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Fターム[2H092MA17]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 製造方法 (16,988) | 製法、工程 (14,676) | パターン形成 (6,228) | エッチング (2,565)

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【課題】薄膜トランジスタの特性を均一に確保できる結晶化用光マスク及びそれを利用した薄膜トランジスタ表示板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による結晶化用光マスクは、スリットが一定に配列されている一つ以上のスリット領域を含み、前記スリットはマスクの移動方向に対し一定角度で傾斜して設けられ、スリット領域は、第1の長さを有する第1部分と第1の長さよりも長い第2の長さを有する第2部分とを含む。 (もっと読む)


【課題】レジストの広がりを容易に制御して、寄生容量の増加を抑制する。
【解決手段】ゲート電極11aa上に、ゲート絶縁膜12、第1半導体膜13、第2半導体膜14及び金属膜を成膜し、金属膜上にレジストを形成する工程と、レジストから露出する金属膜、及びレジストの薄膜部の下層に配置する金属膜の上層部をエッチングしてソースドレイン形成層15aを形成する工程と、レジストRbbから露出するソースドレイン形成層15a及び第2半導体膜14の温度差に基づいてリフロー処理を行いレジストRbcに変形する工程と、レジストRbcを用いて第1半導体層13a及び第2半導体層形成層14aを形成する工程と、レジストRbcを除去した後に、ソース電極及びドレイン電極を形成し、両電極から露出する第2半導体層形成層14aをエッチングして第2半導体層14bを形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】広視野角の液晶表示装置を得る。
【解決手段】薄膜トランジスタを覆う平坦化絶縁膜18上に液晶駆動用の画素電極19、画素電極19の上にはラビング処理を施さない垂直配向膜31が形成され、共通電極23中には電極不在部である配向制御窓24、共通電極23上にはラビング処理を施さない垂直配向膜32が形成されている。負の誘電率異方性を有する液晶はプレチルトを有することなく法線方向に初配向制御され、電圧印加により、画素電極19端及び配向制御窓24端における斜め電界に傾斜方向が制御され、画素分割が行われる。画素間のブラックマトリクスが省略されてTFTに対応する領域のみ遮光膜21BLが形成され、光リーク電流を防いでいる。 (もっと読む)


【課題】画質が明るく安価な発光装置およびそれを用いた電気器具を提供する。
【解決手段】同一の絶縁体上に画素部および駆動回路を含む発光装置において、画素部および駆動回路は全てnチャネル型の半導体素子で形成され、製造工程が簡略化されている。また、画素部に設けられた発光素子は、絶縁体から遠ざかる方向に放射されるため、ほぼ画素電極(EL素子の陰極に相当する)全体が有効発光領域となる、従って、画素電極の面積を有効に活用した表示領域とすることができ、画質が明るく安価な発光装置が得られる。 (もっと読む)


【課題】広い視野角を有しており、かつ従来と比べて製造コストが低い液晶表示装置を提
供する。
【解決手段】下地絶縁膜101上に形成され、トランジスタのソース102d、チャネル
領域102c、及びドレイン102bが形成された島状の第1の半導体膜102と、ソー
ス102d又はドレイン102bとなる第1の半導体膜102と同一の材料から構成され
、下地絶縁膜101上に形成された第1の電極102cと、第1の電極102cの上方に
形成され、第1の開口パターン112を有する第2の電極108と、第2の電極108の
上方に配置された液晶110とを具備する。 (もっと読む)


【課題】周囲の明るさに合わせた画像表示を行う液晶表示装置を提供することを課題の一とする。或いは、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】液晶層を介して入射する光を反射して表示を行う反射領域と、バックライトからの光を透過して表示を行う透過領域とを設け、反射モードと透過モードの切り換えを行う。フルカラー画像の表示を行う場合、画素部が第1の領域及び第2の領域を少なくとも有し、第1の領域に、異なる色相を有する複数の光が、第1の輪番に従い順次供給されると共に、第2の領域にも異なる色相を有する複数の光が、第1の輪番とは異なる第2の輪番に従い、順次供給される。透過モード時に、反射領域を黒表示として、外光が反射領域で反射されることによるコントラストの低下を防ぐ。 (もっと読む)


【課題】 コモン転移シール部の幅の広がりが抑制された液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】 第1基板20と第2基板10との間に設けられた液晶層40と、液晶層を包囲するシール部32と、第1基板と第2基板とを電気的に接続する転移部60とを有し、表示領域と前記表示領域の周辺の非表示領域とを備え、非表示領域内に、第1基板と第2基板との間の間隙が部分的に広い広ギャップ領域を有し、広ギャップ領域は、第1基板または第2基板の表面の凹部を含み、転移部60とシール部32の少なくとも一部32cが凹部に設けられている。広ギャップ領域は、例えば、樹脂層61の貫通孔61aによって形成される。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタにおいて、電気的特性の変動が小さく、信頼性の高く、かつ、オン電流の大きい半導体装置を作製する。
【解決手段】酸化物半導体層のチャネル領域に接する絶縁層として、酸素放出量の多い絶縁層を用い、酸化物半導体層のソース領域及びドレイン領域に接する絶縁層として、酸素放出量の少ない絶縁層を用いる。酸素放出量の多い絶縁層から酸素が放出されることにより、チャネル領域中の酸素欠損及び当該絶縁層とチャネル領域の界面準位密度を低減することができ、電気的特性の変動が小さく、信頼性の高い半導体装置を作製することができる。ソース領域及びドレイン領域については、酸素放出量の少ない絶縁層に接して設けることで、ソース領域及びドレイン領域の高抵抗化を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 シール材の内側と外側とで基板間の距離を均一化することによって、セル厚ムラが生じず、表示領域全体で表示の均質化を図ることができる液晶表示用パネル及びそれを備える液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 薄膜トランジスタ基板とそれに対向する対向基板がシール材で貼り合わされ、該シール材で囲まれた領域の内側に液晶層が挟持された液晶表示用パネルであって、
該液晶表示用パネルは、シール材で囲まれた領域の内側及び外側にスペーサーが配置され、該薄膜トランジスタ基板は、スペーサーと重畳する領域に配置されたパネル構成部材の厚みが、シール材で囲まれた領域の内側と外側とで実質的に等しい液晶表示用パネル。 (もっと読む)


【課題】特性が良好なトランジスタを提供する。
【解決手段】例えば、ボトムゲート・ボトムコンタクト構造のトランジスタを作製するに際して、ソースとドレインを構成する導電層を3層の積層構造とし、2段階のエッチングを行う。すなわち、第1のエッチング工程には、少なくとも第2の膜及び第3の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、第1のエッチング工程は少なくとも第1の膜を露出するまで行う。第2のエッチング工程には、第1の膜に対するエッチングレートが第1のエッチング工程よりも高く、「第1の膜の下に接して設けられている層」に対するエッチングレートが第1のエッチング工程よりも低いエッチング方法を採用する。第2のエッチング工程後にレジストマスクをレジスト剥離液により剥離するに際し、第2の膜の側壁が少し削られる。 (もっと読む)


【課題】電気特性が良好な半導体装置を、生産性高く作製する。
【解決手段】第1の条件により、高い結晶性の混相粒を低い粒密度で有する種結晶を形成した後、第2の条件により混相粒を成長させて混相粒の隙間を埋めるように、種結晶上に微結晶半導体膜を積層形成する。第1の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体の流量に対する水素の流量を50倍以上1000倍以下にして堆積性気体を希釈し、且つ処理室内の圧力を67Pa以上1333Pa以下とする条件である。第2の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素との流量比を周期的に増減させながら処理室に供給し、且つ処理室内の圧力を1333Pa以上13332Pa以下とする条件である。 (もっと読む)


【課題】画質の低下を防ぐことができる液晶表示装置及びその駆動方法の提案を課題の一つとする。或いは、消費電力の低減を実現することができる液晶表示装置及びその駆動方法の提案を課題の一つとする。
【解決手段】第1の領域及び第2の領域を少なくとも有する画素部と、複数の光源とを有し、第1の領域及び第2の領域は、画像信号の電圧に従って透過率が制御される液晶素子と、電圧の保持を制御するオフ電流の著しく低いトランジスタとをそれぞれ有し、複数の光源は、第1の領域に異なる色相を有する複数の光を第1の輪番に従い順次供給すると共に、第2の領域に異なる色相を有する複数の光を第1の輪番とは異なる第2の輪番に従い順次供給する第1の駆動、或いは第1の領域及び第2の領域のいずれか一つまたは両方に単一の色相を有する光を連続して供給する第2の駆動を行い、電圧の保持を行う期間が、第1の駆動と第2の駆動とで異なる液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性を向上させる。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、第13族元素および酸素を含む材料を用いて酸化物半導体膜と接する絶縁膜を形成することにより、酸化物半導体膜との界面の状態を良好に保つ。さらに該絶縁膜が、化学量論的組成比より酸素が多い領域を含むことにより、酸化物半導体膜に酸素を供給し、酸化物半導体膜中の酸素欠陥を低減する。また、酸化物半導体膜と接する絶縁膜を積層構造として、酸化物半導体膜の上下に、アルミニウムを含む膜を設けることで、酸化物半導体膜への水の侵入を防止する。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の周囲が明るい環境でも、薄暗い環境でも、その環境に合わせて画像表示を認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。或いは、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】液晶層を介して入射する光を反射して表示を行う領域(反射領域)と、バックライトからの光を透過して表示を行う領域(透過領域)とを設け、透過モードと反射モードの切り換えを行う。フルカラー画像の表示を行う場合、画素部が第1の領域及び第2の領域を少なくとも有し、第1の領域に、異なる色相を有する複数の光が、第1の輪番に従い順次供給されると共に、第2の領域にも異なる色相を有する複数の光が、第1の輪番とは異なる第2の輪番に従い、順次供給される。 (もっと読む)


【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 (もっと読む)


【課題】遮光層の端部で回折した光が半導体層に照射されTFT特性の変動を引き起こしているため、この光の照射を防止する事により、高い表示品質をもつ液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第3の遮光層108の端部で回折した光117を完全に遮光するため、半導体層103をゲート電極104と第2の遮光部106とで覆うことによって、回折した光の照射を防止し、TFT特性の変動を回避でき、良好な表示画像を得る事ができる。 (もっと読む)


【課題】複数の視点に画像を表示可能な画像表示装置において、画素開口部に配置された構造物に起因する問題を抑制し、高開口率を実現する。
【解決手段】第1と第2の視点用の画像を表示するサブ画素を含む表示単位が配列された表示素子と、サブ画素Pからの光を異なる方向に振り分ける光学手段とを有し、隣接画素対は、データ線Dとゲート線Gと蓄積容量電極で囲まれた領域を開口部と定義した場合に、1本のデータ線を挟んで配置された2つのサブ画素からなる隣接画素対を基本単位として構成される。隣接画素対4PAIRは隣接して配置される。2つのサブ画素がそれぞれ有するスイッチング手段は、2つのサブ画素に挟まれたデータ線Dに接続され、異なるゲート線Gによって制御される。K本の蓄積容量線CSは、サブ画素の第1の方向へ幅をK+1等分に分割する仮想線を仮定した場合に、開口部において仮想線のうち少なくとも1本を跨って配置される。 (もっと読む)


【課題】画面を縦長の状態として用いるか横長の状態で用いるかに拘わらず3次元表示を可能にし、さらに、画面上に2次元表示モードの領域と3次元表示モードの領域とを同時に設ける。
【解決手段】同図Aの使用状態を実現するには、第1の電極群16に接続されているスイッチのXライン発生部31側をオンとし、接地側をオフとする。また、第2の電極群19に接続されているスイッチのうち、Yライン発生部32側の2次元表示モードとする領域に対応するものについてはオフとし、3次元表示モードとする領域に対応するスイッチ33LXをオン、スイッチ33SXをオフとする。さらに、接地側の2次元表示モードとする領域に対応するものについてはオフとし、3次元表示モードとする領域に対応するスイッチ34LXをオフ、スイッチ34SXをオンとする。本発明は、小型ディスプレイを備えるスマートフォン等に適用できる。 (もっと読む)


【課題】信頼性を向上させると共に、電気的特性を改善することができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板11上に成膜された非晶質シリコン膜20に、ガラス基板11の裏面側からレーザ光を照射することによって、縦成長モードで多結晶シリコン膜30を形成する。多結晶シリコン膜30は、溶融した半導体の表面に高い密度で形成された種結晶からガラス基板11側に向かって固化することにより形成される。これにより、多結晶シリコン膜30の表面付近には、微結晶シリコン領域を多く含む不完全結晶層32が形成される。そこで、不完全結晶層32をエッチングにより除去して、多結晶シリコン膜33を形成し、多結晶シリコン膜33を活性層とするTFTを製造する。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第1の電極層(画素電極層)上に第1の壁状構造体、同様に第2の電極層(共通電極層)上に第2の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第1の壁状構造体及び第2の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 (もっと読む)


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