【課題】寸法ばらつき及び欠陥を可及的に低減したレジストパターンを高いスループットで形成する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成し、
減圧処理を施した後に、減圧状態の下で前記レジスト膜に露光処理を施し、
常温換算の相対湿度が所定の範囲に保たれたガスを、減圧環境下に導入することにより、減圧状態を解放しながら前記レジスト膜を加湿する、減圧解放処理を行い、
前記減圧解放処理の後、前記レジスト膜を加熱するベーク処理を行い、
前記レジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】円筒形状印刷フォームを調製するのに用いる円筒形状エレメントを処理するための処理媒体をエレメントの外側表面に提供する手段と、円筒形状エレメントの支持手段との間の接触圧を軸方向に沿って均一化する。
【解決手段】エレメントの内側表面に接触することで前記エレメントを支持する支持手段と、前記内側表面の反対側のエレメントの外側表面に隣接する処理媒体を提供する手段と、支持手段をその一端のプリセット位置に付勢し、支持手段のまわりを開放または閉鎖するのに適合したクランプ手段、または前記提供手段をその一端のプリセット位置に付勢し、提供手段のまわりを開放または閉鎖するのに適合したクランプ手段と、を具える。 （もっと読む）

【課題】原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えており、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物（製品）中の異物を低減することができる調製装置を提供する。
【解決手段】本調製装置１は、移動式ユニット１０を備えており、移動式ユニット１０には、移動式基台１１と、攪拌装置１３を有する調製タンク１２と、濾過装置１４と、調製タンク１２内の内容物を濾過装置１４まで運ぶための第１ライン１５と、濾過装置１４を通過した内容物を調製タンク１２まで運ぶための第２ライン１６と、調製タンク１２内に原料を供給するための原料供給部３と、調製物を移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部４と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】より感度が高いｄｅｅｐ−ＵＶレジスト材料を用いることで、より生産性の高い、より微細なノズル構造を形成できるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】（ｉ）インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に特定の高分子化合物を含有するレジスト材料を含む層を形成した後、該層をパターニングしてインク流路パターンを形成する工程と（ii）常温にて固体状のエポキシ樹脂を含む液体を流路パターン上に塗布してインク流路壁となる被覆樹脂層を形成する工程と（iii）インク吐出圧力発生素子上に位置する被覆樹脂層を除去してインク吐出口を形成する工程と（iv）流路パターンを除去する工程とを有しており、工程（ii）において、インク流路パターン上に形成される被覆樹脂層の屈折率とインク流路パターンの屈折率との差が０．０３以下であるインクジェット記録ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】異物の含有量を低減させたレジスト樹脂含有溶液を得るレジスト樹脂含有溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト樹脂と微粒子とを含有する原溶液から微粒子を除去するろ過工程を含むものであり、ろ過工程は、原溶液を、ろ過装置内を循環させて行うものであり、ろ過装置は、原溶液を貯留し、その内部を加圧可能な加圧タンク１１と、加圧タンク１１から排液される原溶液をろ過するフィルタを有するろ過器１３と、ろ過されたフィルタ処理液を貯留する緩衝タンク１５と、フィルタ処理液を加圧タンク１１に投入する投入ポンプ１７と、加圧タンク内に不活性ガスを供給するガス供給器１９と、を備え、加圧タンク内の圧力を、不活性ガスによって所定の圧力に加圧し、加圧された加圧タンク内の圧力によって、加圧タンク１１から原溶液を排液するレジスト樹脂含有溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）エッチング処理により前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】本発明はヒドロシリレーションにより架橋反応して硬化するネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物およびネガ型パターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】次の（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｖ）の成分を含有するか、または次の（ｉｉｉ）および（ｉｖ）の成分を含有する、ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物：（ｉ）アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン；（ｉｉ）オルガノヒドロジェンポリシロキサン又はヒドロシラン化合物；（ｉｉｉ）アルケニル基と水素原子を有するオルガノポリシロキサン；（ｉｖ）ヒドロシリレーション用触媒成分であって、（２）ヒドロシリレーション用触媒と(R1R2R3R4P)+Y-または(R1R2R3R4N)+Y-で表されるオニウム塩との反応生成物。 （もっと読む）

【課題】微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、少なくとも第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】レリーフパターンを形成するために、感光性要素から印刷フォームを形成するための方法および装置の提供。
【解決手段】感光性要素の組成物層を加熱して層の一部分を液化させ、かつ感光性要素に現像媒体を提供して液化された組成物を除去することによって、感光性要素を熱現像する。感光性要素とベース支持体との間に適合層が配設され、これによって感光性要素と現像媒体との間の圧縮性および接触が改善する。この方法および装置は、感光性要素からの液化された部分の除去効率および形成されるレリーフパターンの均一性を改善する。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像可能であり、かつ非画像部の現像速度が良好であり、汚れを防止するとともに、現像浴中の現像カス発生が抑制され現像処理安定性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーを含有する感光層を有する平版印刷版原版を、画像様露光後、ｐＨが２〜１０の現像液を用いて処理することにより非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法であって、前記現像液が、ジェミニ型非イオン性界面活性剤およびジェミニ型両性界面活性剤から選択された少なくとも１種を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】パターン化された傾斜フォトレジスト層の新しい形成方法を提供する。
【解決手段】上面と底面を有する基板を提供するステップ、前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、前記フォトレジスト層上に透明層を提供するステップ、前記透明層上に遮光層を提供するステップ、前記遮光層および前記透明層を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像可能であり、かつ非画像部の現像速度が良好であり、汚れを防止するとともに、現像浴中の現像カス発生が抑制され現像処理安定性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーを含有する感光層を有する平版印刷版原版を、画像様露光後、ｐＨが２〜１０の現像液を用いて処理することにより非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法であって、前記現像液が、ジェミニ型カチオン性界面活性剤を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】製造加工におけるハンドリングや積替え作業で発生する擦りに対し優れた耐傷性を有し、実質的に合紙レスで取り扱え、耐刷性に優れる平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物及びバインダーポリマーを含有する感光層を有してなる平版印刷版原版であって、前記支持体の前記感光層が設けられる面の中心線平均粗さＲａが０．４０〜０.６０μｍの範囲であり、かつ前記感光層の固形分塗布量が０．８〜１.２ｇ/ｍ^２であることを特徴とする平版印刷版原版である。 （もっと読む）

【課題】比較的中性の現像液にて、現像除去成分の版面再付着を抑制でき、かつ良好な着肉性および耐刷性を得るのに適した平版印刷版原版の製版方法を提供する。
【解決手段】下記工程を含むことを特徴とする製版方法。
（ａ）該画像形成層中に赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、疎水性バインダーポリマー、及び特定のカルボン酸化合物を含む平版印刷版原版を準備する工程。
（ｂ）該平版印刷版原版を画像様に露光する工程。
（ｃ）前記露光済みの平版印刷版原版を、擦り部材を具備する自動処理機を用いて、アラビアガム及び澱粉からなる群から選ばれる少なくとも１種の水溶性ポリマーを含有する水溶液で現像する工程。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】液層形成工程の時点ｔ１〜ｔ４の期間において、基板上に現像液の液層が形成される。その後、基板の回転速度を一時的に低速の５０ｒｐｍに保持し、その後、基板の回転を停止する。このように、基板の回転の停止前に基板Ｗの回転速度を極めて低い状態で一時的に保持することにより、基板上に現像液の液層が薄く引き延ばされた状態を安定に維持しつつ基板の回転を停止することができる。 （もっと読む）

本発明は、ミクロンまたはサブミクロンのキャビティのウォールを形成する方法に関連しており、透明な支持体（１０、１２、1４）上にフォトリソグラフィーマスクを形成する段階と、前記マスクを支持する前記支持体の前面と呼ばれる面上に感光性材料の樹脂の層（１８）を堆積する段階と、前記支持体の後面（１０’）を通して前記感光性材料を露光する段階と、前記ウォールを得るために前記感光性材料を現像する段階と、を含んでいる。
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ａ） 第一のフォトレジスト組成物から基材上に第一のフォトレジストの層を形成し； ｂ） 第一のフォトレジストを像様露光し； ｃ） 第一のフォトレジストを現像して第一のフォトレジストパターンを形成し； ｄ） 第一のフォトレジストパターンを、少なくとも二つのアミノ（ＮＨ_２）基を含む硬化性化合物で処理して、硬化された第一のフォトレジストパターンを形成し； ｅ） 硬化された第一のフォトレジストパターンを含む基材の領域上に、第二のフォトレジスト組成物から第二のフォトレジスト層を形成し； ｆ） 第二のフォトレジストを像様露光し、ｇ） 像様露光された第二のフォトレジストを現像して、第一のフォトレジストパターン間に第二のフォトレジストパターンを形成し、それによって二重フォトレジストパターンを供することを含む、デバイス上にフォトレジストパターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト等の残留物を選択的に除去し、かつこの組成物にさらされる場合がある高誘電率の誘導性材料、低誘電率の誘導性材料、及び／又は範囲の金属領域の望ましくない攻撃をすることなく、基板から残留物を処理することができる組成物を提供すること。
【解決手段】製品から残留物を除去するための組成物であって、当該組成物が、グリコールエーテルを含む１種以上の水溶性有機溶媒；水；フッ化物含有化合物がアンモニウムフルオライドである場合に、追加のフッ化物含有化合物を当該組成物に添加しないことを条件とするフッ化物含有化合物；そして随意選択的な第４級アンモニウム化合物；
を含む、残留物を除去するための組成物。 （もっと読む）

【課題】銀及び／又は銀合金を含む基板に適用できるフォトレジスト剥離液組成物を提供する。
【解決手段】銀および／または銀合金を含む基板のフォトレジスト剥離液組成物であって、−式（Ｉ）ＮＨ_２−Ａ−Ｙ−Ｂ−Ｚ式中、Ａ、Ｂは、それぞれ相互に独立して、直鎖状または分枝鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｙは、ＮＨまたはＯのいずれかであり、Ｚは、ＮＨ_２、ＯＨ、ＮＨ−Ｄ−ＮＨ_２（ここでＤは直鎖状または分枝鎖状の、炭素数１〜５のアルキレン基である、）で表される化合物、−式（ＩＩ）ＮＨ_２−Ａ−Ｎ(−Ｂ−ＯＨ)_２式中、Ａ，Ｂは式（Ｉ）と同じで表される化合物、−モルホリン、−Ｎ−置換モルホリン、−ピロカテコール、−ハイドロキノン、−ピロガロール、−没食子酸、及び−没食子酸エステルからなる群から選択される１種または２種以上と、１種または２種以上の極性有機溶剤とを含有する、前記フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）