【課題】 表示領域内に多数個のTFT素子がマトリクス状に配置された表示装置の画質むらを低減する。
【解決手段】 複数本の第１の配線と、絶縁層を介して前記複数本の第１の配線と立体的に交差するように配置された複数本の第２の配線と、隣接する２本の第１の配線および隣接する２本の第２の配線で囲まれた各領域にTFT素子および画素電極が配置された表示パネルを有する表示装置であって、前記表示パネル上の、ある箇所での前記第１の配線の厚さは、前記ある箇所とは別の箇所での前記第１の配線の厚さよりも薄く、前記ある箇所での前記第１の配線の幅は、前記別の箇所での前記第１の配線の幅よりも広い表示装置。 （もっと読む）

【課題】画面影像の品質低降を防止できる透明な基板における透明な基板が見えないようにするという処理方法を提供する。
【解決手段】複数本の透明電極２０をレイアウトした透明な基板２に応用される。透明電極２０と同じ屈折レートを持つ非導電ナノメートル材料粒子を均一に透明な基板２及び透明電極２０に塗布する。透明な基板２に高温の熱処理を行い、ある時間の熱処理をしたあとで、透明な基板２及び透明電極２０に整然平坦かつ均一な遮蔽層２１が形成される。ナノメートル材料粒子により、透明な基板２に透明電極２０をレイアウトしなかった部位と透明電極２０をレイアウトした部位とは光に対する屈折レートが所定の間に維持されるため、画面映像の品質低降を有効に避けることができる。 （もっと読む）

【課題】 半導体回路とカラーフィルターの位置合わせが容易な構造体、反射型表示装置、半導体回路の製造方法および反射型表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 実質的に透明な板状の基材３としてコーニング社製無アルカリガラス１７３７(厚さ０.５mm)を用い、その厚さ方向の一方の面にR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルター層４を形成し、そのうえに透明樹脂からなる保護層を形成した。前記カラーフィルターが基材３の反対側に臨む面に、実質的に透明な薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタに導通される電気的接点を有する実質的に透明な導電材料によって構成される配線とを有する半導体回路を、前記フィルター配列パターンと位置合わせを行って設けた。 （もっと読む）

【課題】基板上の半導体薄膜の結晶化において問題となる結晶の表面の凹凸の生じない結晶化装置および結晶化方法を提供する。
【解決手段】基板１上の半導体薄膜２に、基板１に平行な方向の結晶成長を生じさせる結晶化装置および方法であって、ビームは、所定の間隔を設けて同時に基板１に照射される主ビーム９と補助ビーム１０とにより構成され、主ビーム９により結晶化される際に生じる半導体表面の凹凸を補助ビームで平坦化する。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴアレイを製造するための方法に提供する。
【解決手段】ＴＦＴアレイを製造するための方法は、基板と、複数の第１の導電性ラインと複数の第２の導電性ラインとを有し基板上にパターニングされた第１の金属層と、パターニングされた第１の金属層の上の絶縁層と、パターニングされたシリコン層と、パターニングされたシリコン層の上のパターニングされた保護層と、パターニングされた保護層の上のパターニングされたドープシリコン層及びパターニングされた第２の金属層とを準備し、パターニングされたシリコン層の露出した部分と第１の導電性ラインと第２の導電性ラインの露出した部分を埋め、パターニングされた第２の金属層が、複数の第３の導電性ラインと複数の第４の導電性ラインを備え、そのそれぞれが、複数の第１の導電性ラインと複数の第２の導電性ラインの１つにそれぞれに対応する。 （もっと読む）

【課題】視野角及び画質等の表示品質を改善することのできる液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】複数の画素領域と該各々の画素領域内に配置されるスイッチング素子とを含む下部基板と、前記スイッチング素子上に配置される有機膜と、前記下部基板上の前記画素領域内の前記有機膜上に配置され前記スイッチング素子のドレイン電極と電気的に接続される複数の画素電極部と、該画素電極部間を相互に電気的に接続する連結部とを含む画素電極と、前記連結部の下に配置される第１光遮断パターンと、前記画素領域に対応する表示領域と該表示領域を囲む周辺領域とを含む上部基板と、前記上部基板上に配置され前記各々の画素電極部に対応して、複数の凹部を具備する開口パターンを含む共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置される液晶層とを有する。 （もっと読む）

【課題】クラックが発生することを防止する。
【解決手段】パターニングされた複数の導電性膜と前記導電性膜相互間に形成される層間
絶縁膜との層構造を有し、複数の走査線と複数のデータ線の交差に対応して画素が設けら
れた電気光学装置であって、前記導電性膜の凹凸によって前記層間絶縁膜に生じる段差部
分に対応する領域を含み前記導電性膜上に形成される第１の窒化膜３１と、前記第１の窒
化膜上に形成された前記層間絶縁膜上に、前記第１の窒化膜と同一の平面形状に形成され
る第２の窒化膜３２と、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非線形性の向上、残像現象の原因となる素子ドリフト現象の発生防止、および焼き付きの原因となる非線形特性の不可逆的なシフト現象の発生防止のいずれをも実現することのできる非線素子、この非線形素子を画素スイッチング素子として用いた電気光学装置、および非線形素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】非線形素子１０ｘは、下電極１３ｘ、この下電極１３ｘの表面側を覆う絶縁層１４ｘ、およびこの絶縁層１４ｘを介して下電極１３ｘに対向する上電極１５ｘを備えたＴＦＤ素子である。絶縁層１４ｘに用いたタンタル酸化膜は、水素、窒素およびタングステンを含有し、下電極１３ｘは、下電極１３ｘから絶縁層１４ｘの水素の侵入を防止する酸素を含有するタンタル膜からなる。 （もっと読む）

【課題】有機絶縁物の損傷を防止して表示品質を向上させるための表示基板と、それの製造方法及びそれを具備した表示パネルを提供する。
【解決手段】表示基板はデータ線、ゲート線、画素部及び有機スイッチング素子及び画素電極を含む。データ線は第１方向に延長されて形成される。ゲート線は第１方向と交差する第２方向に延長されて形成される。画素部はデータ線とゲート線によって定義される。有機スイッチング素子は各画素部に形成され、データ線と電気的に連結されたソース電極とゲート線、電気的に連結されたゲート電極、及びゲート電極上に形成された有機半導体層を含む。画素電極は透明な酸窒化物で前記画素部に形成され、前記有機スイッチング素子と電気的に連結される。それにより、透明電極層を酸窒化物で形成することで前記透明電極層の下部に形成される有機絶縁層の損傷を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】画像むらを低減し、生産性を良好にし、省資源化やコスト低減が図れ、透明電極膜の光透過率を９８％以上とする。
【解決手段】半導体基板１と透明基板１０とが所定の間隙ｄ１を有して対向しその所定の間隙に液晶２０が充填された反射型液晶表示素子５０を製造する反射型液晶表示素子の製造方法において、透明基板の半導体基板と対向する面側に第１のＩＴＯ膜１１ａを形成し、この第１のＩＴＯ膜上にＳｉＯ２膜１２ａを形成し、このＳｉＯ２膜上に第２のＩＴＯ膜１３ａを酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを用いこの混合ガスに対する酸素ガスの流量比を０．８〜５％の範囲内とする真空成膜法により形成する。 （もっと読む）

【課題】結晶化半導体薄膜の表面上に低温及び短時間において絶縁耐性に優れた良質な膜質を有する絶縁膜を形成する絶縁膜の製造方法、薄膜トランジスタの製造方法及び液晶表示デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜（ゲート絶縁膜３）及び薄膜トランジスタ１０の製造方法において、基板１上に半導体薄膜２を形成し、半導体薄膜２を結晶化し、結晶化半導体薄膜２０を形成し、結晶化半導体薄膜２０の表面に異方性酸化を行い、結晶化半導体薄膜２０の表面上に異方性酸化膜３１を形成し、異方性酸化膜３１の表面上に絶縁膜３２を成膜する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】製造工程の工程数を削減することによって、製造コストを大幅に低減でき、かつ、製造歩留りを向上させることが可能なＴＦＴ基板及びＴＦＴ基板の製造方法の提案を目的とする。
【解決手段】ガラス基板１０と、ゲート電極２３及びゲート配線２４と、ゲート絶縁膜３０と、ｎ型酸化物半導体層４０と、酸化物導電体層６０を具備し、チャンネル部４１を保護するチャンネル部用エッチストッパー５３と、酸化物導電体層６０を有する、ソース配線６５，ドレイン配線６６，ソース電極６３，ドレイン電極６４及び画素電極６７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成可能とする。
【解決手段】基板Ｐ上に積層構造の配線４１、４２を形成する。基板Ｐ上に下地層Ｆ１を形成する工程と、下地層Ｆ１の上に液状体の液滴を吐出して配線本体Ｆ２を形成する工程とを有する。液状体は、銀を含む第１微粒子と、第１微粒子に添加され銀とは異なる第２微粒子とを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の機能を確保しつつ、安定してパターンを形成する。
【解決手段】機能液を基板上に配置して線状の第１膜パターン４０と、第１膜パターン４
０より幅狭で基端部で第１膜パターン４０に接続される第２膜パターン４１とを形成する
。第１膜パターン４０に対応する第１開口部５５及び第２膜パターン４１に対応する第２
開口部５６を有する隔壁３４を形成する工程と、第１開口部５５に機能液の液滴を配置し
、機能液の自己流動により機能液を第２開口部５６に配置する工程とを有する。第２膜パ
ターン４１の先端部は、矩形輪郭を欠落させた形状の欠落部４１ａを有する。 （もっと読む）

【課題】共通電位を第１の基板側から第２の基板側に供給する液晶表示装置において、その信頼性を向上させると共に狭額縁化、または歩留まりの向上を図る。
【解決手段】第１の基板１０及び第２の基板２０は、共通電位線ＣＯＭ１の形成領域よりも平面的に広く延在するシール領域兼パッド領域に形成されたシール樹脂３０を介して貼り合わされている。シール樹脂３０には、スペーサ粒子３１及び導電粒子３２が含まれている。また、第１の基板１０側に形成された透明電極パッド１６は、コンタクトホールＨ１を通して共通電位線ＣＯＭ１と接続され、垂直駆動回路１０２上に一部重畳するように平坦化膜１５上に至るまで延在するように形成されている。透明電極パッド１６は、シール樹脂３０の導電粒子３２を介して、第１の基板１０に対向する第２の基板２０の表面に形成された対向電極２１と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスを増やすことなく、対向基板側のブラックマトリクスによる開口率の低下を解消した液晶表示パネルおよび該液晶表示パネルを備える液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示パネルは、複数の画像信号配線２と、複数の走査信号配線１と、スイッチング素子５と、画素電極３と、対向電極１１と、液晶材料１０とを有しており、画素電極３よりも画像信号配線２側に張り出し且つ画素毎に分離された光反射性の金属膜４を、画素電極３の裏面側に絶縁膜８を介して設けてなる。また、金属膜４は、画素毎に一対の帯状金属膜からなり、画素電極３と一対の帯状金属膜の一方との間の重なり容量が一対の帯状金属膜の一方と対向電極１１との間の液晶容量の２倍以上であり、画素電極３と一対の帯状金属膜の他方との間の重なり容量が一対の帯状金属膜の他方と対向電極１１との間の液晶容量の２倍以上である。 （もっと読む）

【課題】
端子間の狭ピッチ化にも低コストで確実に端子の短絡を防ぐことが可能な電子部品の実装方法、実装構造体の製造方法、電気光学装置の製造方法、その実装構造体、その実装構造体を用いた電気光学装置及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】
電極用端子等が設けられた第１の基板５と、当該第１の基板上に実装され、当該電極用端子等に電気的に接続されたバンプ２３を有するＸ，Ｙドライバー１７，１８と、その電極用端子等とバンプ２３との間のみに配置された導電粒子２５とを具備することとした。 （もっと読む）

【課題】腐食を抑制することができ、しかも、信頼性の高い液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 アレイ基板２００は、対向電極３３０に対して所定の電位を供給するための給電配線２５０と、給電配線２５０を覆う絶縁膜２２３及び２２９上に配置された給電パッド２６０と、絶縁膜２２３及び２２９に形成されたコンタクトホール２７０を介して給電配線２５０と給電パッド２６０とを接続する接続部２８０と、を備えている。接続部２８０は、シール領域１１１の外縁１１１Ａより内側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 透明電極膜（画素電極）との接続にＡｌ合金よりも電気抵抗の低いＣｕ合金膜を使用し、且つ、バリアメタルを形成せずとも透明電極との間で低抵抗の直接接続を実現し、液晶パネルなどに適用した場合に高い表示品質を与える表示デバイスを提供すること。
【解決手段】 Ｃｕ合金膜からなる配線・電極部と透明導電膜が、高融点金属薄膜を介することなく直接接続している表示デバイスであって、前記Ｃｕ合金膜中に、Ｚｎおよび／またはＭｇを総量で０．１〜３．０原子％含有させ、あるいはＮｉおよび／またはＭｎを総量で０．１〜０．５原子％含有させ、バリアメタルなしで透明電極との間で低抵抗の直接接続を可能にした。 （もっと読む）

【課題】側壁スペーサを形成することなく、且つ、工程数を増やすことなく、自己整合的にＬＤＤ領域を少なくとも一つ備えたＴＦＴを提供する。また、同一基板上に、工程数を増やすことなく、様々なＴＦＴ、例えば、チャネル形成領域の片側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴと、チャネル形成領域の両側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴとを形成する作製方法を提供する。
【解決手段】回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成する。 （もっと読む）