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Fターム[2H092KA12]の内容

Fターム[2H092KA12]に分類される特許

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【課題】実質的な開口率をより一層向上できるMVAモードの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、画素毎にTFT214と該TFT214に電気的に接続された画素電極215とを有している。TFT214は、ゲートバスライン211及びデータバスライン212に接続されている。1つの画素は4つの領域に分割されており、画素電極215には各領域毎に異なる方向に延びる微細電極部215bが設けられている。また、微細電極部215bの基端側の微細電極部間の領域の形状が、微細電極部間の領域の中心線に対し線対称となる形状となっている。 (もっと読む)


【課題】極性反転駆動を行う際、極性反転に伴って、画素電極に導通する保持容量を切り換えることのできる電気光学装置、および電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置において、画素電極9aの電位が共通電極21の電位より高い第1期間では、第1保持容量80aが画素電極9aに導通状態となるので、第1電極81、第1誘電体層86(第1絶縁材料/シリコン酸化膜/SiO2)、第2誘電体層87(第2絶縁材料/シリコン窒化膜/SiN)、および第2電極82に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。これに対して、画素電極9aの電位が共通電極21の電位より低い第2期間では、第2保持容量80bが画素電極9aに導通状態となるので、第4電極84、第4誘電体層89(第1絶縁材料/シリコン酸化膜/SiO2)、第3誘電体層88(第2絶縁材料/シリコン窒化膜/SiN)、および第3電極83に向けて電流が流れ、電荷が蓄積される。 (もっと読む)


【課題】映像信号線のパターニング時における映像信号線の断線を防止する。
【解決手段】映像信号線107、ドレイン電極107、ソース電極107は同層で同時に形成される。映像信号線107等はベース層1071、AlSi層1072、キャップ層1073の3層によって形成される。従来は、AlSi層1072において、キャップ層1073との境界にエッチングレートの早い合金が形成されて映像信号線107等のパターニング時、断線を生じていた。本発明では、映像信号線107等の形成時、AlSi層1072をスパッタリングによって形成した後、TFTを大気にさらし、AlSi層の表面にAl酸化層を形成した後、キャップ層1073をスパッタリングによって形成する。これによってAlSi層に、エッチングレートが部分的に早くなる合金が発生することを防止し、映像信号線等の断線の発生を防止する。 (もっと読む)


【課題】表示品質を向上させることが可能な電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置100は、TFT30と、TFT30に電気的に接続された容量素子16とを備え、容量素子16は、TFT30と第2層間絶縁層11cを介して形成された第1容量電極16aと、第1容量電極16aに第1誘電体層16bを介して対向配置され、TFT30の半導体層30aに第2層間絶縁層11cに形成されたコンタクトホールCNT53を介して電気的に接続された第2容量電極16cとを有し、第2容量電極16cは、第1導電層16c1と第1導電層16c1上に積層された第2導電層16c2を有し、第1導電層16c1は、コンタクトホールCNT53と重なる領域が除去されてなり、第2導電層16c2と半導体層30aとがコンタクトホールCNT53を介して電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】ESDの影響を効果的に抑制する保護回路を提供すること。またESDの影響が効果的に抑制された半導体装置を提供すること。
【解決手段】保護回路は、少なくとも2つの保護ダイオードを有し、当該保護ダイオードを、チャネルを形成する半導体層を挟んで対向する2つのゲートを有するトランジスタで構成する。さらに当該トランジスタのゲートの一方に、固定電位が入力される構成とすればよい。 (もっと読む)


【課題】電気特性が良好で信頼性の高いトランジスタ及び当該トランジスタを用いた表示
装置を提供する。
【解決手段】チャネル領域に酸化物半導体を用いたボトムゲート型のトランジスタであっ
て、加熱処理により脱水化または脱水素化された酸化物半導体層を活性層に用い、該活性
層は、微結晶化した表層部の第1の領域と、その他の部分の第2の領域で形成されている
。この様な構成をした酸化物半導体層を用いることにより、表層部からの水分の再侵入や
酸素の脱離によるn型化や寄生チャネル発生の抑制、及びソース電極及びドレイン電極と
の接触抵抗を下げることができる。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、保持容量を十分に確保することができ、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】ゲート電極30gと電気的に接続された走査線3aと、データ線側ソースドレイン領域30sと電気的に接続されたデータ線6aと、画素電極側ソースドレイン領域30dと電気的に接続された画素電極27と、容量線3bに電気的に接続された第1容量電極16aと、第1容量電極16aと対向して設けられた第2容量電極16cと、第1容量電極16aと第2容量電極16cとに挟持された誘電体層16bと、を有する容量素子16と、を備え、トランジスター30と走査線3aとデータ線6aとが設けられた層と、画素電極27が設けられた層との間において、第1容量電極16aは、誘電体層16b及び第2容量電極16cに覆われて配置されている。 (もっと読む)


【課題】画素領域の平坦性が改善され、画素領域で液晶分子が均一に配向し、表示ムラのない、良好な表示品質の電気光学装置を提供する。
【解決手段】第1の絶縁膜13と、第1の絶縁膜13の上に形成され、保持容量電極が配置された保持容量領域Sと、第1の絶縁膜13と保持容量電極とを覆って形成された第2の絶縁膜14と、第2の絶縁膜14の上に配置された複数の画素電極15とを備え、第1の絶縁膜13に凹部9を形成し、凹部9の底面9aに保持容量領域Sを形成する。第2の絶縁膜14の前駆体膜14aでは、下層の保持容量16の形状が反映した、保持容量領域Sで広範囲に盛り上がった凸形状が軽微になる。平坦化処理を施すことで、広範囲に盛り上がった凸形状は解消され、平坦な表面の第2の絶縁膜14を得ることができる。従って、画素領域Eでは液晶分子が均一に配向し、表示ムラのない、良好な表示品質の電気光学装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】液晶装置において、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】液晶装置100は、素子基板と対向基板とに挟持された液晶層と、素子基板に設けられたTFT30と、TFT30と電気的に接続された容量電極16aと誘電体層16bと画素電極16cとを有する容量素子16とを備え、容量電極16aは、平面的に隣り合う画素電極16c間の領域に窪み55を有する。 (もっと読む)


【課題】微細化を実現し、トランジスタとして十分に機能できる電気的特性を付与された半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体層、ゲート絶縁膜、及びゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、該半導体層としてインジウム、ガリウム、亜鉛、及び酸素の4元素を少なくとも含み、該4元素の組成を原子百分率で表したとき、インジウムの割合が、ガリウムの割合及び亜鉛の割合の2倍以上である酸化物半導体膜を用いる。該半導体装置において、酸化物半導体膜は作製工程において酸素が導入され、酸素を多く(過剰に)含む膜であり、トランジスタを覆う酸化アルミニウム膜を含む絶縁層が設けられる。 (もっと読む)


【課題】単極性のTFTを用いて構成するデジタル型式の表示装置において、消費電流を低減することの出来る回路を提供する。
【解決手段】デジタル映像信号の保持を行うラッチ回路であって、TFT101の入力電極にデジタル映像信号が入力されると、TFT101の出力電極からは非反転出力信号が出力され、TFT102およびTFT103の出力電極からは反転出力信号が出力されるラッチ回路を提供する。出力を非反転、反転の2系統得られるため、後段のバッファを駆動する際に、電源間の直流パスが生ずる期間を短くすることが出来、消費電流の低減に寄与する。 (もっと読む)


【課題】非選択期間においてノイズが少なく、且つトランジスタを常時オンすることのない半導体装置、シフトレジスタ回路を提供することを目的とする。
【解決手段】第1〜第4のトランジスタを設け、第1のトランジスタの、ソースとドレインのうち一方を第1の配線に接続し、他方を第2のトランジスタのゲート電極と接続し、ゲート電極を第5の配線に接続し、第2のトランジスタの、ソースとドレインのうち一方を第3の配線に接続し、他方を第6の配線に接続し、第3のトランジスタの、ソースとドレインのうち一方を第2の配線に接続し、他方を第2のトランジスタのゲート電極に接続し、ゲート電極を第4の配線に接続し、第4のトランジスタの、ソースとドレインのうち一方を第2の配線に接続し、他方を第6の配線に接続し、ゲート電極を第4の配線に接続する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。信頼性の高い半導体装置を歩留まり良く作製する。
【解決手段】酸化物半導体膜を有するトップゲート構造のスタガ型トランジスタにおいて、酸化物半導体膜と接する第1のゲート絶縁膜を、プラズマCVD法によりフッ化珪素及び酸素を含む成膜ガスを用いた酸化シリコン膜で形成し、該第1のゲート絶縁膜上に積層する第2のゲート絶縁膜を、プラズマCVD法により水素化珪素及び酸素を含む成膜ガスを用いた酸化シリコン膜で形成する。 (もっと読む)


【課題】横電界方式の液晶表示装置であって、室外においても鮮明な表示を可能とする携帯電子機器用モニターを提供することを課題とする。
【解決手段】横電界方式の液晶表示装置において、反射電極を設ける。反射電極を設けることにより、室外において、効率よく自然光を反射することができ、鮮明な表示を提供することができる。さらに反射電極に凹凸を設けると、反射率を高めることができる。このような室外においても鮮明な表示を可能とする横電界方式の液晶表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】液晶の配向不良を抑制するために画素電極を平坦化し、開口率を下げずに十分な
容量を得られる容量素子を有する半導体装置を実現することを課題とする。
【解決手段】薄膜トランジスタ上の遮光膜、前記遮光膜上の容量絶縁膜、前記容量絶縁膜
上に導電層、前記導電層と電気的に接続するように画素電極を有する半導体装置であり、
前記遮光膜、前記容量絶縁膜および前記導電層から保持容量素子を形成することにより、
容量素子として機能する領域の面積を増やすことができる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、電気特性の安定した半導体装置を提供する。とくに、酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接して形成されたソース電極、及びドレイン電極と、を有し、ゲート絶縁膜は、少なくとも酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された酸素放出型の酸化膜と、により構成され、酸素放出型の酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 (もっと読む)


【課題】半導体を基板とする液晶パネルは、ウェル領域があるため、漏れ光がトランジスタ部分のみでなくそこから離れた半導体基板を通過しただけで光リーク電流が流れることがある。この光リーク電流が、ガラス基板上にスイッチング素子としてのTFTを配置した液晶パネルに比べて多くなるという欠点がある。
【解決手段】反射電極となる画素電極(14)と、画素電極への電圧印加を制御するスイッチング素子とを有する画素単位が基板上にマトリックス状に配置されてなる液晶パネル用基板において、両素電極とスイッチング素子の端子電極を構成する導電層(6a)との間に、両者を接続するためのコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールの形成箇所を囲む開口を有し、隣接する複数の画素電極の間の領域には開口を有さない遮光層を、画素電極と導電層との間に設けることにより、画素電極どうしの隙間から漏込む光による弊害を防ぐ。 (もっと読む)


【課題】低消費電力化できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】表示部に複数の画素を有し、複数のフレーム期間で表示を行う液晶表示装置であって、フレーム期間は、書き込み期間及び保持期間を有し、書き込み期間において、複数の画素のそれぞれに、画像信号を入力した後、保持期間において、複数の画素が有するトランジスタをオフ状態にして、少なくとも30秒間、画像信号を保持させる。画素は、酸化物半導体層でなる半導体層を具備し、酸化物半導体層は、キャリア濃度が1×1014/cm未満である。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、現在実用化されている量産技術からの膜構成、プロセス条件、または生産装置等の変更が少なく、半導体装置に安定した電気特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、を有し、ゲート絶縁膜は、窒化酸化シリコン膜と、窒化酸化シリコン膜上に形成された酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された金属酸化膜と、を含み、金属酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 (もっと読む)


【課題】 横クロストークが抑制された高画質の横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ゲートバスライン55とドレインバスライン56で画定される画素領域Pの各々に、当該画素領域Pを画定するドレインバスライン56に隣接し且つそれに沿って延在する遮光電極53を設ける。遮光電極53は、孤立していると共に、画素電極71のドレインバスライン56に隣接して延在する櫛歯状部71aと絶縁膜を挟んで重なっており、動作時には電気的にフローティング状態となる。フローティング状態にある遮光電極53の電位は、画素電極71のそれに近い値になるので、ドレインバスライン56と共通電極72(共通バスライン52)との結合容量が減少し、横クロストークの発生が抑制される。 (もっと読む)


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