【課題】凹凸パターンを有する無機物層を作業性良く形成できる製造方法を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】（Ｉ）基板１上に無機物粒子を有する樹脂組成物層２を圧着、（ＩＩ）感光性樹脂組成物層３を積層圧着、（ＩＩＩ）活性光線５を照射、（ＩＶ）現像によりパターンを形成、（Ｖ）パターンの上部から圧力をかけ、樹脂組成物層に、パターンを埋め込む工程、（ＶＩ）パターンを除去して凹凸パターンを形成、（ＶＩＩ）焼成して凹凸パターンを有する無機物層を形成する工程、を少なくとも含む凹凸パターンを有する無機物層の製造法。 （もっと読む）

【課題】パターン表面に、低温で、耐エッチング性が高く、均一な膜を形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物（Ｗ）が溶剤（Ｓ）に溶解しており、前記溶剤（Ｓ）が、前記金属化合物（Ｗ）と反応する官能基を有さない溶剤（Ｓ１）を含有する膜形成用材料を用いてパターンを形成する方法であって、基板と有機膜とを備えた積層体の前記有機膜上に形成されたパターンを前記膜形成用材料を用いて被覆する工程と、前記膜形成用材料を用いて被覆されたパターンをベーク処理する工程と、前記ベーク処理されたパターンをマスクとして前記有機膜のエッチングを行う工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い黒色濃度を有すると共に、混色がなく、現像条件に伴なう形成パターンの変動を抑えて精細な壁パターンの形成を可能とする。
【解決手段】着色剤として合金部分を含む粒子を用いた感光性樹脂層を露光、現像して、厚み１．０μｍ以上の濃色離画壁を前記基板上に形成する。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れ、高感度、かつ高解像度であり、テント性、パターン形状及び現像性に優れ、エッチング時の剥離性が良好で、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含んでなり、該重合禁止剤が、Ａ）フェノール性水酸基を有する化合物と、Ｂ）フェノール基を有さない化合物とを含み、その質量比Ａ／Ｂが０．０１〜１００であることを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成材料及び方法である。重合禁止剤中のフェノール基を有さない化合物が、イミノ基を有する化合物である態様、重合禁止剤の含有量が、６５〜３００ｐｐｍである態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】より簡便に表面の改質を行うことができる方法、基板の製造方法および電子装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体１１に、電子供与体１２Ｄと電子受容体１２Ａとを結合させ、その後、基体１１に対して所定のパターンで光を照射して、光が照射された光照射領域１２１内において、電子供与体１２Ｄから電子受容体１２Ａへの電子移動を生じさせることにより、電子供与体１２Ｄおよび電子受容体１２Ａのうちのいずれか一方の構造の一部を切断・除去し、光照射領域１２１と光が照射されない光未照射領域１２２とにおいて、電子供与体１２Ｄと電子受容体１２Ａとの存在比率を変化させ、これにより、光照射領域１２１と光未照射領域１２２とで性質が異なる基板１を製造する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハに転写される回路パターンの高いパターニング精度を実現しつつ、大幅なコストアップ無しに“迷光”の影響を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板２０１上に、位相シフト層２０２、遮光層２０３およびネガ型のレジスト層２０４を順次形成する工程と、次いで、前記ネガ型のレジスト層に対して第１の露光および現像を行い、前記転写パターンに応じたパターンを含む第１のレジストパターン２０４Ｐを形成する工程と、次いで、前記第１のレジストパターンをマスクとして前記遮光層をエッチングして遮光帯を含む遮光パターンを形成する工程と、次いで、前記第１のレジストパターンを除去した後、前記遮光帯の外側の光吸収パターンに応じたパターンを含むポジ型のレジストパターンを用いて、位相シフトパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 面状故障が少なく、発色剤による光カブリを防止でき、未露光膜の破れが少なく、解像度が高く、テント膜強度が強く、かつ、パターン形成後の剥離性が良好で、より高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、ヘテロ縮環系化合物、重合禁止剤、発色剤、及び有機溶剤を含み、
バインダーの酸価が、５０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ、質量平均分子量が、１０，０００〜１００，０００であり、
重合性化合物が、ウレタン基を有する化合物及びアリール基を有する化合物の少なくともいずれかを含有し、
有機溶剤が、ケトン類、アルコール類、及びエーテル類から選択される少なくとも１種であり、かつ、含有量が０．５質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物及び前記フォトレジスト組成物を用いる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物はフェノール系重合体を含むバインダ樹脂１０〜７０重量％、光酸発生剤０．５〜１０重量％、架橋結合剤１〜２０重量％、染料０．１〜５重量％及び溶媒１０〜８０重量％を含む。前記フォトレジスト組成物は４枚マスクを用いた薄膜トランジスタ基板の製造工程に適用される。前記フォトレジスト組成物は薄膜トランジスタ基板の製造工程の際フォトレジスト層を形成し前記フォトレジスト層はスリット露光によって安定的にハーフトーンを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 液体吐出型記録ヘッドの信頼性を向上させる。
【解決手段】
液体吐出型記録ヘッド１のインク流路３を形成する流路部材４を分子中に少なくとも１個のオキセタニル基を有するオキセタン化合物と、光カチオン重合開始剤とを必須成分とするオキセタン樹脂組成物を含有する流路構成材料で形成する。 （もっと読む）

【課題】 液体吐出型記録ヘッドの信頼性を向上させる。
【解決手段】
液体吐出エネルギ発生素子３３ａが形成されると共に液体を供給する流路の一部を構成する基板３３と、基板３３上に形成され、流路の一部を構成すると共に液体を吐出する液体吐出口３５を有する被覆樹脂層３６とを有し、被覆樹脂層３６を分子中に少なくとも１個のオキセタニル基を有するオキセタン化合物と光カチオン重合開始剤とを必須成分とするオキセタン樹脂組成物で形成する。 （もっと読む）

【課題】露光感度に特に優れ、表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】芳香族ビニル基を有する、アミド結合含有環状化合物を含有する重合性化合物を含む感光性組成物である。芳香族ビニル基を有するイソシアヌル酸環を含有する重合性化合物を含む態様、更に、アルカリ可溶性樹脂と、光重合開始剤とを含む態様、これらに熱架橋剤を含む態様が好ましい。また、芳香族ビニル基を有するイソシアヌル酸環を含有する重合性化合物が、下記一般式（１）で表される化合物を含有する態様がより好ましい。
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【課題】現像時における現像液の泡の発生を低減でき、優れた解像度を有するとともに導体層に対して優れた密着性を有するレジストを形成し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダーポリマーと、下記一般式（１）で表される重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。


［式中、Ｒ^１１は水素又はメチル基、Ｒ^１２はアルキル基又はシクロアルキル基、Ｒ^１３及びＲ^１４はアルキレン基であって互いに異なる基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に１〜１５の整数である。］ （もっと読む）

【課題】 高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。
【解決手段】 レジスト１２はベースフィルム１１、クッション層１０、上層レジスト８、下層レジスト７、カバーフィルム９の五層で構成される。構造材の厚みは、ベースフィルム１１が５０乃至１００μm、クッション層１０が１０乃至３０μm、上層レジスト８が０．５乃至１．０μm、下層レジスト７が０．５乃至１．０μm、カバーフィルム９が１０乃至３０μmである。 （もっと読む）

【課題】混色の無い画素を低コストで製造するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有する表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に２色以上の色を有する、複数の画素からなる画素群を有し、該画素が互いに濃色離画壁により隔絶しているカラーフィルタの製造方法であって、該濃色離画壁が下記条件（Ａ）を満たし、且つ、該濃色離画壁を離画壁画像データに基づいて光を変調しながら、基板上に形成された濃色離画壁形成用感光性樹脂組成物層を相対走査露光し、その後に現像して離画壁を形成し、その後に前記画素を着色液体組成物の液滴付与により形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
（Ａ）６００ｎｍにおける吸光度Ａ₆₀₀と５００ｎｍにおける吸光度Ａ₅₀₀の比Ａ₆₀₀／Ａ₅₀₀が０．７〜１．４である。 （もっと読む）

【課題】光感度に優れ、現像スラッジ及びスカムの発生も十分抑制できる感光性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）；バインダーと、（Ｂ）；光重合性化合物と、（Ｃ）；下記一般式（１）で表される増感剤と、（Ｄ）；ヘキサアリールビイミダゾール誘導体と、（Ｅ）；水素供与体である増感助剤とを有する感光性樹脂組成物。
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【課題】高エッチングレートを有し、埋め込み特性、剥離液による剥離性および反射光吸収特性の問題を改善した反射防止膜形成用組成物、およびこれを用いた配線形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜形成用組成物を、一般式Ｒ¹_4-nＳｉ（ＯＲ²）_n・・・・・（１）（ｎは、２〜３の整数を表す。Ｒ¹は親水性結合を有する有機基を表し、Ｒ²は炭素原子数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。）で表されるシラン化合物と、一般式Ｔｉ（ＯＲ³）₄・・・・・（２）（Ｒ³は、炭素原子数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。）で表されるチタン化合物との加水分解生成物と、溶剤と、を少なくとも含んで構成する。 （もっと読む）

【課題】 剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない（現像ラチチュードの広い）パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該重合性化合物が、分子中にウレタン基を１個以上と重合性基を１個有する化合物を少なくとも含有する感光性樹脂組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。該分子中にウレタン基を１個以上と重合性基を１個有する化合物が、分子中にポリアルキレンオキシド鎖を有する態様、該ウレタン基が１個である態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも３５０〜５００ｎｍに感光特性を示す感光層を有し、エネルギー感度が１〜２０ｍｊ／ｃｍ^２であるパターン形成材料を用い、３８０〜５００ｎｍの波長領域を有し、該波長領域での少なくとも一波長のエネルギー強度が１×１０^−２μＷ／ｃｍ^２／ｎｍ以下の光源下で、基材表面への感光層の積層工程と、該積層工程と露光前までの工程のうち少なくとも一工程を行うパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極近傍の過度のエッチングを抑制する方法を提供する。
【解決手段】 パターニングすべき膜４３，４４が形成された基板の上にアモルファスカーボン膜４６を形成する。アモルファスカーボン膜４６の表面上に所定の領域にパターニングされたレジストパターン４７を形成する。レジストパターン４７をマスクとして、アモルファスカーボン膜と、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を残して一部上層部分をエッチングする。その後、レジストパターン４７を除去する。さらに、アモルファスカーボン膜４６をマスクとして、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を選択的にエッチングする。 （もっと読む）

【課題】 感光性組成物の室温での溶融粘度が好適であり、感光層の感度低下を抑制できると共に、パターン形成材料による基体への積層体形成時に、保護フィルムの剥離跡が発生せず、保護フィルムをスムーズに剥離でき、効率よくパターンが形成でき、高感度かつ高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を有し、該感光層が、アルカリ可溶性バインダー、重合性モノマー及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、該感光性組成物の３０〜４０℃における溶融粘度が、１×１０^４〜１×１０^７ｍＰａ・sであり、前記感光層を露光、現像して得られるパターン厚みが未露光状態の厚みの９０％となる波長４０５ｎｍのレーザ光における最少露光量が、２０ｍJ/ｃｍ^２以下のパターン形成材料である。 （もっと読む）