【課題】フォトリソグラフィに使われるボトムレジスト用のポリマー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】３，３´−ジインデニル構造を有するモノマーユニットをベースとして、それより拡張されたｐ−電子共役系を有するボトムレジスト用のポリマー及びその製造方法である。本発明によるボトムレジスト用のポリマーは、３，３´−ジインデニル構造を有する次の式の反復単位からなる。
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【課題】グリーンシートの層厚みの薄層化とともに、可とう性を付与することができる感光性材料、感光性シートおよびそれを用いた多層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも感光性樹脂と、有機バインダと、平均粒径が３μｍ以下、粒径が５μｍ以上の粒子比率が１０％以下の無機粉末とを含有し、厚さ１００μｍ以下のシートに成形した後、該シートに４００ｍＪ以下の露光量で露光して前記感光性樹脂を硬化せしめ、該硬化後のシートを１８０℃折り曲げた時に、折り曲げ部の外側に亀裂が発生するときの折り曲げ部内径が１ｃｍ以下となる感光性材料を用いて、感光性シートを作製して、これを用いて多層回路基板を作製する。 （もっと読む）

【課題】
広い波長領域の活性放射線に対して優れた感度を示し、解像度などに優れた感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物を用いてバンプまたは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるメッキ造形物の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係る感放射線性樹脂組成物は、
（Ａ）特定のアントラセン構造を有する化合物０．１〜２０重量部、
（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物０．１〜２０重量部、および
（Ｃ）樹脂１００重量部
を含有し、波長３００〜４５０ｎｍの放射線に感度を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明のレジスト組成物は、酸感応性像形成ポリマーと、放射線感応性酸発生剤成分とを有するレジスト組成物を提供する。
【解決方法】 本レジスト組成物は、
（ｉ）溶解抑制酸発生剤からなる群から選択された第１の放射線感応性酸発生剤と、
（ｉｉ）未保護酸性基−官能基化酸発生剤と、酸不安定基保護酸性基−官能基化放射線感応性酸発生剤とからなる群から選択された第２の放射線感応性酸発生剤と、
を含み、ＥＰＬ、ＥＵＶ、軟Ｘ線、その他の低エネルギー強度リソグラフィ像形成用途に用いるのに適した高感応性レジストの形成を可能にする。レジスト組成物は、他のリソグラフィ法にも有用である。 （もっと読む）

【課題】 煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。
【解決手段】 基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、支持体上に形成したエポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂組成物とエポキシ系封止樹脂とを強固に接着させた半導体装置を提供するものである。
【解決手段】 支持体上にエポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）を含む環状オレフィン系樹脂膜を有する半導体装置であって、該環状オレフィン系樹脂膜に酸素プラズマ処理をして、エポキシ系封止樹脂をもちいて、該支持体を封止することを特徴とする半導体装置。 （もっと読む）

本発明の方法により、構造化表面が形成される。この構造化表面を形成する方法は、前記基板の主表面に、除去可能な放射線感光コーティングを設置するステップと、除去可能な放射線感光コーティングを放射線で露光して、除去可能な放射線感光コーティングの露光部分を基板から除去して、構造化表面を形成するステップとを有する。次に、構造化表面は、基板と、少なくとも一つの分離バンクによって定形された構造のパターンを有する。また、本方法は、前記構造および分離バンクに、流動性材料を設置するステップを含んでも良く、これにより、構造内に流動性材料のパターンが形成される。
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【課題】２層構造の微細構造を２種のポジ型レジストで生成する場合に、少なくとも下層における熱架橋処理が不要な微細構造の形成方法、およびこの微細構造の形成方法を利用した液体吐出ヘッドとその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒータを形成した基板上に下層としての第１のポジ型レジスト層（ＰＭＩＰＫ）を形成し、その上に上層としての第２のポジ型レジスト層（ＰＭＭＡ系共重合体）を形成し、第２のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて上層のポジ型レジスト層１３を露光、現像して所定のパターンを形成し、更に、第１のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて下層のポジ型レジスト層１２を露光、現像して所定のパターンとして微細構造を得る。この方法を用いた液体吐出ヘッドの製造方法と、その方法で製造された液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 無機粉体および特定構造の構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供する。 （もっと読む）

改良された流動特性を有している新規な反射防止または充填組成物が提供された。組成物は、スチレン−アリルアルコールポリマーと、好ましくはスチレンアリルアルコールポリマーに加えて少なくとも１つの別のポリマー（例えばセルロースポリマー）とを含む。本発明の組成物は、コンタクトホールまたはビアホールを、続いて行われるデュアルダマシン工程におけるエッチングの間の分解から保護するために用いられる。本発明の組成物は、反射防止コーティング層（続いて行われるフォトレジストの露光と現像の間の反射を低減するかまたは回避する）を形成するための基板（例えばシリコンウェハ）に対しても塗布されうる。 （もっと読む）

ポリマー、その使用方法、その分解方法が提供される。ポリマーの一例には、特に、捨てポリマーおよび光開始剤を有する感光性ポリマーがある。
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無機構造を製造するための方法であって、（ａ）光反応性組成物を基材に付与する工程であって、組成物が、反応種と、光開始剤系と、複数の実質的に無機のコロイド粒子であって、粒子の平均粒度が約３００ｎｍ未満であるコロイド粒子とを含む、工程と、（ｂ）組成物をフォトパターニングして、構造を規定する工程と、（ｃ）反応種を熱分解し、かつ粒子を少なくとも部分的に溶融するのに十分な時間、構造を高温に曝す工程とを含む方法。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）基板、（ｂ）基板上に重なる第１のポリマー層、（ｃ）第１のポリマー層上に重なる第２のポリマー層、（ｄ）第２のポリマー層上に重なる金属ハードマスク層、及び（ｅ）金属ハードマスク層上に重なる感光性層を備える前駆体物品は、フォトリソグラフィのイメージング、現像、及びプラズマエッチング工程が施され、基板及びフォトリソグラフィのイメージングに使用されるフォトマスクのパターンに対応するパターンに配置されている第１のポリマー層の一部を含む物品を形成する、光導波路等の物品を準備するための微細加工プロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】 露光後の薬剤による現像処理を必要とせず、露光画像の確認が容易で、画像形成における必要エネルギーが少なく、かつ印刷工程において、印刷機内を汚染することのない平版印刷版材料および、可視画像形成方法を提供する。
【解決手段】 熱または光により、酸化力を生じる化合物Ａと、酸化力を生じたＡによって酸化される化合物Ｂ、およびＢの酸化物との共存下で色調が変化するバインダーＣを含有する可視画付与層を有することを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】 フッ素化合物などの強撥油性を示す化合物を用いたパターン状の撥油性領域を備えるパターン材料を、容易に、かつ、効率よく形成し、そのパターン材料を用いて、高精度な導電性パターンを容易に形成し得る導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、撥油性の官能基を有する化合物の結合領域と非結合領域とをパターン状に形成する工程と、該撥油性の官能基を有する化合物の結合領域と非結合領域とが形成された基材上に、気相堆積膜形成法により導電性素材層を形成する工程と、該導電性素材層が形成された基材表面を擦って、前記撥油性の官能基を有する化合物の結合領域上に形成された導電性素材層のみを除去する工程と、をこの順に行うことを特徴とする導電性パターン形成方法。 （もっと読む）

カラー形成感光性高分子層でカラー画素を形成するプロセス、こうして形成されたカラー画素及びデジタル画像化システムが提供される。基板上の単独の減法作動色感受性光重合性組成物層は、デジタル光プロセッサから反射された化学線に暴露されると、光重合性組成物上に所望のデジタルカラー画像を正確に再現する。カラー特定感光性高分子の多重層を用いると、このプロセスにより基板上にフルカラー画像を形成することができる。
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【課題】 クロム含有材料をパターン形成する場合における、下にある基板との不都合な相互作用を防止する改善されたレジスト配合物を提供する。
【解決手段】 室温で固体の塩基と液体の低蒸気圧塩基とを含む塩基添加物の組み合わせを用いることによって、異なる基板上であっても良好なフッティング特性を有するレジスト組成物が得られる。この組成物は、マスク製造に一般に用いられるクロム含有層などの金属基板に対して特に有用である。 （もっと読む）

アモルファス炭素材料を堆積するための方法が提供される。一態様では、本発明は、処理チャンバに基板を位置決めするステップと、該処理チャンバに処理ガスを導入するステップであって、該処理ガスがキャリアガス、水素および１つ以上の前駆体化合物を含むステップと、二重周波数ＲＦ源から電力を印加することによって該処理ガスのプラズマを生成するステップと、該基板上にアモルファス炭素層を堆積するステップとを含む基板処理方法を提供する。 （もっと読む）

カチオン硬化可能な化合物;アクリレート含有化合物;ヒドロキシル含有化合物;カチオン光開始剤;およびフリーラジカル光開始剤;を含む光硬化可能な組成物であって、前記組成物の100グラム当たり、0.54当量未満のカチオン硬化可能な基、0.10当量未満のアクリレート基、および0.10当量未満のヒドロキシル基を含有する光硬化可能な組成物。 （もっと読む）

パターニングされたセラミック薄膜（１０）は、イオン伝導性セラミック、電極、ハードセラミックコーティング、透明導電性酸化物、透明半導電性酸化物、強誘電性酸化物、及び誘電性酸化物として有用である。そのセラミック薄膜（１０）は液体前駆体溶液から形成することができる。 （もっと読む）