【課題】低エネルギーのレーザー光で紫外線遮蔽性樹脂層を精密かつ正確に除去した部分に、ムラのない光透過性が得られ、かつ紫外線遮蔽性樹脂層に傷が付きにくく、しかも大型印刷版の作製において、位置決め作業が容易で、かつ版と密着させる際に空気を抱き込みにくく版材に全面が密着しやすいマスクフィルムを与えるマスクフィルム用部材を提供する。
【解決手段】紫外線透過性の基材フィルムと、その片面にレーザー光線の照射による除去可能な平均厚さ０.１〜３０μｍの紫外線遮蔽性樹脂層とを有するマスクフィルム用部材であって、前記紫外線遮蔽性樹脂層が、カーボンブラックの含有量が多い樹脂層（Ａ）と、カーボンブラックの含有量が少ない樹脂層（Ｂ）とを有する２層以上の積層構造体であり、かつ基材フィルム側に上記（Ａ）層が、印刷版側に上記（Ｂ）層が位置すると共に、特定の光学特性を有するマスクフィルム用部材である。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターンニングにおいて、処理工程を煩雑化させることなく、先に形成されたレジストパターンがその上に塗布されたレジスト材料の溶剤に溶けることを防止する。
【解決手段】基板に第１レジスト材料を用いて第１レジスト膜を形成し、第１レジスト膜に対して露光および現像処理を行って、第１レジストパターンを形成する。ただし、第１レジスト膜形成処理後に行われる塗布後加熱処理、もしくは、第１レジスト膜に対する露光処理後に行われる露光後熱処理において、第１レジスト膜が形成された基板を第１レジスト材料に含まれる樹脂のガラス転移点以上の温度で加熱する。そして、第１レジストパターンが形成された基板に第２レジスト材料を用いて第２レジスト膜を形成し、第２レジスト膜に対して露光および現像処理を行って、第２レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は着色されたシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版に対し、従来よりも高い版裏面洗浄性を有し、現像機の大型化やコスト増といった影響が少ない現像機を提供することを課題とする。
【解決手段】着色されたシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版を搬送ロールで搬送しながら、上記シリコーンゴム層をブラシロールで擦って現像する印刷版原版の現像方法において、ブラシロールを回転および／またはロール方向に往復させ、画像部におけるシリコーンゴム層を物理的に除去するとともに、印刷版原版裏面に接触する搬送ロールおよび／またはブラシ受けロールを洗浄する機構を備えることで、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性（経時後の耐汚れ性も含む）が良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に一層以上の層を有する平版印刷版原版であって、
前記一層以上の層の一つは、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーポリマーを含有する感光層であり、
前記一層以上の層のうちの前記支持体と接する層が、（Ｄ）（ａ１）双性イオン構造を有する繰り返し単位と、（ａ２）前記支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位、とを有する共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】支持体に設けられた樹脂基材に対して凸状となることなくパターンを簡便に形成するためのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成工程において、支持体１上にネガ型の感光性樹脂層１２を形成し、この感光性樹脂層１２上にパターン３を形成し、埋め込み・硬化工程において、感光性樹脂層１２のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施してパターン３を感光性樹脂層１２に埋め込み、これと同時に感光性樹脂層１２を硬化させて樹脂基材２とし、これにより、支持体１上に設けられた樹脂基材２に凸状となることなくパターン３を形成する。 （もっと読む）

【課題】新規な塗布液の塗布方法、塗膜の形成方法、ならびにそれを利用したパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、塗布液と希釈液とを含む混合液からなる液溜まりを形成する工程と、前記混合液を前記基板の表面に広げる工程とを有する方法により、基板上に塗布液を塗布することで、塗膜を形成する。あるいは、基板上に希釈液を滴下して、前記基板の全面を前記希釈剤で覆う工程と、前記希釈剤上に塗布液を滴下して、前記塗布液と前記希釈液とを含む混合液が存在する領域を形成する工程と、前記混合液を前記基板の表面に広げる工程とを有する方法により、基板上に塗布液を塗布することで、塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】誘電率の大幅な増大や絶縁性の大幅な劣化が引き起こされること無く、レジストのＬＥＲが抑制され、正確な微細加工が可能になる技術を提供することである。
【解決手段】露光・現像後にポストベークしてレジストを所定パターンに加工するパターン形成方法において、
前記ポストベークは、第１のポストベークと、この第１のポストベークの後に行われる第２のポストベークとを具備し、
前記第２のポストベークの温度は前記第１のポストベークの温度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りや伸びが抑えられ、且つ優れた解像性、感度、電気絶縁性等を有する感光性絶縁樹脂組成物、及びこの組成物が硬化されてなる絶縁膜等の硬化物、並びに絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）架橋性単量体由来の構造単位（ａ１）、及びフェノール性水酸基を有する構造単位（ａ２）を含有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）架橋剤と、（Ｃ）光感応性化合物と、（Ｄ）溶剤と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】パターンの不良が減少した薄膜トランジスタ表示板の製造方法およびこれに使用されるネガティブフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】基板上に導電性物質からなる導電膜を形成する段階と、導電膜上にネガティブフォトレジスト組成物からなるエッチングパターンを形成する段階と、エッチングパターンをエッチングマスクとして利用して導電膜をエッチングし、導電膜パターンを形成する段階とを含み、ネガティブフォトレジスト組成物は、アルカリ現像液に溶解性を有するヒドロキシル基を含有するノボラック樹脂１０〜５０重量部、第１光酸発生剤（特定構造のスルホニルオキシイミド化合物）０．５〜１０重量部、第２光酸発生剤（第１光酸発生剤とは構造の異なる特定構造のスルホニルオキシイミド化合物）０．５〜１０重量部、架橋結合剤１〜２０重量部および溶媒１０〜９０重量部を含む。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる現像液循環方式を用いた現像装置において、現像工程での連続稼動・運用時に、現像タンクから現像槽の現像液吐出機構に現像フィルタを介して戻る現像液の圧力及び流量を監視し、現像液の圧力・流量が低下した際に現像フィルタを自動洗浄して、現像フィルタの詰まりを無くし、現像フィルタの寿命延長と現像液の現像液吐出機構への供給安定化機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像タンクと、現像液を複数の現像フィルタを介して該現像フィルタに対応する個々の送液ポンプにより前記現像槽に送液する手段とを具備する現像液循環方式の現像装置において、個々の現像フィルタに対して２方向から送液が可能とし、該個々の現像フィルタの洗浄時に、現像時とは逆向きに現像液を送液可能とする機構を有する。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた印刷版を簡便に製造することができ、かつ、環境に優しい印刷版の製造方法および印刷版製造用光硬化性液体を提供すること。
【解決手段】本発明の印刷版の製造方法は、印刷版原版上に、エポキシ変性脂肪酸エステルおよび／またはアクリル変性脂肪酸エステルと光重合開始剤とを含む印刷版製造用光硬化性液体を付与し、未硬化の膜を形成する印刷版製造用光硬化性液体付与工程と、未硬化の前記膜に、選択的に紫外線を照射し、前記膜の一部を硬化させる紫外線照射工程と、前記印刷版原版上の前記膜のうち、未硬化の部分を除去する未硬化部除去工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画像形成層に版面処理液を付与した際に画像が消色することがなく、且つ、画像部の刷り出し時のインキ乗りに支障を与えることなく、印刷汚れが改善された感熱型平版印刷版の印刷方法を提供する。
【解決手段】耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂、水溶性高分子化合物、顕色剤及び発色剤を含有する画像形成層を有する感熱型平版印刷版を、画像様に加熱または光照射することにより画像部を形成した後、印刷開始前に下記（ｉ）及び（ｉｉ）の化合物を含有する版面処理液を付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。
（ｉ） 無機微粒子
（ｉｉ） 沸点が１８０℃以上の炭素数４以下のポリオール化合物 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた印刷版を簡便に製造することが可能な印刷版の製造方法、および、印刷版製造用現像剤を提供する。
【解決手段】基板１１上に光導電層１２を設けた感光性原版１０を用意する感光性原版１０用意工程と、前記光導電層１２の表面を帯電させる帯電工程１０１と、帯電させた前記光導電層１２に選択的に光を照射して露光し、前記光導電層の表面に静電潜像を形成する露光工程１０２と、前記光導電層１２表面の前記静電潜像に、エポキシ変性化合物とカチオン型光重合開始剤と樹脂粒子とを含む印刷版製造用現像剤を付与し、前記光導電層表面に前記印刷版製造用現像剤で構成された画像を形成する現像工程１０３４と、形成した前記画像に紫外線を照射し、前記画像を硬化させる硬化工程１０４とを有する。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の構造を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【解決手段】高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥装置において、塗布膜温度が第１添加物の融点未満になるように熱風乾燥装置２８の乾燥条件をフィードバック制御する第１制御手段４７と、乾燥点に到達した直後に、第１溶媒よりも分子体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて塗布膜を乾燥する蒸気乾燥装置２９と、蒸気乾燥装置２９における塗布膜温度を測定する第２温度センサ５１と、第２温度センサ５１の測定結果に基づいて、塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように蒸気乾燥装置２９の乾燥条件をフィードバック制御する第２制御手段５３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するためのパターン形成において欠陥を著しく低減できる有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びその方法に用いるリンス液。
【解決手段】酸の作用により極性が増大し、有機溶剤を含有する現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有する有機溶剤系現像用レジスト組成物によりレジスト膜を形成する工程、露光工程、有機溶剤を含有する現像液を用いた現像工程、並びに、溶剤Ｓ１及びＳ２の少なくともいずれかを含有するリンス液を用いた洗浄工程（Ｓ１：分岐及び環状構造の少なくもいずれかを含むアルキル鎖を有し、該アルキル鎖における２級又は３級炭素原子が水酸基と結合している、炭素数が少なくとも５であるアルコール、Ｓ２：炭素数が少なくとも５であるアルキル基及び炭素数が少なくとも５であるシクロアルキル基の少なくともいずれかを有するジアルキルエーテル）を用いるパターン形成方法及び該リンス液。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体装置の製造方法等に関し、ハードマスクを用いることなくエッチング加工が可能となる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置の製造方法は、ゲート絶縁膜及び素子分離膜２の上にゲート電極３を形成する工程と、第１の層間絶縁膜４を形成する工程と、第１のＡｌ合金膜からなるＡｌ合金配線５を形成する工程と、第２の層間絶縁膜６を形成する工程と、第２のＡｌ合金膜７ａを形成する。次いで、第２のＡｌ合金膜７ａ上にレジストパターン８ａを形成する工程と、レジストパターン８ａにフロロカーボン系ガスを用いたプラズマ処理を行うことにより、レジストパターンの表面に硬化層８ｂを形成する工程と、硬化層８ｂが表面に形成されたレジストパターンをマスクとして異方性エッチングを行うことにより第２のＡｌ合金膜７ａを加工する工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機ＥＬ素子の作製に最適な、線太りの抑制及び印刷物の膜厚均一性の向上が可能な印刷用凸版を提供することを課題とする。
【解決手段】凸版のレリーフの頂面に供給されたインクを被印刷体へ転写する凸版印刷において用いるための凸版であって、該レリーフの厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下であり、かつ、該レリーフの頂面に、該レリーフの長辺方向と略平行に連続する複数個の細長形状の窪みを設けたことを特徴とする印刷用凸版を提供する。本発明の印刷用凸版は、線太りを抑制し、印刷物の膜厚均一性を向上させるため、表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機ＥＬ素子の作製に最適である。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、孔径が０．０４μｍ以下のナイロン膜からなる第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）