【課題】光漏れ電流を防止することができる薄膜トランジスタ基板、これを含む液晶表示装置及びこのような薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】光漏れ電流を効果的に最小化する薄膜トランジスタ基板、これを含む液晶表示装置及び薄膜トランジスタの製造方法が提供される。薄膜トランジスタ基板は、ゲートラインとゲートラインと交差するデータラインを含んで、ゲートラインから絶縁基板上に形成されたゲート電極と、ゲート電極上に絶縁されて形成された半導体層と、ゲート電極と少なくとも一部分が重なってゲート電極の周囲に配置された光遮断膜と、データラインから形成されて半導体層と少なくとも一部分が重なるソース電極と、ゲート電極を中心にしてソース電極と対向して前記半導体層と少なくとも一部分が重なるドレイン電極を含むトランジスタ構造及びトランジスタ構造上に絶縁されてドレイン電極と電気的に接続された画素電極を含む。 （もっと読む）

本発明は、下部電極をフォトマスクに利用して、絶縁膜上に下部電極と概ね同一パターン形状の撥液領域と概ね反転パターン形状の親液領域を形成して、親液領域内に導電性インクを塗布焼成して、下部電極に対して概ね反転パターン形状の上部電極を自己整合して形成するため、印刷法を用いても位置ずれが発生しない。このため、アクティブマトリクス型薄膜トランジスタ基板などの半導体装置が印刷法を用いて形成できる。
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【課題】充分な遮光性を有する一方、光を照射することで充分に硬化させることができるため、滴下工法により製造した場合であっても、光の漏れ出しがなく高いコントラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる液晶滴下工法用遮光シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】環状エーテル基を有する硬化性化合物、光カチオン開始剤、及び、遮光性着色剤を含有する液晶滴下工法用遮光シール剤。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ法を用いることなく、半導体層をパターニングすることで形成された、半導体装置、電気光学装置、電子機器、半導体装置の製造方法、電気光学装置の製造方法、および電子機器の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置は、基板上方に、第１の導電膜と、第２の導電膜と、上記第１および第２の導電膜上に形成された半導体層と、上記半導体層上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された塗布膜と、を有し、上記半導体層と上記塗布膜の幅は等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
電子部品の端子に電気的に接続された基板側の端子の破損を防止することが可能な電気光学装置、電気光学装置の製造方法、実装構造体及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】
半導体素子２３の外形の一端の辺ａに沿ってＹ方向に配列された複数の端子２６を結ぶ直線の延長線に交差すると共に、辺ａに対向する辺ｂに沿ってＹ方向に配列された複数の端子２７を結ぶ直線の延長線に交差してＸ方向に設けられているので、例えば回路基板３を折り曲げるような力が働くときに、剛性が異なる境である半導体素子２３の外形の辺ａに沿うように端子２６の部分等に大きな力が働き、図３の矢印Ｃで示す部分で端子２６の破断が生じ易いが、補強部材２４により、力が作用する点を端子２６、２７からＸ方向にずらして、端子２６、２７を補強することができ、端子２６、２７の破損を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 耐久性に優れ高真空度での加熱でもガス発生を生じない導電回路と、この導電回路の形成方法、および、このような導電回路を備えた信頼性、耐久性の高い電子ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 導電回路を、ガラス層と、このガラス層上に無電解めっき膜または置換めっき膜である導電薄膜を介して設けられた主導電層とを有する構成とし、このような導電回路は、無電解めっき用の触媒化処理を施したガラスフリットと、該ガラスフリットの軟化点以下の温度で昇華または蒸発可能な媒体をバインダーとしてスラリー状の塗布液を調製し、この塗布液を用いて基体上に所望の回路パターンを形成し、ガラスフリットの軟化点以下の温度で媒体を除去し、次に、ガラスフリットを軟化して基体上にガラス層を形成した後、無電解めっきによりガラス層上に無電解めっき膜を形成して導電薄膜とし、この導電薄膜を給電層として、電解めっきにより主導電層を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】微細且つ高性能な膜パターンを安定して形成することのできる膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の膜パターンの形成方法は、機能液を基板上に配置することにより膜パターンを形成する方法であって、基板上に膜パターンに応じたバンクを形成するバンク形成工程Ｓ１と、バンクをマスクとしてバンク間の底部に微細な凹凸を形成する凹凸形成工程Ｓ４と、凹凸が形成されたバンク間に機能液を配置する材料配置工程Ｓ５とを有する。 （もっと読む）

【課題】 小型化が容易な電気光学装置を提供する。
【解決手段】 電気光学装置１０は、複数のＥＬ素子が配列された発光パネル１１と、発光パネル１１に電気エネルギ若しくは電気信号又はその両方を与える制御基板１２と、発光パネル１１と制御基板１２とを電気的に接続するフレキシブル基板１３とを備える。発光パネル１１と制御基板１２は重なっており、発光パネル１１の一端１１Ａと制御基板１２の一端１２Ａは同じ側に位置し、発光パネル１１の他端１１Ｂと制御基板１２の他端１２Ｂは同じ側に位置している。フレキシブル基板１３は発光パネル１１の一端１１Ａと制御基板１２の他端１２Ｂを結んでおり、制御基板１２はフレキシブル基板１３を介して発光パネル１１に電気エネルギ若しくは電気信号又はその両方を供給する。 （もっと読む）

【課題】大量生産上、大型の基板に適している液滴吐出法を用いた製造プロセスを提供する。
【解決手段】液滴吐出法で感光性の導電膜材料液を選択的に吐出し、レーザ光で選択的に露光した後、現像またはエッチングすることによって、レーザ光で露光した領域のみを残し、吐出後のパターンよりも微細なソース配線およびドレイン配線を実現する。ＴＦＴのソース配線およびドレイン配線は、島状の半導体層を横断して重ねることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 例えば、ＴＦＴのソース電極及びドレイン電極と半導体層とのコンタクト抵抗を低減しつつ、オフ電流の発生を抑制する。
【解決手段】 レジスト膜３０９に形成された開口部３１０を介してソース領域３０２ｂ´及びドレイン領域３０２ｃ´の夫々に不純物をドープする。ここで、ソース領域３０２ｂ´及びドレイン領域３０２ｃ´のうち開口部３１０に臨む領域、即ち最終的にソース電極及びドレイン電極が半導体層３０２の表面と接触する領域である接続領域３１１ａ及び３１１ｂに開口部３１０を介して選択的に不純物がドープされる。そして、レジスト膜３０９及び窒化膜３０８を除去した後、接続領域３１１ａ及び３１１ｂ、ゲート絶縁膜３０４、ゲート電極膜３０６を覆うように絶縁膜３１２を形成する。この状態で、半導体層３０２をアニール処理し、半導体層３０２におけるソース領域３０２ｂ´、ドレイン領域３０２ｃ´、接続領域３１１ａ及び３１１ｂ、並びにＬＤＤ領域３０３ａ及び３０３ｂを活性化する。 （もっと読む）

【課題】
駆動回路を備える表示装置において、簡易な構成で駆動回路を確実に遮光し、製造コストの低廉化を図ることができる表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる表示装置は、配線基板を有する液晶表示パネル１０と、配線基板に設けられた駆動回路３０と、配線基板の駆動回路３０が設けられた前面側に取り付けられたパネル用ＦＰＣ２２と、パネル用ＦＰＣ２２から延設され、配線基板の背面側に取り付けられたセンサ用ＦＰＣ２１とを備え、センサ用ＦＰＣ２１が、配線基板の駆動回路３０が設けられた領域まで延在する延在部２１ｂを備え、センサ用ＦＰＣ２１の延在部２１ｂに駆動回路３０を遮光する延在パターン５６が形成されているものである。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示パネルの画素ピッチを細密化しても接続電極パッド幅を大きく確保し、配線電極間の絶縁を保ち各配線の電気的特性を揃える。
【解決手段】 隣接する１組の表示電極（Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３）が配線電極（１１３、１１４、１１５）を介して接続電極パッド（１１６、１１７、１１８）に接続する液晶表示パネルにおいて、前記１組の表示電極幅内に前記表示電極に対応する前記接続電極パッドを表示領域（４０１）の外周辺に対して直交方向に直列配置し、表示領域から遠い接続電極パッドに接続される配線電極は前記表示領域から近い接続電極パッドの側辺を通すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製品の収率を向上し得る表示装置及びこれの製造方法を開示する。
【解決手段】表示装置は、信号ライン、及び絶縁膜を含む表示パネル、及び導電性接着部材を媒介として表示パネルに付着され、信号ラインと電気的に連結され、画像信号を提供して信号生成部を具備する。信号ラインは、信号生成部と隣接した端部にパッドが形成される。絶縁膜は、導電性接着部材が表示パネルに安定的に付着されるように互いに隣接した二つのパッドの間で部分的に除去され、パッドが位置する領域とパッドの周辺領域との段差を減少させる。これによって、信号生成部と表示パネルとの結合力が向上されるので、表示装置は製品の収率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ゲート配線または第一の電極配線間の短絡による歩留りの低下を防止すると共に、比抵抗が小さい材料を用いてゲート配線または第一の電極配線を構成することによりそのパターンを細線化し、高開口率化による低消費電力の液晶表示装置と、それを高歩留りで製造する製造方法、およびそれに用いられるＴＦＴアレイ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲート電極とゲート配線、または第一の電極、第一の電極配線、第二の電極が、ＡｌまたはＡｌ合金と、その表面側のＡｌより硬度の高い金属層との二層膜、または多層膜で構成され、それらは、Ａｌより硬度の高い金属膜をブラシ洗浄し、パターニングすることができ、それらの配線間短絡を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 ドライプロセスとフォトリソエッチングを組み合わせた工程の回数を低減することができるアクティブマトリクス基板の製造方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１方向又は第２方向のいずれか一方の配線４２が交差部５６において分断された格子パターンの配線４０，４２，４６を基板Ｐ上に形成する第１工程と、交差部５６及び配線４０，４２，４６の一部上に絶縁膜と半導体膜３０とからなる積層部を形成する第２工程と、積層部上に分断された配線４２を電気的に連結させる導電層４９、及び半導体膜３０を介して配線４２と電気的に接続される画素電極４５を形成する第３工程と、を有する。ここで、導電層４９と画素電極４５の形成工程は、導電層４９及び画素電極４５を区画するバンクを液滴吐出法により形成する工程と、このバンクによって区画された領域に導電材料を含む機能液を配置する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶滴下により、広視野角表示のマルチドメイン垂直配向型の液晶表示装置を実現する。
【解決手段】第１の基板及び第２の基板間に滴下された液晶を保持するためのシール材と、シール材に囲まれ、第１の基板上に設けられた画素部と、シール材の外側において、第２の基板とは重ならない領域の第１の基板上に配置されるＩＣチップと、シール材の外側において、第２の基板とは重ならない領域の第１の基板上に配置される、画素部とＩＣチップとを電気的に接続する異方性導電膜と、シール材と交差するように画素部から異方性導電膜が配置される領域まで延び、第１の基板上に設けられた画素部とＩＣチップとを電気的に接続する配線とを有する液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能な電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、電気光学物質１３０と、該電気光学物質の一側に配置された画素電極１１４と、該画素電極に接続されたスイッチング素子１１７と、前記電気光学物質を介して前記画素電極に対向する対向電極１２２とを有する電気光学装置において、前記画素電極に対して前記電気光学物質とは反対側に対向配置され、前記画素電極との間に補助容量を構成する容量電極１１２を設け、前記容量電極は、前記複数の画素電極に対向する領域に跨って一体に形成され、当該容量電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極とを接続するコンタクトホールと、を絶縁する開口１１２ａを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品位を高くできる液晶表示装置を提供する
【解決手段】下側電極材12の透明電極14と上側電極材16の透明電極18とが対向したタッチパネル11を液晶表示パネル２上に貼り合わせる。液晶表示パネル２の温度が低い場合に、タッチパネル11の透明電極14,18間に電圧を印加してパネルヒータとして機能させて液晶表示パネル２を加熱する。液晶表示パネル２の温度が高くなったら、タッチパネル11の透明電極14,18間への電圧の印加をパネルヒータ用からタッチパネル用に切り替える。液晶表示パネル２の液晶組成物の粘性の温度依存性に起因する低温時の応答速度の遅延を防止できる。低温時でも液晶表示パネル２の応答速度を速くできる。
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【課題】本発明は、表示素子に適用される液晶表示装置及びその製造方法に係り、必要となるマスク工程の数を減少させることができる構造及び製造工程を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、第１基板及び第２基板と、第１基板上のゲートラインと、第１基板上の共通ラインと、第１基板上に配設され、共通ラインと接続する共通電極と、ゲートラインと、共通ライン及び共通電極上のゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に配設され、ゲートラインと交差するデータラインと、ゲートラインと接続するゲート電極と、データラインと接続するソース電極と、ドレイン電極及びソース電極とドレイン電極との間にチャネルを形成する半導体層を備える薄膜トランジスタと、ドレイン電極と接続し、画素電極の一部と重畳する画素電極と、を含む。 （もっと読む）

【課題】アクティブ基板上に柱状スペーサを形成し、液晶表示装置の生産コストの低減を図る。
【解決手段】アクティブ基板を保護する機能を有するパシベーション絶縁層またはソース・ドレイン配線上に形成された感光性有機絶縁層パターンの形成にあたり、ハーフトーン露光技術を併用して、パシベーション絶縁層上に局所的に感光性有機絶縁層パターンを形成する、感光性有機絶縁層よりなるパシベーション絶縁層の一部の膜厚を厚く形成する、あるいはソース・ドレイン配線上に形成された感光性有機絶縁層の一部の膜厚を厚く形成する等の手段によりアクティブ基板上に柱状スペーサを形成する。 （もっと読む）