【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、第一レジスト層形成用の樹脂組成物を用いて、基板上に第一レジスト層を形成し、第一レジスト層の所用領域に放射線を照射して露光した後、現像により第一レジストパターンを形成する工程と、第一レジストパターンを光に対して不活性化させる工程と、第二レジスト層形成用の樹脂組成物を用いて、第一レジストパターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、第二レジスト層の所用領域に放射線を照射して露光する工程と、現像により第一レジストパターンのスペース部分に、第二レジストパターンを形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ工程の解像限界を越える微細な半導体パターンの形成。
【解決手段】ベース樹脂、ポリ［（メト）アクリル酸／３,３−ジメトキシプロペン］、光酸発生剤、有機塩基及び有機溶媒を含む感光剤組成物、及び前記感光剤組成物を利用して行なわれる二重パターニング工程により形成される半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ゲートパターンを形成するとき、セル領域のＣＤは一定に維持しつつ、周辺領域のＣＤのみ選択的に縮小することができる半導体素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】セル領域と周辺領域を有する基板上にゲート用導電物質層を形成するステップと、該ゲート用導電物質層上にハードマスクパターンを形成するステップと、前記セル領域のハードマスクパターンを備える全体構造上に前記周辺領域を露出させるマスクパターンを形成するステップと、前記周辺領域のハードマスクパターンをトリミングするステップと、前記マスクパターンを除去するステップと、前記ハードマスクパターンを用いて前記ゲート用導電物質層をエッチングしてゲートパターンを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】微粒子の付着部分に酸を発生させることがなく、付着の均一性を向上させ、低欠陥なパターンを形成することが可能となるパターン形成方法、デバイス作製方法を提供する。
【解決手段】基板上に、複数の微粒子を配して構成されるパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記基板上に、アミノ基を含有するシランカップリング剤を含有する層を形成する工程と、
前記シランカップリング剤を含有する層上に、ネガ型レジスト層、あるいは溶解阻害ポジ型レジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層を選択的に除去し、前記シランカップリング剤を含有する層を表出させる工程と、
前記表出したシランカップリング剤を含有する層上に、前記複数の微粒子を配する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成を簡略化した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工膜１００上に第一のパターン１０５を形成し、第一のパターン１０５が形成された領域を含む被加工膜１００上に反射防止膜１０６及びレジスト膜１０７を順に形成し、レジスト膜１０７を加工してレジストパターン１０３を形成し、レジストパターン１０８下に露出した反射防止膜１０６をレジスト膜１０７の加工に使用した現像液と同一の現像液により加工して、被加工膜１００の一部及び第一のパターン１０５の少なくとも一部を露出し、第一のパターン１０５及びレジストパターン１０８をマスクに被加工膜１００を加工することにより、被加工膜１００に配線パターン１１０等を形成する。 （もっと読む）

【課題】第１層が形成されてできた凹凸の影響によるリンス不足に起因する現像残渣の発生を防止し、各色パターンが良好な矩形状に構成され、平坦性の高いカラーフィルタを作製する。
【解決手段】（ａ）第１の着色層形成工程と（ｂ）第１の着色層上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と（ｃ）第１の着色層上の領域のうち第１の着色層とは異なる第２の着色層を形成する領域のみにおけるフォトレジスト層を除去することにより、第１の着色層上に画像を形成する画像形成工程と（ｄ）画像形成工程によって形成された画像様に、第２の着色層を形成する領域における第１の着色層をドライエッチング法により除去するエッチング工程と（ｅ）フォトレジスト層除去工程と（ｆ）着色光硬化性組成物を前記第１の着色層が除去された前記領域に露光、現像により付与して第２の着色層を形成する第２の着色層形成工程と、を設けて構成されている。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】支持体１上に、第一のレジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成する工程と、前記第一のレジスト膜２を、第一のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する工程と、前記第一のレジストパターン３が形成された前記支持体１上に、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤（Ｓ”）を含有するネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成する工程と、前記第二のレジスト膜６を、第二のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像してレジストパターン３、７を形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に下層膜を形成する工程、該下層膜上にシリコン系ハードマスクを形成する工程、該ハードマスク上に化学増幅型ネガ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成する工程、第一のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第一のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、ハードマスクをエッチングして第一のパターンを形成する工程と、前記第一のパターン上に化学増幅型ポジ型シリコン系レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程、第二のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第二のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、下層膜をエッチングして第二のパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数の第一のレジストパターン３を形成し、第一のレジストパターン３の表面にそれぞれ水溶性樹脂膜からなる被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成された第二のレジストパターン７とからなるパターンを支持体１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】中性〜アルカリ性のシアン浴での貴金属めっきに耐え、解像度、密着性、レジスト剥離性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有バインダー：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物であって、（ａ）カルボキシル基含有バインダーが、特定の共重合体を含有し、かつ（ｂ）光重合可能なモノマーとして特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートを、低いコストで製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明による、所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートの製造方法は、基板上に紫外線硬化樹脂層を形成するステップと、紫外線硬化樹脂層に、微細開口部に対応したパターンの、紫外線露光を行うステップと、現像を行うステップと、紫外線硬化樹脂層を基板から剥離させてプレートを得るステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルターから溶出したイオンの液晶中への混入がなく、またディスプレイの表示品位を損なうことのない液晶ディスプレイ用カラーフィルター及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 透明基板上にブラックマトリックス層及び複数色の着色層を形成してなる液晶ディスプレイ用カラーフィルターにおいて、前記ブラックマトリックス層上に、前記着色層を構成する着色材料を１色以上積層して形成された柱状スペーサーを備え、表面に、膜厚が５０ｎｍ〜３００ｎｍの無機材料からなる透明薄膜を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面が撥インク性に優れたブラックマトリックス付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に撥インク層が製膜された撥インク層付きフィルムとブラックマトリックス層を積層した基板のブラックマトリックス層とを積層する積層工程、基板と反対の側からフォトマスクを通して活性光線を照射する露光工程、現像工程、を少なくとも有するブラックマトリックスパターン付き基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位からラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】多層感光性樹脂膜を用いた感光性樹脂膜パターン形成方法及びこの感光性樹脂膜パターンを使用する半導体装置のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の１態様による感光性樹脂膜パターン形成方法は、半導体基板の上方に被処理膜を形成する工程と、前記被処理膜上に第１の感光性樹脂膜からなる第１のパターンを形成する工程と、前記第１のパターンを形成した第１の感光性樹脂膜に注入するイオンの投影飛程と投影飛程の標準偏差の３倍との和が前記第１の感光性樹脂膜の膜厚より大きくなるようにイオン注入する工程と、前記イオン注入された第１の感光性樹脂膜上に第２の感光性樹脂膜からなる第２のパターンを形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】対向配置される２つの基盤をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、優れたパターン解像性を有し、且つ構造体と基盤との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】第１の基盤上にフォトリソグラフにより設けられたパターン化された構造体を介して、第２の基盤を圧着させて２個の基盤を接着させた機能素子において、前記構造体を形成する為の樹脂組成物が（Ａ）アクリルモノマー、（Ｂ）不飽和カルボン酸とその他の不飽和化合物を共重合させて得られたアルカリ可溶性ポリマー又はアルカリ可溶性フェノール樹脂の水素添加物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）エポキシ化合物を成分として含有するネガ型感光性樹脂組成物である。このようなネガ型感光性樹脂組成物は優れたパターン解像性を有し、且つ対向基盤との接着性にも優れている。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリクス等の遮光膜表面の液体接触角を保持してインクジェット付与されるインクのはみ出し及び混色を抑えつつ、感光性樹脂層の塗布形成時のハジキを抑制する。
【解決手段】仮支持体上に設けられた感光性樹脂層の仮支持体側表面に、下記構造式（１）で表される樹脂を含む表面処理層が設けられている。
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【課題】非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物層からなる第１のパターンを形成する工程と、その上に他のレジスト組成物からなる第２のパターンとを積層する工程とを有する場合、例えば、プリンターのノズルを形成する用途において、前記第２のパターンが加工中等に劣化することを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分（Ａ）と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度等に優れる感放射線性樹脂組成物、感放射線性樹脂膜及び転写フィルム並びにこれらを用いたメッキ造形物の製造方法。
【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）一般式（１），（２）の構造単位を含む酸解離性基含有樹脂、（Ｂ）一般式（３）の構造単位を含む樹脂、及び（Ｃ）光酸発生剤を含有する。
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【課題】 ＣＳＰと呼ばれる半導体装置において、柱状電極形成用メッキレジスト膜を剥離した際にレジスト残渣が発生しにくいようにする。
【解決手段】 まず、ノボラック系樹脂のポジ型の液状レジストからなる配線形成用メッキレジスト膜２３をそのまま残存させた状態で、電解メッキを行うことにより、アクリル系樹脂のネガ型のドライフィルムレジストからなる柱状電極形成用メッキレジスト膜２５の第１の開口部２６内の配線８の接続パッド部上に柱状電極９を形成する。次に、両メッキレジスト膜２３、２５をモノエタノールアミン系のレジスト剥離液を用いて同時に剥離する。この場合、柱状電極形成用メッキレジスト膜２５は、ダイシングライン２２に対応する部分に形成された第２の開口部２７の存在により、平面的な剥離面積が小さくなり、且つ、レジスト剥離液に浸される表面積が大きくなるので、剥離されやすくなる。 （もっと読む）