【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供する。
【解決手段】マスクパターンが描画されたマスクフィルムと、その下方に選択的に積層接着された光拡散フィルムとからなる露光用マスクフィルムを用いてプリント配線板を製造し、露光用マスクフィルムを介しソルダレジストを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジストを形成する。 （もっと読む）

【課題】露光マスクを用いる際にマスクパターンにおける静電破壊を防止し得る配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板１０の製造方法では、所定の導体層４４の下層に感光性樹脂層を形成し、導電性遮光膜が形成されたマスクパターンを有する露光マスクを感光性樹脂層の表面に配置した状態で露光・現像を行ってめっきレジストを形成し、めっきレジストの開口部に導体パターンとなる金属めっき層を形成した後、エッチングにより金属めっき層の表面を除去する。マスクパターンは、製品形成領域に対応する第１導電性パターンと、枠部に対応する第２導電性パターンと、第１及び第２導電性パターンを電気的に接続する第３導電性パターンを含む。第３導電性パターンはエッチングで除去可能な細い線幅を有し、導体パターンが形成されない領域に配置できるため、マスクパターンの帯電時に図形パターン間の放電による静電破壊を防止可能となる。 （もっと読む）

【課題】高解像度化が求められているプリント配線板等の回路基板の製造に適したフォトマスクを提供すること、及び、生分解性など分解性とすることが可能で、また、アルカリ処理により廃棄が可能な環境負荷が小さいフォトマスクを提供すること。
【解決手段】式−（Ｏ・ＣＨ_２・ＣＯ）−で表わされるグリコール酸繰り返し単位を７０モル％以上有するポリグリコール酸を含有するフィルムを少なくとも１層備えるフォトマスク、ポリグリコール酸を含有するフィルム及び他の熱可塑性樹脂を含有するフィルムとの積層フィルムを備えるフォトマスク、並びに、これらフォトマスクを使用する回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても画像形成性に優れたフォトマスクブランクス、該フォトマスクブランクスを用いて作製された擦り耐性の高いフォトマスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に、三次元架橋構造を有する酸分解性樹脂及び遮光剤を含有する遮光層と、感光性レジスト層と、をこの順に有するフォトマスクブランクスである。三次元架橋構造を有する酸分解性樹脂は、三次元架橋構造を構成する分子鎖中に酸分解性基を有する樹脂であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても、保存安定性に優れ、且つ感度が高いフォトマスクブランクスを提供し、高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）分子内に２個から４個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物、（Ｄ）分子内に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマー、および（Ｆ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、並びに、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクの提供。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含有する感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−ＣＲ^１１Ｒ^１２−、又は−ＮＲ^１３−を表す。但し、Ｘ^１及びＸ^２の少なくとも一方は、酸素原子、硫黄原子、又は−ＮＲ^１３−である。Ｙは、酸素原子、硫黄原子又は＝ＮＲ^１４を表す。Ｒ^１〜Ｒ^１４は、それぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表す。Ｒ^１〜Ｒ^１４は、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成していてもよい。
【化１】
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【課題】高感度で硬化し、且つ、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、（Ａ）分子内に下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。式（１）中、Ｙは隣接する窒素原子および炭素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表す。Ｘは一価の非金属原子団を表す。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、ＡはＳ原子又はＮＲ⁷を表し、Ｙは隣接するＡ及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子又は非金属原子からなる１価の基を表し、Ｒ⁷はアルキル基又はアリール基を表す。
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【課題】本発明は、高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクス、及び前記本発明のフォトマスクブランクスを用いてなり、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（ａ）で表される化合物と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクスである。


前記一般式（ａ）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
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【課題】高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクスを提供し、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にビニルフェニル基を２個以上有する化合物、（Ｃ）重合開始剤、および（Ｄ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】膜の硬度および耐溶剤性が良好なフォトマスクブランクス、および、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（ｉ）側鎖に、下記一般式（ａ１）で表される部分構造を有するバインダーポリマー、（ｉｉ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（ｉｉｉ）光重合開始剤、および（ｉｖ）遮光材料、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。
一般式（ａ１）中、Ｒ^ｌａ〜Ｒ^３ａはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基等を表す。Ｘは酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ^１２ａ）−を表し、Ｒ^１２ａは、水素原子または一価の有機基を表す。
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【課題】離型フィルムの剥離によるストップマークの発生を抑制し、プリント配線板等の製造に用いられるフォトマスクに貼り付ける際には気泡の巻き込みが少なく、フォトマスクから剥離する際には糊残りが少ない粘着剤層を形成することができる粘着剤組成物を提供する。また、該粘着剤組成物を用いて製造される表面保護用粘着シートを提供する。
【解決手段】アクリル酸−２−エチルヘキシル又はアクリル酸オクチル５０〜９５重量％と、炭素数２〜５のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル０．１〜４０重量％と、（メタ）アクリル酸０．１〜５重量％とを含有するモノマー混合物を共重合して得られるアクリル酸エステル系樹脂を含有する粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】ガラスマスクとの接着性がよく、保護膜とした場合に、保護膜のハードコート性が優れ、クラックが発生せず、エポキシ樹脂とシリコーン樹脂の不相溶による塗膜の白化を防止し、透明性に優れるものとすることができる。また、硬化剤としてアミン系化合物のみを含むため、保護液の保存安定性を向上させることができるガラスマスク用熱硬化型保護液を提供する。
【解決手段】ガラスマスク用熱硬化型保護液を、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂及びシリコーンオイルを含み、前記シリコーン樹脂中に１５〜３５重量％がエステル変性シリコーン樹脂であるものとする。さらに、硬化剤としてアミン系化合物のみを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、且つ保存安定性に優れたフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製された解像度の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基材上に、（Ａ）遮光材料、（Ｂ）特定構造の増感色素、（Ｃ）ラジカル、酸または塩基を生成しうる開始剤化合物、及び（Ｄ）ラジカル、酸または塩基の少なくともいずれかによって反応する重合性化合物を含有する感光性層を有することを特徴とするフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】 保護テープ基材の内部異物、凝集粒子やオリゴマーの発生が極めて少ないフォトマスク保護テープ用ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 下記式（１）および（２）を同時に満たす量のチタン化合物およびリン化合物を含み、アンチモン元素の含有量が１０ｐｐｍ以下であり、実質的に粒子を含まない二軸配向ポリエステルフィルムの両面に塗布層を有することを特徴とするフォトマスク保護テープ用二軸配向ポリエステルフィルム。
１≦Ｗ_ＴＩ≦２０ …（１）
１≦Ｗ_Ｐ≦３００ …（２）
（上記式中、Ｗ_ＴＩはポリエステルフィルム中のチタン元素含有量（ｐｐｍ）、Ｗ_Ｐはポリエステルフィルム中のリン元素含有量（ｐｐｍ）を示す） （もっと読む）

【課題】本発明は、基板における露光工程以前に生じた寸法の変化に対応するようにガラスマスクを熱変形させることにより、基板製造工程上の誤差に能動的に対応できる基板製造方法及びその装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板製造装置は、ガラスマスクを用いて露光工程を行う基板製造装置であって、一面に露光パターンが形成されているガラスマスクと、ガラスマスクを支持するマスクホルダと、ガラスマスクを熱変形させる加熱手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プリント基板形成工程において使用されるフォトマスクを保護するフォトマスク保護用粘着テープであって、粘着性を有するフォトレジストに密着して繰り返し使用しても剥離性が低下せず使用が可能であるフォトマスク保護用粘着テープの提供。
【解決手段】 透明な基材フィルム又はシート（Ａ）と、その片面に形成された粘着剤層（Ｂ）と、粘着剤層（Ｂ）の面とは反対側の面に形成された表面層（Ｃ）とを含むフォトマスク保護用粘着テープであって、表面層（Ｃ）は、不活性微粒子を含有し、かつ、表面層（Ｃ）の表面における中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３０〜３００ｎｍであることを特徴とするフォトマスク保護用粘着テープによる。 （もっと読む）

【課題】 内部異物やオリゴマーの発生を防止し、フォトマスク保護テープとして高精細な回路パターンに形成に使用することができるポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 下記式（１）および（２）を同時に満たす量のチタン化合物およびリン化合物を含み、かつアンチモン元素の含有量が１０ｐｐｍ以下であることを特徴とするフォトマスク保護テープ用二軸配向ポリエステルフィルム。
０＜Ｗ_ＴＩ≦２０ …（１）
１≦Ｗ_Ｐ≦３００ …（２）
（上記式中、Ｗ_ＴＩはポリエステルフィルム中のチタン元素含有量（ｐｐｍ）、Ｗ_Ｐはポリエステルフィルム中のリン元素含有量（ｐｐｍ）を示す） （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストの露光処理用フォトツールを提供すること。また、該フォトツールを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適な感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 ソルダーレジストのパターン形成における露光処理時に用いられ、フォトマスクを具備するフォトツールにおいて、３７０ｎｍ以下の光を５０％以上カットし且つ４００ｎｍ以上の光を８０％以上透過することを特徴とするフォトツール。 （もっと読む）