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Fターム[2H079DA16]の内容

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Fターム[2H079DA16]に分類される特許

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【課題】 素子特性の劣化を抑制可能な半導体光素子を提供する。
【解決手段】 マッハツェンダー型光変調素子1Aは、光導波路10,20、入射側分波器30及び出射側合波器40を備える。光導波路10、光導波路20、入射側分波器30及び出射側合波器40の各々は、n型半導体基板2上に順に積層された下部クラッド層、コア層、中間半導体層及び上部クラッド層を有する。光導波路10の光導波領域11,13、光導波路20の光導波領域21,23、入射側分波器30及び出射側合波器40の各上部クラッド層は、半絶縁半導体からなる。 (もっと読む)


【課題】光の吸収損や電気信号の導波損を低減し得る半導体光素子及びマッハツェンダー型光変調素子を提供する。
【解決手段】マッハツェンダー型光変調素子1Aの位相制御部10は、n型下部クラッド層13、コア層14a及び14b、並びに上部クラッド層15a及び15bをそれぞれ含むメサ構造部19a及び19bを有する。メサ構造部19aの上部クラッド層15aは、コア層14a上に配置された第一領域151aと、第一領域151a上に並んで配置された第二領域152a及び第三領域153aとを含む。メサ構造部19bの上部クラッド層15bは、コア層14b上に配置された第四領域151bと、第四領域151b上に並んで配置された第五領域152b及び第六領域153bとを含む。領域151a,152a,151b,及び152bはp型半導体からなり、領域153a,153bはアンドープ半導体からなる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光損失および駆動電圧を低減でき、かつ半導体レーザとの集積が容易な光変調器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の光変調器は、光を変調する変調領域と、該変調領域に隣接したパッシブ領域とを有し、該変調領域および該パッシブ領域には、半導体基板と、該半導体基板上のn型クラッド層と、該n型クラッド層上のコア層と、該コア層上のp型クラッド層と、が形成され、該変調領域には、該p型クラッド層と、該p型クラッド層上のコンタクト層と、該コンタクト層上のP側電極と、が形成され、 該パッシブ領域において、該コア層と該p型クラッド層との間にノンドープクラッド層が形成されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属ステム上に実装された温度制御モジュール上に半導体光変調素子を配置した場合においても、周波数応答特性の劣化を防止できる半導体光変調装置を得る。
【解決手段】金属ステム1上に支持ブロック4が実装されている。金属ステム1上に温度制御モジュール5が実装されている。温度制御モジュール5上に第2の支持ブロック6が実装されている。第1の支持ブロック4の側面に誘電体基板7が実装されている。リードピン2に接続された信号線路9が誘電体基板7上に形成されている。支持ブロック6の側面に誘電体基板8が実装されている。誘電体基板8上に信号線路11が形成されている。誘電体基板8上に半導体光変調素子14が実装されている。信号線路11に容量20が接続されている。進行波の位相と反射波の位相とが180度ずれるような周波数において、半導体光変調素子14でのインピーダンス整合を行うように、容量20の値が設定されている。 (もっと読む)


【課題】プリチャープ伝送時にも良好な伝送特性を得ることができる半導体光変調器及びそれを用いた半導体光送信機を提供する。
【解決手段】半導体光変調器には、基板1上に設けられた光導波路4a及び4bを備えたマッハ・ツェンダ型光干渉計と、光導波路4a上に形成された電極11aと、光導波路4b上に形成され、電極11aとは長さが相違する電極11bと、が設けられている。更に、基板1上に光導波路4a及び4bから、光導波路4a及び4bから被変調光の波長以上離間して設けられた半導体メサ構造体7と、半導体メサ構造体7上に形成され、電極11bに電気的に接続された補助電極12と、が設けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体光変調器の形成プロセスや使用部品点数を増加させることなく、サージ耐性を向上させることができるサージ保護機能内蔵型半導体光変調器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体層を複数積層した半導体層構造からなり、光の変調を行う半導体光変調領域14と、半導体光変調領域14の半導体層構造と同一の層構造からなり、半導体光変調領域14を電気的に保護する保護ダイオード24とを備え、半導体光変調領域14と共に保護ダイオード24を半導体基板上にモノリシック集積し、半導体光変調領域14の活性領域と保護ダイオード24とを電気的に並列に接続し、かつ、半導体光変調領域14の活性領域と逆の電界を保護ダイオード24に印加するように、半導体光変調領域14と保護ダイオード14とを配線するサージ保護機能内蔵型半導体光変調器及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】光変調装置の周波数応答特性が平坦ではないことに起因する光出力波形の劣化を抑制すること。
【解決手段】光変調装置に、光素子と、前記光素子を変調するための変調電気信号が入力される入力信号端子と、前記変調電気信号を増幅して光素子に供給する駆動回路と、前記入力信号端子と前記駆動回路の入力との間に接続された補償回路とを備えた。 (もっと読む)


【課題】PLCと他の導波路型光素子とが付き合わせ接続されて構成された光素子チップをパッケージに収納する光モジュールにおいて、熱応力による光学的・機械的信頼性の低下を抑制すること。
【解決手段】光モジュール300は、GaN系光変調器311の両端に第1及び第2のPLC312、313が突き合わせ接続された光素子チップ310と、GaN系光変調器311が固定された凸部320Aを有するパッケージ320とを備える。パッケージ320の材料を、熱膨張係数がGaN系光変調器とPLCの両方に合うように選択することが可能であり、そのような場合、GaN系光変調器311に加えて、第1及び第2のPLC312、313もパッケージ320の凸部320Aに固定することができる。たとえば、パッケージ320の材料として、熱膨張係数が5.3×10-6/K程度のコバールを用いることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体MZ光変調器を備えた光伝送装置であって、消光比が高く、かつ、チャープが少ない形で光を変調できる光伝送装置を提供する。
【解決手段】光伝送装置は、一方のアーム11に、その光吸収係数が他の部分に比べて大きな、出力光の強度が最小となる電圧を各電極15に印加した場合におけるアーム11の伝搬損失とアーム11の伝搬損失とが一致するように、その形状が定められた損失調整部14が設けられている半導体MZ光変調器10と、半導体MZ光変調器10の各電極15に、同時刻における時間変化率の正負が逆の,振幅が等しい変調電圧を印加する駆動回路18とを、備える。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高品質なn−i−n構造の光変調器を提供すること。
【解決手段】光変調器300は、サファイア基板301上に、低温成長GaNバッファ層302、第1のn−GaN電極層303、第1のi−AlxGa1-xNクラッド層304、i−GaN光導波層305、第2のi−Alx'Ga1-x'Nクラッド層306、i−Alx''Ga1-x''N電子ブロック層307、第2のn−GaN電極層308が順次積層されている。エッチングプロセスにより第1のn−GaN電極層303に至るまでエッチングを行い、ハイメサ導波路構造の光導波路320を作製している。光導波路320は、コア層である光導波層305を、屈折率の小さい第1のクラッド層304及び第2のクラッド層306で挟んで光閉じ込めを行うAlGaN/GaN/AlGaN光導波路であり、当該光導波路に印加される電圧により光の位相変調が実現される。 (もっと読む)


【課題】SOI基板上に形成されたシリコンベース電気光学装置における、高効率な光接続を実現し、高速動作と光伝搬損失の低減とを両立させることができる電極接続構造を提供する。
【解決手段】電気光学装置において、第1の導電型の第1のシリコン半導体層と第2の導電型の第2のシリコン半導体層との積層構造がリブ導波路形状を有して光の閉じ込め領域を構成し、リブ導波路のスラブ部分に、金属電極が接続された領域を設ける。金属電極が接続された領域においてスラブ部分の厚さをその周囲のスラブ部分の厚さよりも大きくする。金属電極が接続された領域までのリブ導波路からの距離を変化させたときにリブ導波路の0次モードの実効屈折率が変化しないようなその距離の範囲内に、金属電極が接続された領域を設定する。 (もっと読む)


【課題】波長特性が広帯域で可変である波長可変光フィルタ、および広帯域でレーザ光の波長が可変である波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】コア部を有するマルチモード干渉型導波路部と、前記マルチモード干渉型導波路部の長さ方向の一端に設けられた第1光入出力部と、前記マルチモード干渉型導波路部の他の一端に設けられた第2光入出力部とを有し、前記マルチモード干渉型導波路部は前記第1光入出力部から入力し第2光入出力部から出力する光に対して損失波長特性を有する光フィルタ部と、前記マルチモード干渉型導波路部のコア部の側部に設けられた、該コア部よりも屈折率または等価屈折率が低い側部クラッド部と、前記側部クラッド部の屈折率または等価屈折率を変化させる屈折率調整機構と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 電極間の光導波路が電気分離され、かつ、単純な構成で電極容量を低減可能な半導体光素子を提供する。
【解決手段】 基板101上に下部クラッド層102、活性層103、上部クラッド層105が前記順序で積層され、上部クラッド層105の一部が除去されて形成されたリッジ導波路107の上部クラッド層105上に、その方向に沿って断続的に上部電極109a、109bが配置され、上部クラッド層105より電気抵抗率の高い半導体の高抵抗層108は、上部クラッド層105における前記両上部電極間の領域113を覆うように形成され、かつリッジ導波路107側方に延び、高抵抗層108上に配置された引き出し電極111により上部電極109aに電気的に接続されるパッド電極110は、高抵抗層108上のリッジ導波路107から離れた位置に配置されていることを特徴とする半導体光素子100。 (もっと読む)


【課題】本発明は、従来技術による光パルスシンセサイザが離散的な透過スペクトルを有する、ある周波数間隔のモードを独立に制御することは可能であるものの、連続したスペクトルを制御することはできないという問題点を解決する導波路型分散補償回路を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導波路型分散補償回路は、第1のアレイ導波路回折格子と、第2のアレイ導波路回折格子と、上記2つのアレイ導波路回折格子を結合する位相制御導波路アレイとを備える導波路型分散補償回路において、上記位相制御導波路アレイの導波路本数が、第1及び第2のアレイ導波路回折格子のアレイの導波路本数の2倍以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高速かつ波長分散耐性の高い伝送を行うための光変調信号生成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光変調信号生成方法は、周波数変調信号を生成して出力する周波数変調光源と、強度変調信号を生成し、前記周波数変調信号を入力して、前記強度変調信号によって周波数変調信号に強度変調を付加する強度変調器とから構成される光変調信号生成装置を利用して光変調信号を生成する光変調信号生成方法であり、前記光変調信号生成装置は、前記周波数変調光源と前記強度変調器とを同一のビットパターンを用いて駆動することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】井戸層数、変調器長を変化させないまま消光比を増大する光半導体装置を提供することにある。
【解決手段】半導体混晶からなる基板11と、基板11の上に形成される、量子井戸層、バリア層を含む多重量子井戸構造の活性部12と、活性部12の上下をそれぞれ覆う上下クラッド部13,14とからなる電界吸収型光変調器を有し、上クラッド部13の一部をエッチングし、光波長程度の幅のリッジメサ部15をもつ、リッジ導波路構造を作製し、リッジメサ部15の両脇を熱伝導率の小さい有機材料で埋め込んだ埋め込み部16を設けた。 (もっと読む)


【課題】ファブリー・ペロー共振反射に基づいた広い帯域幅を有する光変調器を提供する。
【解決手段】下部DBR層110と、少なくとも一つの層及び変形された層を備える上部DBR層130と、下部DBR層と上部DBR層との間に配置された活性層120と、を備え、上部DBR層の少なくとも一つの層は、第1屈折率を有する第1屈折率層及び第2屈折率を有する第2屈折率層の少なくとも一つの対を備え、上部DBR層の変形された層は、第3屈折率を有する第3屈折率層及び第4屈折率を有する第4屈折率層の少なくとも一つの対を備え、第3屈折率と第4屈折率とは異なり、第3及び第4屈折率層のうち少なくとも一つは、λ/4またはその奇数倍とは異なる第2光学的厚さを有する。 (もっと読む)


【課題】半導体製造プロセスを用いてフォトニック結晶構造を有する各種光デバイスを容易に形成することができるフォトニック結晶半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】n−InP基板11上に下部DBR層1、コア層2、上部DBR層3、誘電体多層膜6が順次積層される。コア層2及び上部DBR層3には膜厚方向に延びる複数の空孔9が形成され、これによりフォトニック結晶構造が実現される。このフォトニック結晶構造は、複数の空孔9に挟まれて空孔9が存在しない線欠陥部10を有し、線欠陥部10が光導波路として機能する。 (もっと読む)


【課題】小型で高速、かつ信頼性の高い吸収型半導体光変調器を提供する。
【解決手段】半導体基板上に、少なくとも光を吸収する機能を有するコア層を含む光導波路を形成し、光導波路は光入射端面を有し、光導波路の上方に光導波路に電気信号を印加する上部電極を形成しており、光入射端面から入射した光が光導波路を伝搬する過程でコア層に吸収されることにより光電流が生成される吸収型半導体光変調器において、コア層は、生成された光電流に起因するジュール熱による熱破壊を避けるために、ジュール熱を半導体基板に逃がすように、光入射端面側の幅が広く形成されているとともに光の伝搬方向に向かって狭くなって形成され、光入射端面側の光導波路がマルチモード光導波路を構成し、さらに、電気的なキャパシタンスが小さくなるように、光入射端面側において上部電極の幅がコア層の幅よりも狭く形成されている。 (もっと読む)


【課題】 小型で、正確にプッシュプル駆動し、低損失な半導体マッハツェンダ型光変調器を提供する。
【解決手段】
分波器11aと、合波器11bと、半導体光導波路13および14と、信号電極15と、正バイアス電極17と、負バイアス電極18とを有し、
分波器11aと合波器11bとは、2本の半導体光導波路13および14により連結され、
信号電極15は、2本の半導体光導波路13および14の上部に接続され、かつ、2本の半導体光導波路13および14の上部に共通の高周波信号を入力可能であり、
正バイアス電極17は、半導体光導波路13の下部に接続され、負バイアス電極18は、他方の半導体光導波路14の下部に接続されていることを特徴とする半導体マッハツェンダ型光変調器。 (もっと読む)


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