【課題】高感度で経時安定性に優れた感光性組成物、それを用いた高密度に機能性材料を保持しうるポリマー層を備えた積層体、高密度に金属粒子が存在し、且つ、支持体に対する密着性に優れた画像様の金属膜を備えた遮光材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合開始剤と、（Ｂ）下記一般式（１）で表される架橋性ポリマーを含むことを特徴とする感光性組成物である。一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は水素原子、又はアルキル基を示す。Ａは、カルボキシル基等の酸基を含む置換基を示し、Ｂは、カルボキシル基等酸基のアンモニウム塩から選択される部分構造を含む置換基を示し、Ｃは、架橋性基を含む置換基を示し、Ｄはアルキル基等である。ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは表示された構造単位のモル比を表す。
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【課題】高精細なパターンを形成すること、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材上にパターン状に形成された光触媒含有層２とを有する光触媒含有層側基板３と、光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層５を有するパターン形成体用基板６とを、所定の方向からエネルギーを照射することにより、特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属ペーストを塗布することにより、パターン状に金属ペーストを付着させる金属ペースト塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属ペーストを固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク等の遮光材料の製造に好適であり、表面の平滑性が高い金属パターン材料が得られる製造方法、及び、該製造方法により得られた金属パターン材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）ガラス基板上に、金属粒子との相互作用を形成しうる官能基、或いは、金属イオン又は金属塩との相互作用を形成しうる官能基を有し、且つ、少なくとも該ガラス基板に片末端で直接化学結合したポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、（Ｂ）前記ポリマー層上にレジストパターンを形成し、該レジストパターンの形成領域及び非形成領域のいずれか一方の領域におけるポリマー層に、金属粒子を含有する領域をパターン状に形成する工程と、を有することを特徴とする金属パターン材料の製造方法、及び該製造方法により得られた金属パターン材料。 （もっと読む）

【課題】可視光領域で高感度な光反応性を持つ機能性支持体、及び、それを用いて形成された、高感度で、加熱保存後も経時的な膜厚の減少が抑制されたグラフトパターン層を備えるグラフトポリマー層積層体、それを用いて得られる金属イオン含有材料、金属膜積層体を提供する。
【解決手段】支持体上に、光重合開始能を有する開始部位と支持体との結合部位とを有するオキシムエステル化合物を、該結合部位を介して結合させてなる機能性支持体である。該機能性支持体表面に、重合性基を有する化合物を含む組成物を接触させた後、エネルギーを付与することで、支持体表面に直接結合してなるグラフトポリマー層を有するグラフトポリマー層積層体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上の被処理膜に所定の微細なパターンを効率よく形成する。
【解決手段】ウェハＷ上に被処理膜Ｆ、反射防止膜Ｂ、レジスト膜Ｒを下から順に形成する（図５（ａ））。レジスト膜Ｒと反射防止膜ＢにパターンＲ１、Ｂ１をそれぞれ形成する（図５（ｂ））。パターンＲ１をマスクとして被処理膜Ｆをエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ１を形成する（図５（ｃ））。パターンＢ１の側壁部を溶解して、反射防止膜ＢにパターンＢ２を形成する（図５（ｄ））。パターンＢ２を覆うように犠牲膜Ｇを形成する（図５（ｅ））。パターンＲ１、Ｂ２をそれぞれ除去する（図５（ｆ））。犠牲膜ＧをマスクとしてパターンＦ１をエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ２を形成する（図５（ｇ））。犠牲膜Ｇを除去する（図５（ｈ））。 （もっと読む）

【課題】有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版から製版するに当たって、版の裏面から版面保護層が剥離することを抑制し、搬送、折り、孔穿、集積、印刷等の工程を汚染することのない、平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体の片面に感光性記録層を有し、感光性記録層を有する面に対して反対面のアルミニウム支持体上に有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版を、画像様に露光し、現像処理した後に、下記一般式（１）で示される共重合体を含む版面保護液で処理する製版方法。
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【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数の第一のレジストパターン３を形成し、第一のレジストパターン３の表面に、それぞれオキサゾリン基を含有するポリマーを含む被覆膜形成用材料を用いて被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成された第二のレジストパターン７とからなるパターンを支持体１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】十分に高い感度及び解像度でレジストパターンを形成できると共に、形成されたレジストパターンの剥離特性に十分に優れる感光性樹脂組成物。
【解決手段】（Ａ）（１）（メタ）アクリル酸，（２）スチレン誘導体および（３）（メタ）アクリル酸フェノキシアルキルエステル誘導体構造単位を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】イオン注入のためのドーピング角を確保して残膜率を調節できるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ポリヒドロキシスチレンを含むフォトレジストを利用して残膜率を４０％ないし８５％に調節でき、透過率１０％ないし３０％のマスクを利用して残膜率を６０％ないし８５％に調節できる。フォトレジストパターンの残膜率を調節することによって、不均一なドーピング領域を形成できるドーピング角を確保するフォトリソグラフィー工程を提供できる。 （もっと読む）

【課題】無機レジスト層の凹凸パターン上に導電層を形成することなく、電鋳を施し、転写性の良い光ディスク用スタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、０．５ａｔｏｍ％〜１．０ａｔｏｍ％の範囲でＳｎ（スズ）を含有する無機レジスト層１２を形成し、無機レジスト層１２を部分的に除去して所定形状の凹凸パターンを有する光ディスク原盤を作製し、凹凸パターンに酸処理又はアルカリ処理を行って凹凸パターンの表面を活性化状態にし、凹凸パターン上に金属層１６を形成し、金属層１６を凹凸パターンから剥離してスタンパを形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度に金属粒子が存在し、且つ、支持体に対する密着性に優れた画像様の金属膜を備えた薄層金属膜材料を提供すること。
【解決手段】本発明の薄層金属膜材料は、支持体と、該支持体上に重合性基を有するカップリング剤を用いて形成された中間層と、該中間層に対し、架橋性基を有する化合物を含む組成物を接触させた後、該組成物に画像様にエネルギーを付与して生成した、該中間層表面に直接結合してなるポリマーからなる画像様のポリマー層と、該画像様のポリマー層中に含有される金属粒子と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜した際の基板との密着性に優れ、高膜厚、高アスペクト比の微細な樹脂パターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物に密着増強剤としてジフェニルスルホン又はその誘導体を含有させる。ジフェニルスルホン誘導体としては、ジフェニルスルホンの１以上の水素原子がアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、フッ素原子、塩素原子、又は酸無水物で置換されたものが好ましい。その中でも、ジフェニルスルホンの３，３’位及び／又は４，４’位の水素原子がアミノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、フッ素原子、塩素原子、又は酸無水物で置換されたものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法において有用である、除去可能な撥液性層を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】パーフルオロアルキル基含有重合性不飽和モノマーと他の重合性不飽和モノマーとを共重合することにより得られる、酸価２０〜２００であるパーフルオロアルキル基含有樹脂（Ａ）；および ジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）；を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】インクの残渣が発生しにくい隔壁と、インクの濡れ性に優れたドットを形成しうる含ケイ素重合体を含む感光性組成物の提供。
【解決手段】エチレン性二重結合を有する単量体の２種以上の共重合体であって、ケイ素原子含有基を有する側鎖と、側鎖１つにエチレン性二重結合を２つ以上有する側鎖とを有する含ケイ素重合体（Ａ）と、１分子内に酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含有する組成物であって、組成物の全固形分における含ケイ素重合体（Ａ）の割合が０．１〜２５質量％である感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法において有用である、除去可能な撥液性層を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】パーフルオロアルキル基含有重合性不飽和モノマーと、ターシャリーブチル基で保護されたカルボキシル基を有する重合性不飽和モノマーおよび／またはターシャリーブチルオキシカルボニル基で保護されたフェノール基を有する重合性不飽和モノマーと、を少なくとも共重合することにより得られる、パーフルオロアルキル基含有樹脂（Ａ）；および、露光により酸を生じる光活性剤（Ｂ）；を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】グラフトポリマーを高感度で生成しうる積層体、及び該積層体を用い、高感度でグラフト膜又はグラフトパターンを形成する方法を提供することにある。
【解決手段】基材と、ラジカル重合開始部位と該基材に直接化学結合可能な部位とを有する化合物が前記基材に化学結合してなる重合開始層と、ラジカル重合可能な不飽和部位を有する化合物、及び、加熱又は露光によりラジカルを発生しうる化合物を含有するグラフトポリマー前駆体層と、をこの順に有することを特徴とする積層体、該積層体に対し、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長の全面露光又は像様露光を行い、前記ラジカル重合可能な不飽和部位有するポリマーを前記重合開始層表面に直接結合してグラフトポリマーを生成させることを特徴とするグラフト膜形成方法、グラフトパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、第１及び第２のレジスト膜１０４、１０７は、化学増幅型のレジスト膜であり、第２のレジスト膜１０７は、第１のレジスト膜１０４よりも、レジストの感度を向上させる添加物、若しくはレジスト露光部のアルカリ溶解性を向上させる添加物を多く含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングの解像度を最大限に発揮し得るパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３、及び第１のレジスト膜１０４を形成した後、１回目の露光を行い、第１のレジストパターン１０４ａを形成する。その後、第１のレジストパターン１０４ａを中間層膜１０３に転写して、第１の中間層パターン１０３ａを形成した後、その上に第２のレジスト膜１０７を形成し、２回目の露光を行い、第２のレジストパターン１０７ａを形成する。その後、第２のレジストパターン１０７ａを中間層膜１０３に転写して、第２の中間層パターン１０３ｂを形成する。第２のレジスト膜１０７を除去後、第２の中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして、下層膜パターン１０２ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池の実現を可能とする負極基材、この負極基材を用いた二次電池、この負極基材の形成に用いられるポジ型ホトレジスト組成物、及びこの負極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物により形成された有機膜を備えた支持体に、金属膜を形成してなることを特徴とする負極基材、又は前記有機膜をパターン露光により所定形状にパターン化したパターン化有機膜を備えたことを特徴とする負極基材によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 （もっと読む）