【課題】パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する基板処理方法および装置において、パーティクル等の除去効率をさらに高める。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、所定のパターンＦＰが形成され液体としてのＤＩＷが付着した基板Ｗの表面Ｗｆに対し、第一処理液供給手段２５から第一処理液としてのＨＦＥ液を供給し、パターンＦＰの間隙内部にＤＩＷを残留させながら液体を基板表面から除去するとともに処理液の液膜を形成する。その後、凝固手段３１から基板裏面Ｗｂに凍結用の窒素ガスを吐出して、パターンＦＰの間隙内部に残留させたＤＩＷを凝固させ、パターンＦＰの間隙内部に凝固体を形成する。その状態で、第一処理液であるＨＦＥ液の液膜の上に第二処理液としてのＤＩＷの液膜を形成し、ＤＩＷの液膜に対し超音波洗浄手段１７により超音波振動を付与して洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板洗浄方法および基板洗浄装置において、高いスループットを得られ、しかもパーティクル等を効果的に除去することのできる技術を提供する。
【解決手段】基板の上面に液膜を形成し（ステップＳ１０１）、凍結ガスとして例えば低温の窒素ガスを吐出する凍結用ノズルをスキャンして液膜を凍結させた後（ステップＳ１０２，Ｓ１０３）、凍結ガスよりも冷却能力の高い流体、例えば凍結ガスよりさらに低温の窒素ガスを吐出する冷却用ノズルをスキャンして凍結した液膜をさらに低温まで冷却する（ステップＳ１０４，Ｓ１０５）。その後、リンス処理により凍結膜とともにパーティクルを除去し（ステップＳ１０７）、基板を乾燥させる（ステップＳ１０８）。 （もっと読む）

【課題】高精細かつウェハーへの転写特性への悪影響が小さいフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板１の一方側表面に金属層２と第１レジスト層３とをその順に積層し、第１レジスト層３をパターニングする。その第１レジスト層３をマスクとして、開口領域である領域Ａの金属層２をエッチングする。その金属層２をマスクとして、エッチングにより透明基板１に凹部を形成する。金属層２を剥離した後、透明基板１の凹部も含めて表面全面に遮光層４を電解メッキ法を用いて形成する。透明基板１の表面と遮光層４の表面が面一になるように平坦化する。熱酸化処理を施して遮光層表面を酸化させ反射防止膜５形成する。以上の工程により、基板１上に設けられた凹部に遮光層４が形成され、透明基板１と遮光層４の表面は面一であり、遮光層４の表面にのみ反射防止膜５を有するフォトマスクが得られる。 （もっと読む）

【課題】複数の液体を混合してなる混合液を用いる液処理装置における混合液の濃度について、大きなコストをかけることなく、よりワイドレンジな調整を実現すること。
【解決手段】液処理装置１０は、主配管２０と、主配管に接続された液供給機構４０と、主配管から分岐する複数の分岐管２５と、各分岐管に接続された複数の処理ユニット５０と、を有する。液供給機構４０は、主配管上に設けられた混合器４３と、第１液源からの第１液を前記混合器へ供給する第１液供給管４１ｂと、第２液源からの第２液を前記混合器へ供給する第２液供給管４２ｂと、を有する。第２液供給管４２ｂに流量調整バルブ４２ｄが設けられると共に、主配管２０を液供給機構４０に対して他側から開閉し得る主開閉機構２２が設けられている。前記混合比に基づいて流量調整バルブ４２ｄと主開閉機構２２とが制御される。 （もっと読む）

【課題】ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】基板上に化学増幅型レジスト膜を形成し、第１のプリベーク処理を行った後、大気露出させることなく、或いは化学増幅型レジスト膜に吸着されたアミン系化合物を実質的に全て脱着した状態で、荷電粒子ビームにより描画を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク製造にて、レジストの塗布後のベーク（ＰＡＢ）にて、塗布ムラや発泡といった塗布欠陥を発生させず、ベークに要する時間を短縮し工程能力を向上させるレジストのベーク方法、ベーク装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク基板１上にレジストを塗布した後の該塗布膜２の加熱乾燥にて、基板下面へのホットプレート１０による加熱と、基板上面の遮光層或いはハーフトーン層１ｂへの近赤外線Ｋ２による加熱を行うこと。基板を載置してフォトマスク基板下面を加熱するホットプレートと、基板上面を上方から加熱する近赤外線光源ユニット２０を設けてなること。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材上に良好な面状の塗布層を短時間で塗設できるフォトマスクブランクスの製造方法、及びそれにより得られたフォトマスクブランクス、並びに、ガラス基材との密着性に優れた遮光層を有するフォトマスクの提供。
【解決手段】透明ガラス基材を洗浄するガラス洗浄工程、及び、洗浄後の透明ガラス基材上に、遮光材料を少なくとも含有する感光性組成物層、及び酸素遮断性層を含む各塗布層を塗設するための塗布液を、塗布層毎に、順次、塗布し、乾燥する塗布乾燥工程を有し、該塗布乾燥工程における各塗布液の乾燥が、３μｍ〜７μｍに極大波長を有する赤外線を放射する赤外線ヒーターを用いた加熱により行われるフォトマスクブランクスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の変形又は破損を抑制でき、膜強度が高く且つガラス基材との密着性に優れた遮光層を形成できるフォトマスクの製造方法の提供。
【解決手段】透明ガラス基材上に、遮光材料、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及びバインダーポリマーを含む感光性層と、酸素遮断性層と、を順次備えるフォトマスブランクスを画像露光する露光工程と、透明基材上の未露光領域を現像液を用いて除去して、透明ガラス基材上に画像様の遮光層を形成する現像工程と、遮光層を３μｍ〜７μｍに極大波長を有する赤外線を放射する赤外線ヒーターで加熱する加熱工程と、を有するフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属及びケイ素を含む光半透過膜や遮光膜における波長２００ｎｍ以下の露光光に対する耐光性を向上させ、フォトマスクの寿命を改善できるフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に金属及びケイ素を含む材料からなる薄膜を成膜し、次いで、該薄膜をパターニングして薄膜パターンを形成し、形成された薄膜パターンに対して波長２００ｎｍ以下の露光光が累積して照射された場合に、薄膜パターンの転写特性が所定以上変化しないように、上記薄膜パターンの主表面及び側壁を予め変質させる処理を施す。この処理は、たとえば酸素を含む雰囲気中での４５０℃〜９００℃の加熱処理をすることにより行う。 （もっと読む）

【課題】金属及びケイ素を含む光半透過膜や遮光膜における波長２００ｎｍ以下の露光光に対する耐光性を向上させ、フォトマスクの寿命を改善できるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に金属及びケイ素を含む材料からなる薄膜を成膜し、次いで、該薄膜をパターニングして作製されるフォトマスクの薄膜パターンに対して波長２００ｎｍ以下の露光光が累積して照射された場合に、薄膜パターンの転写特性が所定以上変化しないように、上記薄膜の主表面を予め変質させる処理を施す。この処理は、たとえば酸素を含む雰囲気中での４５０℃〜９００℃の加熱処理をすることにより行う。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンが形成された基板に対しても適切に洗浄することができる基板処理装置、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、単一の基板Ｗを水平姿勢で保持する保持部１１と、微細気泡を含んだ気泡含有洗浄液を基板に供給する洗浄液ノズル１５と、洗浄液ノズル１５によって基板Ｗに気泡含有洗浄液を供給させて基板を洗浄する制御部１９と、を備える。気泡含有洗浄液によれば、基板面に与える衝撃を抑制しつつ、微細気泡の表面張力によって基板Ｗ上のゴミ、塵埃、その他の異物を除去することができる。したがって、基板Ｗに形成されたパターンを破壊することなく、基板を好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を回転可能に保持する回転保持機構と、基板に処理液を吐出する吐出口を有する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズルを平面視で基板Ｗの略中心と周縁との間で移動する洗浄液ノズル用移動機構と、回転保持機構と洗浄液ノズル用移動機構を制御して、基板を回転させ、かつ、処理液供給部を移動させて、処理液供給部から吐出された処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させる制御部と、を備えている。そして、処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させることで、基板Ｗの全面にわたって均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程と加温する加温工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板、例えばフォトマスク用透明基板、フォトマスクブランク、フォトマスクブランク製造中間体、フォトマスク等を洗浄した場合に、異物の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法、および洗浄装置に洗浄液を供給する洗浄液供給装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を洗浄装置に供給して被洗浄基板を洗浄する洗浄方法であって、洗浄液を異物を除去するための濾過フィルタで濾過し、濾過した洗浄液を供給管を通して洗浄装置に供給して被洗浄基板を洗浄するとき、少なくとも、濾過した洗浄液の洗浄装置への供給に先立ち、濾過した洗浄液を排出管を通して系外へ排出し、その後、濾過した洗浄液を供給管を通して洗浄装置に供給する洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】多層反射膜表面でのＥＵＶ波長域のピーク反射率の面内分布が解消されたＥＵＶＬ用マスクブランクを製造する方法の提供。
【解決手段】基板上に、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層させＥＵＶ光を反射する多層反射膜を成膜し、該多層反射膜表面におけるＥＵＶ波長域のピーク反射率分布を求め、得られた該多層反射膜表面のＥＵＶ波長域のピーク反射率分布に基づいて、ＥＵＶ波長域のピーク反射率が最も低い部位よりもＥＵＶ波長域のピーク反射率が高い部位の少なくとも一部を局所加熱することにより、該多層反射膜の表面におけるＥＵＶ波長域のピーク反射率の面内均一性に関する要求値が±０．２５％以内となるように、該多層反射膜の表面におけるＥＵＶ波長域のピーク反射率分布を補正し、該多層反射膜上にＥＵＶ光を吸収する吸収膜を成膜することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用反射型マスクブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光部材の作製方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）露光によりラジカルを発生しうる基材上に、ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を接触させた後、露光を行うことにより、前記基材上に直接結合したポリマーを生成させてポリマー層を形成する工程と、（ｂ）該ポリマー層に金属イオン又は金属塩を付与する工程と、（ｃ）該金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元して、体積平均粒径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下の金属粒子を析出させる工程と、を有することを特徴とする遮光部材の作製方法。 （もっと読む）

【課題】小型で、しかも基板表面を良好に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理空間１６２の湿度が規定湿度を超えている間、つまり処理空間１６２が十分に低湿度雰囲気となっていない間においては乾燥処理は実行されない。そして、当該湿度が規定湿度以下となって低湿度雰囲気となったことが確認されると、その低湿度雰囲気で乾燥処理が実行される。したがって、基板表面でのウォーターマーク等の発生を抑制しながら基板乾燥を良好に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層、および、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層が少なくともこの順に形成されたＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用反射型マスクブランクを用いてＥＵＶＬ用反射型マスクを製造する方法であって、反射層界面での拡散層形成、およびそれによるＥＵＶ光線反射率の低下を防止する製造方法を提供する。
【解決手段】前記ＥＵＶＬ用反射型マスクブランク上にレジストを塗布する工程；前記ＥＵＶＬ用反射型マスクブランクの基板温度を１３０℃以下に保持して、圧力９．５×１０⁴Ｐａ以下の減圧環境でプリベークする工程；前記レジスト膜をパターン露光する工程；前記レジスト膜を現像する工程；前記ＥＵＶＬ用反射型マスクブランクをエッチングする工程、および、前記ＥＵＶＬ用マスクブランク上のレジストを除去する工程を有するＥＵＶＬ用反射型マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
ガラス基板の洗浄で用いた洗浄液がガラス基板表面に付着残留して生成される液滴を、狭い空間内で乾燥除去する
【解決手段】
ガラス基板の乾燥装置１０では、ガラス基板１を保持具２ａ、２ｂが垂直に保持する。保持具２ａはガラス基板の上端部に、保持具２ｂは下端部に配置され、搬送と保持を兼用する。ガラス基板の周囲部には、乾燥手段１２が配置されており、少なくとも上下動及び水平動のいずれかがが可能である。乾燥手段はノズル３を有し、親水性の有機溶剤であるイソプロピルアルコールを含むガス流を噴射可能である。 （もっと読む）

【課題】エアーナイフから気体を基板に吹き付けた際に、基板上の処理液がミスト状のパーティクル等が基板に付着することなく、且つ、基板がヒーター等の他の乾燥装置や乾燥工程を必要することなく乾燥できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】
チャンバー内に基板を搬送する複数の搬送ローラーとその搬送ローラーで搬送されてきた基板の表面または裏面に付着しているミストまたは異物を飛ばすエアーナイフが基板の上方または下方あるいは両方に設けられ、異物やミスト状のパーティクルを排気する複数の排気口がチャンバーの下方に設けられている基板処理装置であって、
前記エアーナイフの前方近傍にエアーナイフで飛ばされた異物やミスト状のパーティクルを吸引し、排気する吸引スリットを有する排気ユニットが設けられていることを特徴とする基板処理装置である。 （もっと読む）