オキシム誘導体、感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
【課題】光などのエネルギー線によりラジカルを発生し感光性組成物中の重合性化合物の重合を効率的に開始する高感度なラジカル発生剤として作用する新規なオキシム誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式(A)及び下記一般式(B)のいずれかで表される部分構造を有することを特徴とするオキシム誘導体。高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。
【解決手段】下記一般式(A)及び下記一般式(B)のいずれかで表される部分構造を有することを特徴とするオキシム誘導体。高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式(A)及び下記一般式(B)のいずれかで表される部分構造を有することを特徴とするオキシム誘導体。
【化1】
【化2】
ただし、前記一般式(A)及び前記一般式(B)中、Aは、窒素原子と二重結合を少なくとも一つ有する複素環基を表し、Arは、芳香族基、及び複素環基のいずれかを表し、Y1は、水素原子、及び一価の置換基のいずれかを表し、Y2は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−CO−Y5、−CO2−Y5、−SO−Y5、−SO2−Y5、及び−CONY3Y4のいずれかを表す。Y5は、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基のいずれかを表し、Y3及びY4は、脂肪族基、及び芳香族基のいずれかを表し、mは1以上の整数を表す。
【請求項2】
A−Arの部分骨格を有するものが、蛍光増白剤核である請求項1に記載のオキシム誘導体。
【請求項3】
複素環基が、オキサゾール環基、チアゾール環基、イミダゾール環基、イミダゾリン環基、及びピラゾリン環基のいずれかである請求項1に記載のオキシム誘導体。
【請求項4】
複素環基が、ピラゾリン環基を有する請求項3に記載のオキシム誘導体。
【請求項5】
バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、請求項1から4のいずれかに記載のオキシム誘導体を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項6】
熱架橋剤を、更に含む請求項5に記載の感光性組成物。
【請求項7】
増感剤を含み、該増感剤が、縮環系化合物、及び少なくとも芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも1種である請求項5から6いずれかに記載の感光性組成物。
【請求項8】
支持体と、該支持体上に請求項5から7のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層と、を少なくとも有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項9】
基体上に、請求項5から8のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性積層体。
【請求項10】
感光層が、請求項8に記載のパターン形成材料により形成された請求項9に記載の感光性積層体。
【請求項11】
請求項9から10のいずれかに記載の感光性積層体を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記感光性積層体における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項12】
請求項9から10のいずれかに記載の感光性積層体における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項13】
感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するn個(ただし、nは2以上の自然数)の2次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、N重露光(ただし、Nは2以上の自然数)に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる請求項12に記載のパターン形成方法。
【請求項14】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項12から13いずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
現像が行われた後、エッチング処理及びめっき処理の少なくともいずれかを行う請求項14記載のパターン形成方法。
【請求項16】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項14に記載のパターン形成方法。
【請求項17】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項16に記載のパターン形成方法。
【請求項1】
下記一般式(A)及び下記一般式(B)のいずれかで表される部分構造を有することを特徴とするオキシム誘導体。
【化1】
【化2】
ただし、前記一般式(A)及び前記一般式(B)中、Aは、窒素原子と二重結合を少なくとも一つ有する複素環基を表し、Arは、芳香族基、及び複素環基のいずれかを表し、Y1は、水素原子、及び一価の置換基のいずれかを表し、Y2は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−CO−Y5、−CO2−Y5、−SO−Y5、−SO2−Y5、及び−CONY3Y4のいずれかを表す。Y5は、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基のいずれかを表し、Y3及びY4は、脂肪族基、及び芳香族基のいずれかを表し、mは1以上の整数を表す。
【請求項2】
A−Arの部分骨格を有するものが、蛍光増白剤核である請求項1に記載のオキシム誘導体。
【請求項3】
複素環基が、オキサゾール環基、チアゾール環基、イミダゾール環基、イミダゾリン環基、及びピラゾリン環基のいずれかである請求項1に記載のオキシム誘導体。
【請求項4】
複素環基が、ピラゾリン環基を有する請求項3に記載のオキシム誘導体。
【請求項5】
バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物が、請求項1から4のいずれかに記載のオキシム誘導体を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項6】
熱架橋剤を、更に含む請求項5に記載の感光性組成物。
【請求項7】
増感剤を含み、該増感剤が、縮環系化合物、及び少なくとも芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも1種である請求項5から6いずれかに記載の感光性組成物。
【請求項8】
支持体と、該支持体上に請求項5から7のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層と、を少なくとも有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項9】
基体上に、請求項5から8のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層を有することを特徴とする感光性積層体。
【請求項10】
感光層が、請求項8に記載のパターン形成材料により形成された請求項9に記載の感光性積層体。
【請求項11】
請求項9から10のいずれかに記載の感光性積層体を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記感光性積層体における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項12】
請求項9から10のいずれかに記載の感光性積層体における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項13】
感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するn個(ただし、nは2以上の自然数)の2次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、N重露光(ただし、Nは2以上の自然数)に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる請求項12に記載のパターン形成方法。
【請求項14】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項12から13いずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
現像が行われた後、エッチング処理及びめっき処理の少なくともいずれかを行う請求項14記載のパターン形成方法。
【請求項16】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項14に記載のパターン形成方法。
【請求項17】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項16に記載のパターン形成方法。
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図32】
【図33】
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図6】
【図7A】
【図7B】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20A】
【図20B】
【図21A】
【図21B】
【図22】
【図23A】
【図23B】
【図24】
【図31A】
【図31B】
【図34A】
【図34B】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図32】
【図33】
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図6】
【図7A】
【図7B】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20A】
【図20B】
【図21A】
【図21B】
【図22】
【図23A】
【図23B】
【図24】
【図31A】
【図31B】
【図34A】
【図34B】
【公開番号】特開2007−197390(P2007−197390A)
【公開日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−19700(P2006−19700)
【出願日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【出願人】(306037311)富士フイルム株式会社 (25,513)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成19年8月9日(2007.8.9)
【国際特許分類】
【出願日】平成18年1月27日(2006.1.27)
【出願人】(306037311)富士フイルム株式会社 (25,513)
【Fターム(参考)】
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