【課題】版品質の均等化と向上、作業員の労力負荷の低減化、生産効率の向上、人的コストと製版コストとの低減化を図る。
【解決手段】液状版感光性樹脂凸版２を吊り下げた状態で未硬化樹脂を除去する樹脂回収装置３であって、液状版感光性樹脂凸版２に沿って昇降する未硬化樹脂回収部材３０５と未硬化樹脂回収部材支持部３０６とを具備している樹脂回収装置３を提供する。 （もっと読む）

【課題】試し刷りする必要性を無くし、原稿と製版された版材とを画像で照合できるようにする。
【解決手段】少なくともフロアー層（３Ｂ）上にレリーフ層（３Ａ）を有するとともに、このレリーフ層（３Ａ）上に着色層（４）を有する版材（１）を形成し、この版材（１）のレリーフ層（３Ａ）と着色層（４）に頂面（８Ａ）が画像部を形成する凸部（８）を形成し、この凸部頂面（８Ａ）とレリーフ層（３Ａ）及びフロアー層（３Ｂ）とが視覚的に区別できる色分けとされたものである。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイによって臨界寸法が不良になる問題を除去すると共に、ＤＥＥＴ方法で全形態の微細パターンを形成することが可能な半導体素子の微細パターン形成方法の提供。
【解決手段】半導体基板上にエッチング対象膜、第１補助膜、分離膜および第２補助膜を形成する段階と、第１補助膜に焦点を合わせて第１露光工程を行う段階と、第２補助膜に焦点を合わせて第２露光工程を行う段階と、第２補助膜を現像して第２補助パターンを形成する段階と、第２補助パターンをエッチングマスクとして用いるエッチング工程によって分離膜および第１補助膜をエッチングして第１補助パターンを形成する段階と、第１補助パターンを現像して第３補助パターンを形成する段階と、第３補助パターンを用いてエッチング対象膜をエッチングする段階とを含む、半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【目的】現像段階で、寸法変動量が生じたとしてもその変動量が毎回同等になるようにする現像装置及び方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の現像装置１００は、現像対象となる基板２００を載置する回転テーブル１１０と、現像液１５２を供給する現像液タンク１０２と、基板２００の現像処理毎に現像液タンク１０２から一定量の現像液の供給を受け、供給された現像液を蓄える中継タンク１０４と、中継タンク１０４に蓄えられた現像液１５４を基板２００上に噴霧する噴出口１０８と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、現像に起因する寸法変動量を毎回同等とすることができる。 （もっと読む）

【課題】傾斜処理の現像にて、ガラス基板のサイズが大型化しも、面内現像均一性の良好な現像方法、現像装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板１の傾斜上部（山側）ａ側に吐出する現像液の吐出量を、傾斜下部（谷側）ｂ側に吐出する現像液の吐出量１００％に対して１０〜５０％とする。山側の上端から谷側の下端に向かって、吐出量が漸増する。水洗水の吐出角度θを、ガラス基板の搬送方向に対向する方向へ２０〜５０度の角度とする。山側の上端から谷側の下端に向かって、吐出角度が漸増する。 （もっと読む）

【課題】一定温度の塗布液を一気に且つ大量に塗布できる塗布液供給システムを提供する。
【解決手段】第２の循環経路３のポンプ８は常時駆動し、タンク１内の現像液の温度を一定に維持している。この状態で、第１の循環経路２のポンプ４を駆動し、ポンプ４で汲み出した現像液をスリットノズル６まで送り込む。このとき開閉弁７を閉じておくと、スリットノズル６内に供給された現像液はスリット状吐出口６ｄからカーテン状になって下方に流下し、被処理基板Ｗの表面に供給される。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザを用いて半導体の超微細パターンの形成に有用な有機反射防止膜を製造するのに使用できる新規重合体、吸光剤、およびこれを含む有機反射防止膜組成物、該有機反射防止膜組成物を用いた半導体素子のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】有機反射防止膜組成物は、化学式１で示される有機反射防止膜用共重合体、吸光剤、熱酸発生剤、および硬化剤を含む。
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【課題】第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用い、第二のレジスト組成物としてネガ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにおいて、ネガ型レジスト組成物を塗布した際の影響の少ないレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に第一のレジスト膜を形成し、露光、現像して第一のレジストパターンを形成し、該レジストパターン上にネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、露光、現像するレジストパターン形成方法において第一のレジスト膜を形成するために用いられ、酸解離性溶解抑制基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環式基を含む（α−置換）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを有する樹脂成分（Ａ）および酸発生剤成分（Ｂ）を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液状版感光性樹脂凸版の工程間の搬送を搬送機構によって、機械式に自動で行い、液状版感光性樹脂凸版を製版する際に好適に用いることができる、版保持具を提供する。
【解決手段】液状版感光性樹脂凸版２の横幅以上の長さを有する長尺部材３の前面又は後面に、間隔を開けて複数個のクランプ４が、前記長尺部材３との間で前記液状版感光性樹脂凸版２の版頭を挟み込むことができるように、設けられている。前記長尺部材３の側部に側面板７が設けられており、前記側面板７には穴８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】最終的なレジストパターンの寸法精度の向上が可能な、ＲＥＬＡＣＳ処理で用いる水溶性微細パターン形成材料の膜形成方法を提供すること。
【解決手段】膜形成方法は、酸を含有するレジストパターンが形成された被処理基板を回転させた状態で、前記レジストパターンの上に酸の存在下で熱架橋性を有する水溶性パターン形成材料を塗布しながら広げる工程と、前記水溶性パターン形成材料が前記レジストパターンの上に広がった後も前記工程と同じ雰囲気下で前記被処理基板を継続して回転させることにより、前記水溶性パターン形成材料を乾燥させる工程を含み、前記雰囲気中の飽和蒸気圧（ｍｍＨｇ)をＸとし、相対湿度（％）をＹとしたとき、Ｘ（１−Ｙ／１００）＞１２．２ｍｍＨｇを満たす。 （もっと読む）

マスク形成性フィルムは、画像形成可能層とキャリアシートとの間に透明層を有し、この透明層は、キャリアシートの屈折率より、又はこれとキャリアシートとの間の任意選択の直接隣接した層の屈折率より小さい（少なくとも０．０４小さい）屈折率を有する。この低屈折率層は、レリーフ画像固体領域中により急勾配の肩角を与えるように、マスク画像転写中の入射輻射線の経路を変化させる。 （もっと読む）

【課題】自己整列されたダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】微細パターン形成方法は基板を提供する工程を備える。前記基板上に第１マスクパターンを形成する。前記第１マスクパターンを有する基板上に反応膜を形成する。化学的付着工程により前記第１マスクパターンに隣接した前記反応膜を反応させて前記第１マスクパターンの外壁に沿って前記犠牲膜を形成する。未反応の前記反応膜を除去して前記犠牲膜を露出させる。前記第１マスクパターンの向い合う側壁と隣接した前記犠牲膜との間に第２マスクパターンを形成する。前記犠牲膜を除去して前記第１および第２マスクパターンと共にその間の前記基板を露出させる。前記第１および第２マスクパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】レジストをエッチングマスクとして用いず、またリフトオフ法を用いることなくパターン形成が可能となるパターンの形成方法等を提供する。
【解決手段】パターンの形成方法であって、
母材上の薄膜の表面に、レジストによるパターンを形成する工程と、
レジストによるパターンの上に、反転層を形成する工程と、
反転層を前記レジストの表面が露出するまで除去した後に、レジストを除去することにより、レジストによるパターンと相補的な前記反転層による反転パターン形成する工程と、
反転層による反転パターンをマスクとして前記薄膜をエッチングし、該薄膜上に反転層を有する該薄膜によるハードマスク層を形成し、該ハードマスク層をマスクとして、または薄膜上の前記反転層を除去したハードマスク層をマスクとして、母材をエッチングする工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、且つこのパターン間に良好に埋め込むことができると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。
【解決手段】本反転パターン形成方法は、基板上にレジストパターンを形成する工程と、パターン間にパターン反転用樹脂組成物を埋め込む工程と、レジストパターンを除去し、反転パターンを形成する工程と、を備えるものであって、パターン反転用樹脂組成物は、ポリシロキサン及び有機溶剤を含有し、且つポリシロキサンは、［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］（Ｒ^１は炭素数１〜３のアルキル基、Ｘは塩素原子又は−ＯＲ^２、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基、ａは１〜３の整数である）で表される１種又は２種以上の化合物を加水分解及び／又は縮合させて得られたものである。 （もっと読む）

【課題】充分な耐刷性を維持しつつ、湿し水供給が少ない場合にも良好な機上現像性を得ることができ、更に、現像除去成分の印刷機の水付けローラーへの付着を抑制することができる機上現像型の平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び、（Ｄ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、且つ、露光後、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給して未露光部分を除去することにより画像形成可能である画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法〔一般式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^３のうちの少なくとも１つは−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−Ｒ^４基であり、Ｒ^４は水素原子等を表し、ｎは１〜２０の整数である。残りのＲ^１〜Ｒ^３は、水素原子等である。〕。
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【課題】 従来の樹脂版における二値的な高低差の表現を解消し、連続階調フィルムを用いて、連続的な高低差を有する感光性の樹脂版及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、模様等の入力画像を入力し、その入力画像に対して原稿濃度を圧縮して連続階調フィルムに特定濃度範囲のぼかし領域を現像し、ぼかし領域によって紫外線の透過量を変化させることで、未硬化部の溶出後に、ぼかし領域に対応した高低差を感光性樹脂版材に形成した樹脂版及びその樹脂版の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの現像プロセスに使用されるアルカリ性の現像液のアルカリ濃度を高品質の現像処理が出来る様に調節する現像液の濃度調節方法および調製装置を提供する。
【解決手段】現像液の濃度調節方法では、現像液のアルカリ濃度および現像液中の炭酸塩濃度を測定し、現像処理して得られるＣＤ値が一定の値となる様な溶解能を発揮し得るアルカリ濃度と炭酸塩濃度との予め作成された関係に基づき、アルカリ濃度を調節する。また、現像液の調製装置は、調製槽、現像液を現像プロセスへ供給する供給ライン、使用済現像液を受け入れる回収ライン、新たな現像液原液を調製槽に供給する原液供給ライン、現像液のアルカリ濃度および現像液中の炭酸塩濃度を検出する濃度計、および、特定の関係に基づいて現像液原液の供給を制御する制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】エッチングにおけるプロセス変動を抑制することのできる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板ＳＢ上に薄膜ＧＴが形成される。この薄膜ＧＴ上にレジスト層ＲＳが形成される。このレジスト層ＲＳ上に中間層ＩＬが形成される。この中間層ＩＬ上にフォトレジストパターンＰＲが形成される。このフォトレジストパターンＰＲがマスクとされて、中間層ＩＬがパターニングされる。パターニングされた中間層ＩＬがマスクとされて、レジスト層ＲＳがパターニングされる。パターニングされた中間層ＩＬおよびパターニングされたレジスト層ＲＳのいずれかがマスクに用いられて上記薄膜ＧＴがエッチングされる。この薄膜ＧＴのエッチングの開始から終了まで薄膜ＧＴのエッチングに用いられるマスクの材料が変わらない。 （もっと読む）

【課題】結晶物や剥離物等の異物を良好に捕捉する一方で、メンテナンスフリーやランニングコスト削減に貢献する。
【解決手段】剥離装置は、シャワーノズル１８を備えたチャンバ１０もつ処理部１と、薬液を貯溜するタンク２とを有し、このタンク２からシャワーノズル１８に薬液を送液しつつチャンバ１０内の使用済みの薬液をタンク２に回収して再使用するように構成される。チャンバ１０には、その内定部の一部に薬液の排出口１１が設けられ、さらに排出口１１と基板Ｓの処理位置（搬送ローラ１６の位置）との間の部分には、前記排出口１１よりも広い濾過面積をもつフィルタ部材２０が配備されている。 （もっと読む）