【課題】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするインドール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。
【解決手段】
本願発明者らは、上記課題を達成するために研究を重ねた結果、インドール化合物から、銅等の腐食しやすい金属に対し、高い防食効果を発揮しつつ、廃液からの回収も可能な防食剤、及び同化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物を見出した。 （もっと読む）

【課題】印刷汚れ及び版面汚れが少なく、且つ印刷耐久性が高い凸版印刷用版材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷用版材１０は、版材の凹部１１及び凸部１２側面がフッ化炭素基を含む膜物質の形成する撥水撥油性被膜１３で被覆されている。凸版印刷用版材１０は、（１）バック露光工程と、（２）凸部１２を形成する部分を被覆するマスク材１７を選択的に除去する工程と、（３）露光工程と、（４）マスク材１７が除去された部分を水溶性樹脂の被膜２０で被覆する工程と、（５）現像工程と、（６）仕上げ露光工程と、（７）凹部１１及び凸部１２の表面に撥水撥油処理液を接触させ、撥水撥油性被膜１３を印刷面側の表面全体に形成する撥水撥油処理工程と、（８）樹脂の被膜が可溶な洗浄液で水溶性樹脂の被膜２０を洗浄除去する洗浄工程とを有する方法により製造される。 （もっと読む）

加熱された印刷要素とブロッターとを接触させることで軟化又は溶融された未硬化の感光性ポリマーを刷版から取り除くことができるように、感光性ポリマーの未硬化部分が選択的に溶融又は軟化する温度に印刷要素が加熱される画像形成及び露光された感光性ポリマー印刷要素を現像する方法が開示される。取り除かれた未硬化の感光性ポリマーの画像は、暗色に着色されたブロッターを使用することで分かりにくくするため、印刷作業のセキュリティー性が改善される。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基又は１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基を有する１、３、５−トリス（パラ−（パラ−ヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 オフセット印刷に用いる印刷版であって、オペレータの熟練された技能を必要とせず、誰にでも簡単に湿し水供給量の調整が可能なオフセット印刷版を提供する。
【解決手段】 オフセット印刷版１には、線幅が１５〜２５μｍであり、印刷方向と直交する方向に延びる複数の画線が、１５〜２５μｍの間隔をあけて印刷方向に配列する第１カラーパッチ３が形成されている。そして、第１カラーパッチ３は、レーザー光線の最低焼付け光量を１００％としたとき、８０％以上の光量で焼付けられた第１領域３１と、５５〜７５％の光量で焼付けられた第２領域３２と、第２領域３２の焼付け光量よりも低い光量であり４０〜６０％の光量で焼付けられた第３領域３３とからなる少なくとも３つの領域を有する。 （もっと読む）

【課題】版面のインキ汚れを長期間防止し、かつ紙粉付着防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法およびそれに適した処理液の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程および後処理工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法であって、前記後処理工程が、熱処理、活性光源による後露光処理および電子線処理からなる群から選択される処理であり、前記後処理工程前又は後処理工程中に、前記凸版印刷版の版面に、フッ素系界面活性剤（Ａ）を付着させる工程を含む製造方法及びそれに用いる版面用処理液。 （もっと読む）

【課題】版面のインキ汚れを長期間防止し、かつ紙粉付着防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法およびそれに適した処理液の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程および後処理工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法であって、前記後処理工程が、熱処理、活性光源による後露光処理および電子線処理からなる群から選択される処理であり、前記後処理工程前又は後処理工程中に、前記凸版印刷版の版面に、シリコーン変性アクリルラテックス（Ａ）を付着させる工程を含む製造方法及びそれに用いられる版面用処理液。 （もっと読む）

【課題】重ね合わせ露光を行うことなくリソグラフィ・プロセスを用いて、露光装置の解像限界を超えるような微細パターンを形成する。
【解決手段】パターン形成方法は、ウエハＷ上にネガレジスト３及びより高感度のポジレジスト４を塗布することと、ウエハＷのポジレジスト４及びネガレジスト３をライン・アンド・スペースパターンの像で露光することと、ポジレジスト４及びネガレジスト３をウエハＷの表面の法線に平行な方向に現像することとを有する。 （もっと読む）

【課題】現像方式の異なる被処理基板にそれぞれ対応することができ、且つフットプリントの増加を低く抑えることのできる現像処理装置を提供する。
【解決手段】露光処理後の被処理基板Ｇに対し現像処理を施す現像処理装置３０であって、被処理基板Ｇに対する所定の現像処理機構を有する第一の現像処理部３１と、基板搬送方向に沿って、前記第一の現像処理部３１の後段に配列され、前記第一の現像処理部３１とは異なる現像処理機構を有する第二の現像処理部３４と、前記第一の現像処理部３１の上方に設けられ、前記被処理基板Ｇを、前記第一の現像処理部３１をバイパスさせて前記第二の現像処理部３４に搬送する第一の基板搬送部３２と、前記第二の現像処理機構３４の上方に設けられ、前記第一の現像処理機構３１により現像処理が施された被処理基板Ｇを、前記第二の現像処理部３４をバイパスさせて後段に搬送する第二の基板搬送部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルによりパターン形状の明暗分布を指定して、それをレチクルやマスクの代替として露光するとき、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有するレジストは感光させることができなかった。
【解決手段】波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。 （もっと読む）

【課題】より微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）半導体基板上に、酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物からなる第一のレジスト層を形成し、前記第一のレジスト層を選択的に露光し、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する前記第一のパターン同士の間に、酸発生剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物からなる第二のレジスト層を形成する工程と、（３）第一のパターンおよび第一のパターンに隣接する第二のレジスト層を選択的露光し、第一のパターン側壁に前記第二のレジスト層に由来する側壁層を形成する工程と、（４）前記第一のパターン及び前記第二のレジスト層を除去する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 樹脂凹版面のインキ溜めを形成することにある。
【解決手段】 樹脂凹版面を作製する方法において、感光性樹脂層上に所定のフィルムを密着し、第１のＵＶ照射により感光性樹脂層に硬化領域と未硬化領域を形成し、感光性樹脂層を第１の現像により未硬化領域の所定の領域を現像した凹部と残留領域とを形成し、感光性樹脂層上に所定のフィルムを密着し、第２のＵＶ照射により残留領域に硬化領域と未硬化領域を形成し、感光性樹脂層を第２の現像により未硬化領域を現像してインキ溜りを形成する樹脂凹版面の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】超微細パターン形成リソグラフィー工程において、露光時に発生する反射光を吸収できる有機反射防止膜として用いることができる新規な吸光剤等を提供する。
【解決手段】有機反射防止膜形成用吸光剤は、テトラカルボン酸ベンジルのハーフエステル構造を有する化合物または該構造を主鎖に有するオリゴマーまたはポリマーである。 （もっと読む）

【課題】製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量が極力低減された半導体製造用組成物溶液の送液方法、製造方法、配管、及び製造装置を提供する。
【解決手段】表面平滑度を示す算術平均粗さの値（Ｒａ；μｍ）が、送液される半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒａ＜Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。或いは、表面平滑度を示す十点平均粗さの値（Ｒｚ；μｍ）が、半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒｚ＜３Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、レジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により精製し、スラリーを得る工程と、スラリーを濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る工程と、恒率乾燥領域内で湿粉を乾燥して乾燥物を得る工程と、乾燥物を再溶解し、洗浄溶剤をフォトレジスト用溶剤に置換する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 モリブデン酸化物を腐食させることなく、レジスト除去ができる剥離液を提供する。
【解決手段】 Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）モルホリンと有機溶媒をを含んでなる成分の組合せによるレジスト剥離液はモリブデン酸化物を腐食させることなく用いることができる。剥離液全体に対して、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）モルホリンが１〜８０重量％の範囲、有機溶媒が２０〜９９重量％の範囲であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】１層のフォトレジスト層の厚さに比べて過剰に高低差の大きい成形体を容易に成形する。
【解決手段】第１のフォトレジスト層３１に第１のマスクを用いて露光する第１の露光工程と、露光後の第１のフォトレジスト層３１上に第２のフォトレジスト層３２を形成し、第２のフォトレジスト層３２に第２のマスクを用いて露光する第２の露光工程と、露光後の第１及び第２のフォトレジスト層３１、３２を合せて現像する現像工程とを含み、第１のマスクの開口形状に対応した形状を呈して第１のフォトレジスト層３１に成形される第１の成形部３１ｂと、第２のマスクの開口形状に対応した形状を呈して第２のフォトレジスト層３２に成形される第２の成形部３２ｂとが組み合わされた成形体２０を成形する。 （もっと読む）

【課題】 高分解能のカラーフィルタを製造するための印刷版を、容易にかつ安価に製造することが可能な印刷版の製造方法、印刷版および、これを用いた反転印刷方法を提供する。
【解決手段】 遮光部隔壁、アライメントマークなどの幅が広く、版深さを深くする必要がある低解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面を、エッチング処理によってパターン化して形成する。画素、ブラックマトリクスなど幅が小さく高精細な高解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面上にネガレジスト４１を塗布し、これを露光、現像することによって細線パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。 （もっと読む）

【課題】寸法ばらつき及び欠陥を可及的に低減したレジストパターンを高いスループットで形成する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成し、
減圧処理を施した後に、減圧状態の下で前記レジスト膜に露光処理を施し、
常温換算の相対湿度が所定の範囲に保たれたガスを、減圧環境下に導入することにより、減圧状態を解放しながら前記レジスト膜を加湿する、減圧解放処理を行い、
前記減圧解放処理の後、前記レジスト膜を加熱するベーク処理を行い、
前記レジスト膜を現像する。 （もっと読む）