ヘッドと感光層の被露光面とを相対走査することによる前記被露光面上の二次元パターンの形成に用いられ、或いは、感光層を露光し現像した場合に、露光及び現像後において、前記感光層の被露光部の厚みが変化しない露光の最小エネルギー量が０．１ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である感光層に含有されるものである。また本発明は、前記感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）の重合による、繰り返し単位（２）を含むレジスト材料。


（Ｒ¹はＦ、又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ²はＨ、又はアルキル基。Ｒ³はＯ、又はアルキレン基。Ｒ⁴及びＲ⁵はＨ、又はアルキル基又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ⁶はＨ又は酸不安定基。）
【効果】レジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性と透明性、エッチング耐性を有し、ＡｒＦ液浸リソグラフィーでも高い性能を発揮する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）、ＰＥＢ温度依存性及びパターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位（Ａ１）を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】露光後のレジスト硬度を高めることができ、耐現像液性に優れ、ドット欠けなどの欠陥のない高品位なフォトスペーサを形成可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置の提供。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びバインダーを少なくとも含有し、二次元状に並んだ空間光変調デバイスを用いて画像データに基づいて３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある単色光又は輝線を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式に使用されるフォトスペーサ用感光性樹脂組成物であって、前記単色光又は輝線の波長におけるＯＤが０．０５〜１．２の範囲であり、前記バインダーが架橋性基を含有することを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたスペーサ付き基板及びその製造方法並びに液晶表示装置。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）で示されるスルホン酸塩。
Ｒ¹ＳＯ₃−ＣＨ（Ｒｆ）−ＣＦ₂ＳＯ₃^-Ｍ⁺ （１）
（Ｒ¹は置換もしくは非置換の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数６〜１５のアリール基を示す。Ｒｆは水素もしくはトリフルオロメチル基を示す。Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオンを示す。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α位（及びγ位）、β位にそれぞれ電子吸引性基であるフッ素、スルホニルオキシ基を有しているため強い酸性度を示す。その上、エステル部を置換することにより、嵩の高いものから低いものまで様々な置換基の導入が容易で、分子設計の幅を大きく持つことができる。 （もっと読む）