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Fターム[2H092NA23]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 目的 (17,448) | 素子性能の向上 (1,705) | 寄生容量の低減 (220)

Fターム[2H092NA23]に分類される特許

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【課題】 ディスクリネーション発生を抑制することが可能な二端子素子を用いたIPS方式の液晶装置等を提供する。
【解決手段】 素子基板は、TFD素子、画素電極等を有している。各電極の間には、画素電極の要素である第1乃至第3の透明電極部が形成されている。このため、データ線及び走査線に夫々データ信号及び走査信号を出力すると、素子基板と略平行な方向に横電界Eが生じて液晶分子の配向が制御される。本液晶表示装置では、TFD素子近傍のコーナー部に補助電極部を形成する。そのため、第1透明電極部と当該補助電極部とが電気的に接続され、コーナー部を画素電極と同電位にすることができる。これにより、液晶の駆動時、コーナー部付近には斜め電界Eが発生しなくなり、ディスクリネーションが発生するのを軽減できる。よって、その付近で光漏れが生じるのを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】信号歪曲を最小化することができる薄膜トランジスタ表示板を提供する。
【解決手段】ゲート線と、前記ゲート線と交差するデータ線と、各々の前記ゲート線及び前記データ線に連結されている薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに連結されている画素電極と、前記データ線上に形成される保護膜と、前記データ線と少なくとも一部分が重なり、前記データ線を露出する切開部を有する遮蔽電極とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 画素電極とソース電極の重なりを有し、かつ列間反転あるいはドット間反転が行われるカラー液晶表示装置において、クロストークの影響を除去する。
【解決手段】 薄膜トランジスタによる制御回路を有するTFT基板と、これに対向する対向基板間に液晶材料を挟持し、複数行複数列のマトリクス状に画素が配設され、各行に対してゲートバス、各列に対してソースバスが設けられ、隣接する画素列単位、あるいは行方向に隣接する画素単位で反転駆動が行われる、カラー液晶表示装置において、画素電極に対しその左右端部で、2本の前記ソースバスが重なっており、この重なりによる寄生容量が左右で同じであるように配置され、同じソースバスに接続される画素セルには2種類以上の色層が割り当てられ、かつその割合が等しいことを特徴とする。 (もっと読む)


アレイ基板は、表示部(DSP)において、複数の信号線(X1〜Xm)を備えている。各信号線には1行に1個のスイッチング素子が接続されている。M列目の画素列のうちのN行目のスイッチング素子及び(M+1)列目の画素列のうちの(N+1)行目のスイッチング素子は、同一信号線に接続され、しかも、隣接する信号線に互いに逆極性の映像信号が供給される。
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【課題】焼き付き、シミなどの発生を防止して画像品質の向上を実現すると共に、非表示領域の面積を狭くして装置を小型化する。
【解決手段】複数の画素電極111が形成された表示領域Dの周囲に沿うように、ダミー配線電極501を非表示領域Nに形成する。そして、表示領域Dにて画像を表示する際には、対向電極23に印加する電位と同じ電位をダミー配線電極501に印加し、対向電極23とダミー配線電極501との間において液晶層31に印加される電位差を無くす。 (もっと読む)


【課題】液晶表示パネルにおいてデータ線の負荷容量の増大およびバラツキを防止する。
【解決手段】液晶に電界を印加する駆動基板1の一部に対向基板10が重ねられ、当該2枚の基板間に液晶が封入されて表示部が形成されている液晶表示パネルにおいて、駆動基板1は、対向基板10が重ねられていない周辺領域の一方側に形成され、映像信号に応じて液晶に電界を付与する電圧を印加するデータ線ドライバを接続するために、表示部から引き出されている複数N本のデータ線DLのうち対応するデータ線に電気的に接続されている複数のドライバ接続端子2Cと、複数のドライバ接続端子と反対側の周辺領域に形成され、データ線の検査用回路の一部であるがN本のデータ線DLから離れ、電気的に非接続となっている検査用回路3とを有する。
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【課題】フォトリゾグラフィ工程の増加を抑えながら信号端子領域をも含めたa―Si層のアイランド化を行い、全体としての寄生容量の増加を抑えることのできるLCD装置の製造方法に用いるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】ドレイン電極及びソース電極の一部に対応した形状の遮光部と(520−1,520−2)、ドレイン電極及びソース電極のほかの部分、信号配線、信号端子金属電極、引出し線に対応した形状の半透明部(510−1,510−2、510−3、)510−4)とを有するフォトマスク(590−、590−2)。これを用いて、信号配線、信号引出線、信号端子、ドレイン電極の1部、ソース電極の1部となる領域を厚みの薄いレジストパターンで、ドレイン電極及びソース電極が互いに対向する位置からゲート電極幅を超えた短い距離の領域に厚みの比較的厚いレジストパターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 寄生容量の大きさの違いによる輝度不均一を防止できる液晶ディスプレイ装置の提供。
【解決手段】 第1基板、第2基板、及び第1基板と第2基板の間に介装された液晶層を包含する。第2基板はコモン電極線と交錯する第1導電線を包含し、交錯エリア外の第1導電線は第2基板と画素電極の間に位置し、並びに画素電極の第2基板における投影により被覆され、スイッチ素子が第1導電線と第2導電線にそれぞれ接続され、このほか、誘電層が画素電極と第2基板の間に介装され、並びに第1導電線、コモン電極線と第2導電線を被覆する。 (もっと読む)


【課題】時分割駆動によるデータ電位の書き込み精度やノイズに対する安定性を維持しつ
つ、配線構造の複雑化を抑制することのできる新規の電気光学装置及び電子機器を実現す
る。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、複数の画素に対応して設けられた複数のデータ線
と、複数のデータ線X1〜X8に対応して設けられた出力線DO1に複数のデータ線に供
給すべき画素の階調を規定する複数のデータ電位を時系列的に出力するように構成された
データ出力回路41と、出力線の出力を時分割することで得られるデータ電位を複数のデ
ータ線に時系列的に書き込む時分割回路42と、複数のデータ線間の少なくとも一部に配
置され、所定電位に導電接続されたシールド線12と、複数のデータ線とシールド線との
間にそれぞれ接続された負荷容量12,13,14と、を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 表示特性を向上することができる液晶表示装置を開示する。
【解決手段】 第1基板は、表示領域に対応してスイッチング素子と透明電極との接合部をカバーし、透明電極の一部を露出させる開口窓が形成された絶縁膜を備え、開口窓で透明電極と反射電極が電気的に接続される。また、第1基板は駆動領域に対応して駆動回路及び駆動回路の第1領域をカバーする絶縁膜を備える。第1基板と第2基板との間には第1基板と第2基板を結合し、駆動回路の第2領域をカバーするための結合部材が更に設ける。したがって、駆動回路の誤動作を防止することができ、前記駆動回路から出力される信号が歪曲される現象を防止することができる。
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【課題】スルーホールからのノイズをシールドできる構造を有した駆動回路基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 複数の導電層を積層した駆動回路基板5であって、駆動回路基板5の第1主面S1上に配置された配線パターンW1と、駆動回路基板5の第1主面S1から第2主面S5まで貫通するスルーホールTHを介して配線パターンW1と少なくとも1つの導電層S3(SgL)とを電気的に接続する接続部CPと、駆動回路基板5の第2主面S5上において接続部CPと絶縁された状態でスルーホールTHの周囲を囲む接地電位のランド部LPと、ランド部LPを覆いスルーホールTHをシールドするシールド部材SPと、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、縞模様が表示されてしまう
ことを抑制する。
【解決手段】D1〜D8で示される画像データ信号が供給される配線とコンタクトする
D1’〜D8’で示されるサンプリング回路への配線にダミー配線部分を設ける。このダ
ミー配線部分は、バッファー回路側に延在しており、D1〜D8で示される配線が有する
インピーダンスを互いに均一化するために機能する。このような構成とすることにより、
D1〜D8から漏洩される画像データ信号を均一化し、縞模様表示が行われてしまうこと
を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】寄生容量を最小化する。
【解決手段】ゲート電極配線210はボディ部212、互いに平行する2つのハンド部214、216を含む。ドレイン電極配線230は、ゲート電極配線と絶縁されていて、2つのハンド部234、236との間でゲート電極配線の一部と重なって延びている。ソース電極配線240は、ゲート電極配線と絶縁されていて、ボディ部241、2つのハンド部242、244の外側領域で重なりながらドレイン電極と離隔される。これによって、ゲート−ドレインの間の寄生容量を最小化し、ゲート電極領域がカバーする領域内にドレイン及びソース電極を配置することで、ドレイン−ゲートの間のカップリング容量を最小化させかつトランジスタの配置空間を減らすことができる。 (もっと読む)


【課題】アモルファスシリコンTFTを用いた画素領域に、多結晶シリコンTFTを用いたドライバ領域とを一枚の基板に形成することができる液晶パネル用基板及び液晶パネル並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】第1の基板10上の画素領域12に、アモルファスシリコンTFT30を形成し、端子となる部分を露出させて第1の電極露出部22とする。第2の基板100を用いて、駆動回路14,16の能動素子である多結晶シリコンTFTと、それに接続された第2の電極配線群を含む被転写層140を形成し、端子となる部分を露出させて第2の電極露出部141とする。この第1,第2の電極露出部22,141が導通する位置関係にて、第1の基板10上に被転写層140を接合した後、被転写層140より第2の基板100を除去する。 (もっと読む)


【課題】配線抵抗の増加やスイッチング素子の駆動能力の低下を伴うことなく、走査配線と信号配線との交差部に形成される容量を低減することが可能なアクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるアクティブマトリクス基板は、基板10と、基板10上に形成された信号配線11と、信号配線11に交差する走査配線13と、走査配線13に印加される信号に応答して動作するボトムゲート型の薄膜トランジスタ14と、薄膜トランジスタ14を介して信号配線11に電気的に接続され得る画素電極15とを備えている。信号配線11は、第1の層間絶縁膜12を介して走査配線13の下層に形成されており、第1の層間絶縁膜12に形成されたコンタクトホール12’を介して薄膜トランジスタ14のソース電極14Sに電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なTFTを有する表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明の表示装置の一は、絶縁表面上に設けられたソース電極層、ドレイン電極層及び画素電極層を有し、ソース電極層及びドレイン電極層上に一導電型を有する半導体層を有し、一導電型を有する半導体層上に結晶性半導体層を有し、結晶性半導体層に接してゲート絶縁層を有し、ゲート絶縁層に接してゲート電極層を有し、ゲート絶縁層、ゲート電極層、及び画素電極層上に絶縁層を有し、ゲート絶縁層及び絶縁層は、ソース電極層またはドレイン電極層に達する第1の開口部、及び画素電極層に達する第2の開口部を有し、第1の開口部及び第2の開口部に、ソース電極層またはドレイン電極層と画素電極層とが電気的に接続する配線層を有する。 (もっと読む)


【課題】フリッカ、焼き付き、中間階調の表示不良などの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上する。
【解決手段】複数の走査配線211における各行の走査配線211bが、複数の画素電極111のうち、当該行の走査配線211bの形成領域と異なる領域に形成された画素電極111bを選択して画素スイッチング素子112に走査信号を供給するように形成する。これにより、走査信号を供給する際に、走査配線211と画素電極111との間で発生する寄生容量を減少させる。 (もっと読む)


【課題】駆動側基板上の信号線と対向側基板上の透明電極との間に形成される寄生容量が大きいと、信号線によって伝送される映像信号に波形のなまりや遅延が生じたり、あるいは基板外部から映像信号を供給する駆動ICの負荷が増大したりする。
【解決手段】ガラス基板41(駆動側基板)上の第2のガラス基板(対向側基板)42と対向する領域内に信号線33(33R,33G,33B,33P)を配線する配線構造を採る場合において、ガラス基板41上の酸化膜43に凹部45を形成し、この凹部45内に信号線33を配線することにより、透明電極44と信号線33との間の距離を拡大して透明電極44と信号線33との間に形成される寄生容量を低減する。 (もっと読む)


【課題】信号線をブラックマトリクスとして利用する液晶表示装置で光漏れを十分に防止すると共に、小さな配線容量を実現すること。
【解決手段】アレイ基板ASの透明基板SUB1と層間絶縁膜ILIとの間に、画素電極PEに対応して配列すると共に、それぞれ信号線SLの両脇の領域と向き合い且つその信号線SLの正面の位置で少なくとも部分的に開口した遮光層LSを設ける。 (もっと読む)


【課題】ドレインバスラインの断線を補修することができ、補修用配線に起因する寄生容量を低減することができる薄膜トランジスタ基板及び断線の補修方法の提供。
【解決手段】
ドレインバスライン6と透明画素電極9との間に遮光性導電膜2aがゲートバスライン2と同層に形成される構造において、ドレインバスライン6に遮光性導電膜2aに向かって突出する突起部6aを複数設け、遮光性導電膜2aをドレインバスライン6とは突起部6aのみで重なるように形成し、ドレインバスライン6に断線が発生した場合に、断線部分12の両側の突起部6aにレーザ光を照射して突起部6aと遮光性導電膜2aとを溶融接続して迂回経路を形成する。この構造では突起部6aの形状は制限されないためレーザパワーを上げたとしてもレーザ照射部10に新たな断線が生じることなく、また、寄生容量を低減することができる。 (もっと読む)


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