【解決手段】下記一般式（１ａ）で示されるスルホン酸塩。
ＣＦ₃−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＦ₂ＳＯ₃^-Ｍ⁺ （１ａ）
（式中、Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオンを示す。）
【効果】本発明によれば、分子内に極性基であるヒドロキシル基を有しているため、水素結合等により酸拡散長を適度に抑えることができ、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。更にはＡｒＦ液浸露光の際にウエハー上に残る水の影響も受けにくく、欠陥を抑えることができる。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示されるスルホン酸塩。
ＣＦ₃−ＣＨ（ＯＣＯＲ）−ＣＦ₂ＳＯ₃^-Ｍ⁺ （１）
（Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数６〜１４のアリール基を示す。Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン）
【効果】本発明のスルホン酸は、分子内にエステル部位を有しているため、嵩の低いアシル基から嵩高いアシル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、アントライル基等の導入が容易であり、分子設計の幅を大きく持つことができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を液浸露光用の液体から保護するバリア膜を通して該液体がレジスト膜に浸透することを防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】パターン形成方法は、基板１０１の上に形成したレジスト膜１０２の上に、ポリマーと該ポリマーに熱により架橋反応を生じさせる架橋剤とを含むバリア膜１０３を形成する。続いて、形成されたバリア膜１０３を加熱してポリマーを架橋した後、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射してパターン露光を行なう。続いて、バリア膜１０３を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０３に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】解像度が高く、長時間現像を行ってもテント膜強度が維持低下しにくく、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び染料を含み、前記重合性化合物が、分子内に４個以上のウレタン基を有する化合物を含有する。前記分子内に４個以上のウレタン基を有する化合物が、２つ以上のエチレン性重合基を更に有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高感度で表面のタック性が少なく、現像性、保存安定性に優れ、フィルム化した際の剥離性に優れ、現像後は優れた耐熱性、耐薬品性、表面硬度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物、及び感光性フィルム、並びに、半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】含窒素へテロ環構造を少なくとも有するエポキシアクリレート化合物を少なくとも含む感光性組成物である。また、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物が積層されてなる感光層とを少なくとも有してなる感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト層の下層に、高反射率界面が存在した場合でも、現像後におけるフォトレジストの断面形状を損なうことなく、高アスペクト比で形成可能な干渉露光法によるフォトレジストパターン、その形成方法、それらを用いた光学部品を提供する。
【解決手段】基板上に高反射界面を含む単層または多層構造を有し、その上層に反射防止層を介して設けられたフォトレジスト層に、干渉露光法による露光を施し、現像を経て形成された干渉露光法によるフォトレジストパターンがつぎのような構成を有している。
前記反射防止層が、前記露光に用いられる光源波長における該反射防止層の屈折率をｎ、消衰係数をｋとし、これらｎとｋとによる複素屈折率をｎ−ｉｋとするとき、
前記消衰係数ｋが０．３以上、１以下とされ、膜厚が５０ｎｍ以上とされている。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、かつ高多重記録が可能な光記録用組成物、情報光及び参照光により形成する干渉像の高多重記録化を図ることができるホログラム型の光記録媒体及びその製造方法、並びに該光記録媒体を用いる光記録方法及び光記録装置を提供すること。
【解決手段】本発明の光記録用組成物は、光重合開始能を有する部位が結合してなるバインダーにおける光重合開始能を有する部位の含有量が、全光記録用組成物の固形分中、０．３〜６質量部である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】液体を介して基板を露光する液浸露光において、露光不良の発生を抑制し、基板を良好に露光することができる露光方法を提供する。
【解決手段】液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。また、基板の基材上に反射防止膜を形成した後、反射防止膜上にＨＭＤＳ層を形成して、表面エネルギーを調整することにより異物の付着を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】特に有機膜の表面に空気より屈折率が大きい所定厚さの液体を介在させた状態で有機膜を露光する液浸露光プロセスにおいて、微細なパターンを形成できる有機膜組成物を探索するための有機膜の液浸リソグラフィ溶解成分測定方法を提供すること。
【解決手段】基板１２上に形成された有機膜１３の表面に液浸リソグラフィ用の液浸媒体の液滴１５を載置し、この液滴１５を前記有機膜１３の表面を等線速で移動させながら前記有機膜１３中の成分を前記液滴１５中に移行させ、前記液滴１５中の滲出成分濃度を測定することにより有機膜組成物の液浸リソグラフィ適性を測定する。この測定方法によると、有機膜１３中の溶解成分の検出感度が非常に向上するので、有機膜組成物の液浸リソグラフィ適性を的確に判断することができるようになる。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＯＳ等のフッ素系界面活性剤を用いることなく、人体に対する悪影響がなく安全で、低屈折率、透明性、塗布均一性等に優れる上層反射防止膜の形成や、液浸露光法において浸露光用液体によるホトレジスト膜への影響を抑制し、かつホトレジスト膜からの溶出成分による液浸露光用液体自体に与える影響を抑制し得る保護膜の形成に、好適に適用されるホトレジスト上層膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記式（I）で示す構成単位を有するフッ素含有ポリマーを含む、基板上のホトレジスト層上に積層して用いるホトレジスト上層膜形成用材料。


〔式中、Ｑはカルボキシル基、水酸基；Ａは炭素数１〜５のアルキレン基、あるいは存在しない；ｍは繰り返し単位；ｎは１〜５の整数。〕 （もっと読む）

【課題】高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始系化合物を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物と、オキシム誘導体とを含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】熱によって硬化可能で保存安定性に極めて優れ、硬化後は優れた耐薬品性、硬度、誘電特性及び電気絶縁性などを発現する熱硬化性樹脂組成物の提供。該硬化促進剤を使用した感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】１分子中に少なくとも１個以上カルボキシル基及びアミド基を共有し、該カルボキシル基が熱によって脱離可能な保護基で保護されていることを特徴とする硬化促進剤とエポキシ化合物を含む熱硬化性樹脂組成物。また、１分子中に１個以上のカルボキシル基及びエステル基のいずれかを有する重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、本発明の硬化促進剤とを少なくとも含む感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法。 （もっと読む）

【課題】 良好な形状のパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層に対し、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査して露光し２次元画像の形成を行うパターン露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、を少なくとも経て、カラーフィルター部材のパターンを形成するパターン形成方法であって、前記感光性樹脂層のγが１〜１５であり、前記パターン露光に用いられる露光装置の消光比が１０％以下であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像性、硬化膜のテント性、密着性に優れ、かつエッチング時の剥離性、解像性にも優れ、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、前記バインダーが、ウレタン基を含有するバインダーと、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーと、を含有することを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法である。前記スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するバインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５である態様、ウレタン基を含有するバインダーの含有量が、バインダーの総量に対して５〜３５質量％である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイルに優れＰＥＢ温度依存性を改善したポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ１）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、
（Ａ２）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、および、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
を含有するポジ型レジスト組成物であって、該酸分解樹脂（Ａ１）、（Ａ２）とも、残留モノマーが各樹脂に対して０．５質量％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】多種多様な性質のカバー膜に対応した除去処理を行うことができるカバー膜除去装置を提供する。
【解決手段】レジスト膜の上にカバー膜が形成された基板Ｗは露光処理後にカバー膜除去装置１に搬入される。カバー膜除去装置１は、基板Ｗを保持して回転させる保持回転部１０と、基板Ｗの表面にカバー膜を溶解する溶媒（剥離液）を互いに異なる形態にて吐出する３種類のノズル（スリットノズル２０，ストレートノズル４０，二流体ノズル６０）と、これらの要素の各駆動部を制御する制御部９０と、を備える。基板Ｗ上のカバー膜の性質に応じてスリットノズル２０，ストレートノズル４０，二流体ノズル６０を使い分けることができる。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置のカラーフィルタ基板の透明着色画素の着色反射部ｂに１０μｍ径あるいはそれ以下の微細なスルーホールを形成することができる感光性着色組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】光重合性モノマー、樹脂バインダー、重合開始剤、着色剤及び溶剤を含有して構成される感光性着色組成物であって、横軸を露光量の常用対数、縦軸を現像後残膜率としてプロットした露光感度曲線において、この露光感度曲線の立ち上がりの角度をθとしたとき、このθの正接で定義されるγ（コントラスト）が１．３３以上であり、かつ、現像後残膜率が８５％以上となる最小露光量の２３％以下の露光量で、現像後残膜率が０％である感光性着色組成物を使用して、反射部に微細なスルーホールを有する透明着色画素を形成して、カラーフィルタ基板を作製する。 （もっと読む）

【課題】表示装置用部材用に高解像度化した露光装置を用いても、感光層の表面を平坦にし、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れた液晶表示装置などに好適に用いられる表示装置用部材の製造方法、及び表示特性に優れた表示装置用部材、並びに該表示装置用部材を用いた表示装置を提供すること。
【解決手段】感光性組成物からなり、基材上に形成された感光層に対して、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、感光層のいずれかを移動させつつ、光照射手段から出射された光を光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら露光ヘッドから照射して、感光層を露光する露光工程を含み、感光性組成物が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、感光層の厚みが０．１〜６μｍ、かつ感光層における最大の厚みと最小の厚みとの差が、平均厚みの３％以内である表示装置用部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】干渉縞を忠実に記録することができ、コントラストの高い再生像が得られるホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】マトリクス材料と、少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーと、光ラジカル重合開始剤と、光イニファータとを含有する記録層を具備したことを特徴とするホログラム記録媒体。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の上に形成されたカバー膜を確実に除去して現像欠陥を防止することができる基板現像技術を提供する。
【解決手段】露光処理後の基板を回転させつつＳ１、その表面に希釈現像液を供給するＳ２。希釈現像液とはレジスト膜の現像処理に使用する現像液よりも濃度の低い現像液である。レジスト膜の上に形成されたカバー膜は比較的低濃度の希釈現像液であっても溶解し、剥離する。また、希釈現像液であればレジスト膜の実質的な現像処理は進行しない。続いて、基板表面に純水を供給して希釈現像液および剥離したカバー膜を洗い流すＳ３。その後、基板の表面に通常の現像液を供給して現像処理を行うＳ５。 （もっと読む）