【課題】現像水および水洗水から、オーバーフローして排出された排水に処理を行い、河川に排出可能な水質にすることにより、自社の浄化設備への負荷を低減させる方法を提供すこと。
【解決手段】（１）シリコーン層を有する平版を前処理部、現像部、後処理部、水洗部を有する自動現像装置で現像する工程において、現像部および水洗部から排出された排水を活性炭のみを有する活性炭処理槽で吸着処理することを特徴とする現像方法。（２）活性炭処理槽で吸着処理した排水を自動現像装置の現像部および水洗部に再投入することを特徴とする上記（１）に記載の現像方法。（３）現像部および水洗部から排出された排水を排水貯蔵タンクに一定量貯めてから活性炭処理槽へ送ることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の現像方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、生産効率が向上し、コストを低減することのできる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｇ上に形成されたフォトレジストパターン２０６を溶解し、新たなフォトレジストパターンを形成する基板処理方法であって、下地膜のエッチングマスクとして使用された前記フォトレジストパターン２０６を所定時間、純水Ｗに曝すステップと、前記基板Ｇ上にエアを吹き付けて、前記純水Ｗを除去するステップと、前記フォトレジストパターン２０６を溶剤雰囲気に曝して溶解し、所定エリアをマスクするステップとを実行する。 （もっと読む）

【課題】微小網点再現性と印刷適性の両立可能な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該断熱層が少なくともポリウレタン樹脂、活性水素基含有芳香族化合物および金属キレート化合物を含有し、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であり、感熱層溶液として溶解度パラメーターが１９〜２４（ＭＰａ）^１／２の有機溶剤を１０重量％以上５０重量％以下含有するものを用いたことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性導体ペースト２４のうちの未露光部分を洗い流す現像処理に際して、感光性導体ペースト２４の下層が、感光性誘電体ペースト１０が露光硬化された第２誘電体層２０であるため、残査の発生が大幅に抑制されているので、感光性導体ペースト２４の樹脂成分を１０wt％以下に少なくしても、露光・現像に影響がなく、乾燥密度ρ_D が従来の導体ペーストと同様に５ｇ／ｃｍ³ 以上となり十分に得られる。したがって、感光性導体ペースト２４中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層型チップ素子の製造方法が得られる。 （もっと読む）

【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板を所望の温度で圧着ローラに供給して感光材料層を貼り付け、高品質な感光性積層体を効率的に製造することのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】温度調節部１２０は、タッチパネル１１６で設定したラミネート目標温度と、放射温度計９８ａ〜９８ｈで検出したガラス基板２４の温度との差分を算出し、その差分に従って、Ｇって所定の温度パターンを温度パターン記憶部１２４から選択し、出力制御部１２６により各基板加熱部７４ａ〜７４ｅの石英ヒータ管９０ａ〜９０ｄを制御して、ガラス基板２４を加熱する。 （もっと読む）

【課題】表面に反射防止膜が形成された支持体上に、第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにより良好なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】表面に反射防止膜が形成された支持体１の前記反射防止膜１ｂ上に、ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、該第一のレジスト膜を選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する第一のパターニング工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体表面の疎水化処理を行う疎水化処理工程と、前記疎水化処理工程後の前記支持体上に、第二のレジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、現像してレジストパターン７を形成する第二のパターニング工程とを有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターニング工程のためにセル領域及び周辺回路領域間の平坦化工程を省略することができ、露光装備の交替なしに微細パターンを形成する。
【解決手段】第1のフォトレジストパターン及び第1の反射防止膜を用いてゲートライン用パターンを形成し、第2のフォトレジストパターン及び第2の反射防止膜を用いてゲートラインより広い幅のパッド及びセレクトライン用パターンを形成することにより、ゲートライン、パッド及びセレクトラインを同時に形成することができる半導体素子のパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射処理を行わずに、レジストパターンの表面に溶剤蒸気を効率よく付着させて、処理精度の向上を図ると共に、処理時間の短縮を図り、かつ、溶剤成分の装置内外への拡散を抑制すること。
【解決手段】露光処理され現像処理された半導体ウエハＷの表面に形成されたレジストパターンＲの表面に水分子ｍを付着させる。水分子ｍが付着されたレジストパターンＲの表面に対し、水溶性を有するレジストの溶剤蒸気（例えばＮＭＰ）を供給し、水分子ｍに結合する溶剤蒸気によりレジストパターンＲの表面を膨潤させるスムージング処理を行う。スムージング処理されたウエハＷ上のレジストパターンＲに付着する水分子ｍ及び溶剤ｓを乾燥により除去する。 （もっと読む）

【課題】非画像部の汚れ防止性、及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、下記グラフト共重合体Ａを含有する中間層と、画像形成層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。
グラフト共重合体Ａ：下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位を含み、且つ、そのどちらか一方の構造単位を枝成分に含むと共に、構造内のカルボキシル基の一部又は全部が塩基によって中和されている共重合体
一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜３０の置換基等を表し、Ｌ^１は単結合又は（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ｍは水素原子又は対カチオンを表し、ｎは１〜１０の整数を表す。一般式（２）中、Ｒ^２は水素原子、炭素数１〜３０の置換基等を表し、Ｙは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を含む炭素数２〜３０の置換基を表す。
（もっと読む）

【課題】基板面内において均一な処理が可能で、かつ十分なスループットが得られるリフロー処理装置およびリフロー処理方法を提供すること。
【解決手段】リフロー処理装置１００は、基板Ｇが水平姿勢で搬送される搬送路Ｔと、搬送路Ｔに沿って基板を搬送する搬送機構８，９と、搬送路Ｔを含む搬送空間３に、基板Ｇの全幅に亘って、基板が通過することによりその上のレジストにリフロー処理が施される所定濃度の溶剤雰囲気を有するリフロー処理部Ｐを形成するノズルユニット１０とを具備し、ノズルユニット１０は搬送空間３の所定部分に溶剤を導入する溶剤導入ノズル６およびその所定部分から溶剤を排出する溶剤排出ノズル７を隣接した状態で配置してなり、溶剤導入ノズル６による溶剤の導入および溶剤排出ノズル７による溶剤の排出を調整してリフロー処理部Ｐを形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用のカラーフィルターの製造に使用される顔料分散レジストを現像するために、高倍率に希釈しても、現像性に優れた低粘度で高濃度を有するＬＣＤカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液（原液）を提供すること。
【解決手段】少なくともアルカリ剤（ａ）とポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル（ｂ）とアルキル化オリゴ糖（ｃ）とを含有し、該アルキル化オリゴ糖（ｃ）が、その糖残基が２〜１０であり、アルキル基の炭素数が４〜１６であることを特徴とするＬＣＤカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液。 （もっと読む）

【課題】環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料として、（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）エーテル結合を有するテルペン系溶剤とを含有するものを使用する。 （もっと読む）

【課題】変質、硬化したレジストを短時間に効率よく除去する。
【解決手段】図１に示す洗浄方法は、基板の表面に形成された硬化した不要なレジストを除去するため、一枚毎に洗浄する枚葉装置を用いた洗浄方法である。この洗浄方法は、以下の工程を有する。被洗浄物にレジスト剥離剤を供給する（ステップＳ１）。その後、被洗浄物にエッチング液を供給する（ステップＳ２）。その後、ステップＳ１およびステップＳ２を少なくとも２回繰り返したか否かを判断する（ステップＳ３）。少なくとも２回繰り返していない場合（ステップＳ３のＮｏ）、ステップＳ１に移行してステップＳ１以降の処理を引き続き行う。一方、少なくとも２回繰り返した場合（ステップＳ３のＹｅｓ）、次工程に移行する。または処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】溶剤の無駄を省くことができると共に、溶剤蒸気のインパクト圧を高めたスムージング処理を容易にし、かつ、溶剤蒸気のノズル外部への漏洩を抑制して、処理効率の向上を図れるようにすること。
【解決手段】表面にレジストパターンが形成され、露光処理され現像処理されたウエハＷの表面を上面にして保持するチャック５２と、チャックを鉛直軸回りに回転させるモータ５３と、チャックに保持されたウエハの表面に向かってレジストパターンを膨潤させる溶剤蒸気を吐出する吐出孔６１及び該吐出孔から吐出された溶剤蒸気を吸引可能な吸引口６２を有する処理ノズル６０と、処理ノズルをチャックに保持されたウエハの周縁から中央部側に移動させる移動機構５４と、を具備し、ウエハを鉛直軸回りに回転させると共に、吐出孔から溶剤蒸気を吐出しながら処理ノズルをウエハの周縁から中央部側に向かって移動させてウエハの表面に溶剤蒸気を螺旋状に供給する。 （もっと読む）

【課題】高解像度の露光装置を用いずに微細パターンを形成する。
【解決手段】配線形成用の微細パターン形成では、寸法２ｄのレジスト膜５の両側面に寸法（１／２）ｄの架橋膜６を形成し、レジスト膜５と架橋膜６からなる寸法３ｄのラインパターンと最小寸法ｄのスペースパターンを形成する。レジスト膜５及び架橋膜６をマスクにして第２のハードマスク４に最小寸法ｄの第１の開口部を形成する。第１の開口部に埋め戻し材７を埋め込む。第２のハードマスク４及び埋め込み材７上に、レジスト膜５のパターンに対して寸法２ｄシフトさせた寸法２ｄのレジスト膜８の両側面に寸法（１／２）ｄの架橋膜９を形成し、レジスト膜８と架橋膜９からなる寸法３ｄのラインパターンと最小寸法ｄのスペースパターンを形成する。レジスト膜８及び架橋膜９をマスクにして第２のハードマスク４に最小寸法ｄの第２の開口部を形成する。 （もっと読む）

【課題】解像限界付近或いは解像限界以下の微小パターンを密なピッチで良好に形成する。
【解決手段】下地材料膜１に複数のラインアンドスペースパターンを形成する方法であって、１本おきの第１のスペース部にそれぞれ対応して形成された第１の透光部を有する第１の露光マスクを作成する工程と、残りの第１のスペース部にそれぞれ対応して形成された第２の透光部を有する第２の露光マスクを作成する工程と、下地材料膜１上に形成されたレジスト膜に、第１の露光マスクパターンと第２の露光マスクパターンを転写する工程と、レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンの第２のスペース部に枠付け材料膜を埋め込み形成する工程と、加熱処理により架橋層を第２のライン部の被覆層として形成する工程と、枠付け材料の非架橋部を除去してラインアンドスペースパターンを形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】低温で、有機材料から形成される膜に対して高いエッチング選択比を有する膜を形成可能な多層プロセス用材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、ドライエッチング可能な下層有機膜と、加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物（Ｗ）を含有する多層プロセス用材料を用いて形成された中間層と、上層レジスト膜とが順に積層されてなる多層積層体を形成し、該多層積層体に、ドライエッチングを含む処理を行ってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
ガラス転移温度及び熱重量減少温度といった耐熱性、並びに現像性、感度、及び解像度といった感光性に優れた効果を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリフェニレンエーテル１００質量部に対して、（Ｂ）酸触媒の存在下、架橋反応を起こすＣＨ_２ＯＲ基（ここで、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）を有する架橋剤１０〜４０質量部、（Ｃ）ナフタレン核またはアントラセン核を有する光酸発生剤２〜２０質量部、および（Ｄ）溶媒４００〜２５００質量部を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電子工業用で使用可能な純度の高価な剥離液の補充を少なくし、剥離液廃液から従来より高い回収率で精製剥離液を再生することのできる新規な剥離液の高収率再生方法および装置の提供。
【解決手段】液晶ディスプレイパネルの製造工程から排出されるレジストを含有する剥離液廃液からレジストを分離除去し、剥離液を再生する方法において、剥離液廃液中のレジスト重量に対し０．０１〜０．２倍重量のアルカリを添加することを特徴とする剥離液の再生方法および装置。 （もっと読む）