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Fターム[2H090HC11]の内容

Fターム[2H090HC11]に分類される特許

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【課題】光配向によって配向処理された配向膜を有する液晶表示装置において、残像を早期に消失させ、高画質の液晶表示装置を得る。
【解決手段】配向膜113は光導電特性を有している。走査線10が下部に存在する領域はバックライトが照射されないので、光導電効果が得られない。この部分の電荷を早期に開口部55の配向膜113に移動させ、残像を早期に消失させるために、走査線10の上方に配置する配向膜113の下にフォトレジスト30を配置する。フォトレジスト30は膜厚が1.5μm程度であり、配向膜113の厚さ70nmの20倍以上なので、フォトレジスト30が存在する部分では、横方向の抵抗が小さい。したがって、走査線10の上に存在する配向膜113上の電荷が早期に開口部55の配向膜113に移動し、消失するので、残像が早期に消失する。 (もっと読む)


【課題】良好な表示特性の液晶装置を高い生産性で製造する製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極9を備えた第1基板10と、これに対向配置される第2基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極9に対応する位置が表示領域Pとされ、この表示領域P間が非表示領域BMとされる液晶装置の製造方法である。画素電極9を表示領域Pとなる位置に、その周縁部を非表示領域BMとなる位置に形成し、画素電極9上の表示領域Pとなる位置に垂直配向膜41を形成し、非表示領域BMの少なくとも画素電極9の周縁部上に水平配向膜42を形成する。このとき、基板10A上の配向膜42aにラビング処理し、レジストパターンRをマスクにして表面改質して、水平配向膜42を形成し、垂直配向膜41の材料を形成する。 (もっと読む)


【課題】スピンエッチング等を確実に行うことのできる基板、および当該基板を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置用基板10sは、第1基板面10t側に第1面取り面10e、第1円弧面10fを備え、第2基板面10u側に、第2面取り面10i、および第2円弧面10hを有している。第1円弧面10fの曲率半径Raは第2円弧面10hの曲率半径Rbより大であり、第1基板面10tと第1面取り面10eとが成す第1面取り角度θaは、第2基板面10uと第2面取り面10iとが成す第2面取り角度θbより大きい。平面視における第1面取り面10eの幅寸法と平面視における第1円弧面10fの幅寸法との和daは、平面視における第2面取り面10iの幅寸法と平面視における第2円弧面10hの幅寸法との和dbより大である。 (もっと読む)


【課題】ITO膜等の電極との密着性に優れ、耐熱性に優れた表示素子用硬化膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]メルカプト基を有するポリシロキサン、及び[B]キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であり、さらに、[A]メルカプト基を有するポリシロキサン中のSi原子に対するメルカプト基の含有率が、5モル%を超え60モル%以下であるポジ型感放射線性組成物である。 (もっと読む)


【課題】表面抵抗の高い硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。さらに、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a4)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)特定構造のオキシムスルホネート化合物、(成分C)特定構造のフッ素系化合物、並びに、(成分D)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜及びその形成方法、並びに、前記硬化膜を含む有機EL表示装置、及び、液晶表示装置。
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【課題】露光光が通過する領域を大きく広げることなく、露光光を配向膜へ斜めに照射する。また、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させる。
【解決手段】露光光照射装置30から照射された露光光を透過させて露光光の進行方向を傾ける光偏向素子2b,2c、または光偏向素子2d,2e、または光偏向素子2f,2g,2h,2i、または光偏向素子2j,2kを、マスク2の上面又は下面に設け、マスク2から基板1へ露光光を斜めに照射する。各種類の光偏向素子2b,2c、または光偏向素子2d,2e、または光偏向素子2f,2g,2h,2i、または光偏向素子2j,2kは、露光光照射装置30から照射された露光光の進行方向をそれぞれ異なる方向へ傾ける。 (もっと読む)


【課題】 所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することのできる光照射装置および光照射方法を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部と、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が一方向に交互に並んで配置されてなる、偏光光照射部の各々に対応する複数種のマスクパターンを有するマスクとを備えてなり、各々の偏光光照射部は、光出射部と、光出射部とマスクとの間の光路上に配置された偏光素子とにより構成されており、マスクにおいては、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける透光部が、被照射物の搬送方向において他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける遮光部と相補的に並ぶ状態で、位置された構成とされている。 (もっと読む)


【課題】撥液性及び耐UVオゾンアッシング性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】シロキサン構造を含む重合体(A)及び1,2−キノンジアジド化合物(B)を含有する感光性組成物において、シロキサン構造を含む重合体(A)に、ラジカル重合部位を二か所有する特定のシロキサン化合物と、重合体(A)にアルカリ可溶性を付与するアルカリ溶解性とラジカル重合性とを有するアルカリ溶解性ラジカル重合性モノマーとを含むモノマーのラジカル重合体を用いる。 (もっと読む)


【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マスク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶にかかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】複数のドメインを有する単位画素が形成される液晶表示パネル及びこれを製造する光学マスクを提供する。
【解決手段】単位画素を含む液晶表示パネルであって、上記単位画素は、第1の配向膜を有する第1の基板と、上記第1の配向膜から離隔し対向する第2の配向膜を有する第2の基板と、上記第1の配向膜と上記第2の配向膜間に介在する液晶層と、隣接した複数のドメインと、上記隣接した複数のドメイン間を定義するドメイン境界領域と、上記ドメイン境界領域に隣接する正常輝度領域とを有し、上記ドメイン境界領域内の上記第1の配向膜又は上記第2の配向膜のプレチルト角は、上記正常輝度領域内の上記第1の配向膜又は上記第2の配向膜のプレチルト角より大きい。 (もっと読む)


【課題】安価で簡便な装置や非平行光を用いて、連続搬送する長尺状の樹脂基材を用いても容易に、かつ、搬送方向に囚われずに高精度なパターン状の露光が可能な光配向膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】(i)長尺状の第一の透明樹脂基材の一面側に配向膜を備える被照射基材及び長尺状の第二の透明樹脂基材の一面側に所望の紫外線遮蔽パターンを有する長尺状のフォトマスクを準備する工程、(ii)被照射基材を連続で供給する工程、(iii)フォトマスクを連続で供給する工程、(iv)被照射基材の配向膜側の面に、フォトマスクを貼り合わせて積層体とする工程、(v)積層体を搬送しながら、フォトマスクを介して配向膜に一定の偏光方向の直線偏光を照射し、配向膜をパターン露光する工程、(vi)積層体からフォトマスクを剥離する工程、を含むことを特徴とする、光配向膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を1回の配向処理により形成して配向処置工程のタクトを短縮する。
【解決手段】細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第1のマスクパターン群6Aと、該第1のマスクパターン群6Aに平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第2のマスクパターン群6Bとを有するフォトマスク7に近接対向させて、配向膜が塗布された基板4を前記第1及び第2のマスクパターン群6A,6Bに交差する方向に移動し、前記フォトマスク7の第1及び第2のマスクパターン群6A,6Bに入射角度θが異なるP偏光を照射し、前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第1及び第2の配向領域を交互に形成するものである。 (もっと読む)


【課題】保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基から選択された少なくとも一つを有する構造単位(1)と、エポキシ基及びオキセタニル基から選択された少なくとも一つを有する構造単位(2)と、を含有する共重合体、オキシムスルホネート基を有する特定構造の光酸発生剤、増感剤、及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】開口率及び透過率を増加させて表示品質を改善できる液晶表示装置が提供される。
【解決手段】液晶表示装置で、第1基板に形成される第1配向膜は第1方向へ配向された第1領域及び第1方向と反対になる第2方向へ配向された第2領域を含み、第1基板と対向する第2基板に形成された第2配向膜は第1方向と異なる第3方向へ配向された第3領域及び第3方向と反対になる第4方向へ配向された第4領域を含む。第1及び第2配向膜の間に配置された液晶分子は第1乃至第4領域によって定義された多数のドメインで相異なる方向へ配向される。画素電極は各ドメインの液晶配向方向に沿って第1乃至第4方向の中で少なくとも一方向へ延長された延長部を配置する。したがって、液晶表示装置の開口率及び透過率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】ITOスパッタ適性、硬度及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】(成分A)酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、(成分B)式(1)又は式(2)で表される酸発生剤、及び、(成分C)増感剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。R5、R6及びR7はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基又は芳香族基を表し、アルキル基の場合、互いに連結し環を形成してもよく、R8及びR9はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、X-は共役塩基を表す。
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【課題】配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】近接走査露光装置1の照射部14は、光源41から照射された露光用光ELを反射部46、47で2方向に分岐させ、それぞれ異なる2方向から、1枚のマスクMに形成された第1のパターンP1、及び第2のパターンP2に照射して基板Wを露光する。 (もっと読む)


【課題】液晶注入口に相当する領域だけを簡便な手段により、選択的に装飾層である撥水層を除去し、確実な液晶封止方法を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に有機配向層を結合した無機配向膜を備える液晶表示装置の、前記基板の前記有機配向層の除去領域にエネルギー線を照射し、前記有機配向層を除去する液晶表示装置の製造方法であって、前記除去領域に対応する開口部を備え、前記開口部の前記液晶表示装置の表示部との境界線に直交する方向の開口長さの5倍以上の板厚を有するマスクを前記基板面に対向配置し、エネルギー線を照射する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大型のフォトマスクを用いることなく精度よく配向処理を行うことができる配向処理方法および配向処理装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 (もっと読む)


【課題】基板上に液晶用配向膜としてポリマーブラシを必要な箇所のみに選択的に且つ簡便に形成する方法を提供すること。
【解決手段】基板上のポリマーブラシの形成が不要な部分にマスクを形成する工程と、該マスクが形成された基板を固定化膜形成用溶液に浸漬し、基板の露出部分に固定化膜を形成する工程と、該固定化膜が形成された基板をポリマーブラシ形成用溶液に浸漬し、該ポリマーブラシ形成用溶液に含まれるラジカル重合性モノマーのリビングラジカル重合反応により該固定化膜上にポリマーブラシを形成する工程と、該ポリマーブラシが形成された基板から該マスクを除去する工程とを含む液晶用配向膜の形成方法である。 (もっと読む)


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