【課題】簡便な方法で、十分な処理効果を得ることができるフォトリソグラフィー工程排水の処理方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィー工程排水に疎水性官能基を有するカチオン性有機高分子凝集剤を添加した後、固液分離処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 高感度で火膨れが生じにくい、すなわちラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】 基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層に非感光性粒子を含み、該非感光性粒子の平均粒径が、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層平均膜厚の１／２倍以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】２種類以上の異なる形状の印刷パターンを、それぞれ所望の形状に露光・硬化させることを可能にするバック露光用のマスクフィルムを得る。
【解決手段】活性光線透過率が各々異なる３つ以上の領域３２、３３、３４を有するマスクフィルム３１。活性光線透過率が各々異なる３つ以上の領域のうちの、１つの領域の活性光線透過率が活性光線透過率Ｘであり、当該活性光線透過率Ｘの領域は、フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物の露光工程において共に用いられる画像層の非画像部に対応する領域であり、前記活性光線透過率Ｘの領域以外の、２つ以上の領域は、前記画像層を介してフレキソ印刷版用の感光性樹脂組成物に活性光線を照射したときに、２種以上の印刷パターンを形成し得る、画像層のパターン形成画像部に対応する領域であり、当該２以上の領域における活性光線透過率は、前記活性光線透過率Ｘよりも高い。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィによってネガ型のパターンを形成する。
【解決手段】基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）酸の作用により、極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）第三級アルコールとを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】最終的に半導体基板上に形成されるパターンの寸法精度と位置精度を悪化させることのないパターン形成方法及び該方法により形成されるフォトマスクを提供する。
【解決手段】半導体基板に１回目の露光でパターンを形成し、１回目の露光でパターンが形成されていない抜き部分に２回目の露光でパターンを形成するパターン形成方法であって、１回目のパターンを形成するための１回目の露光用パターン１２と２回目のパターンを形成するための２回目の露光用パターン１３とを単一の透明基板１１に形成してなるフォトマスク１７を設け、このフォトマスク１７を用いて半導体基板に１回目と２回目のパターンを形成する際に１回目の露光の条件と２回目の露光の条件と異ならせる。これにより、片方のパターンを優先的に露光する上での手法を有利にした。 （もっと読む）

【課題】レジストの組成を変化させること無く、またプラズマ照射装置のような特別な装置を必要とせず、パターニングの精度を維持しつつ、インクの塗布量を確保することが可能な液滴塗布基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液滴塗布基板の製造方法は、基板の一面上にレジスト層がパターン形成されてなる液滴塗布基板の製造方法であって、前記基板の一面を覆うように化学増幅型のレジストを塗布しレジスト層を形成する工程Ａと、前記レジスト層を所定のパターンで露光する工程Ｂと、前記レジスト層の表面を、フッ素を有する高分子を含有する修飾剤を用いて修飾する工程Ｃと、前記レジスト層を現像する工程Ｄと、を少なくとも順に備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。前記処理液は、標準沸点が１７５℃以上である有機溶剤を含有し、前記処理液に占める前記溶剤の含有率は３０質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、及び（Ｃ）２個以上のエポキシ基と、ケイ素原子に結合する２個以上のアルコキシ基を有する架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工程数が少なく、高精度かつ高アライメント精度で微細パターンを形成できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）基板の上に、感光性樹脂からなる第一の樹脂層を形成する工程と、（２）前記第一の樹脂層の上に、第２級または第３級アルキニルアルコールと光酸発生剤とベース樹脂とを含有する第二の樹脂層を形成する工程と、（３）前記第二の樹脂層をパターン露光する工程と、（４）前記第二の樹脂層において前記パターン露光した部分をマスクとして、第一の樹脂層を露光する工程と、（５）前記第二の樹脂層及び第一の樹脂層を除去する工程と、を有する微細パターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】サイズが大型化した有機ＥＬ素子を凸版印刷法によって形成するための樹脂凸版を、フォトリソグラフィー法でパターニングする際に、スプレー式現像方法をもちいながら、パターン精度が高く、かつ現像ムラ等を無くした製版を行う方法とその方法で得られる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】版材の感光性樹脂を露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂を現像する現像工程とを供え、現像工程は版材全体を現像液に浸漬させる浸漬段階と、浸漬後の感光性樹脂の不要箇所をスプレー型の噴出口より噴射される現像液により除去し現像する現像段階と、現像後の感光性樹脂上の現像液の残渣をスプレー型の噴出口より噴射される洗浄液により除去する洗浄段階と、洗浄後の感光性樹脂表面に気体を吹き付け洗浄液を除去する洗浄液除去段階とを具備し、少なくとも現像段階と洗浄段階との版材搬送部が版材搬送方向と直行する水平面に対して傾斜した角度を有する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子といった微細なパターニングを必要とする回路パターンの印刷に適用する感光性樹脂よりなり、版未洗浄部の存在による残留有機物の混入（コンタミ）や異物の未除去での影響を改善し、印刷特性の優れた印刷用凸版の製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷法に用いられる印刷用凸版の製造方法であって、版材基材上に光硬化性の感光性樹脂の凸パターンを形成する工程と、前記凸パターン形成後の前記感光性樹脂上の全面に光触媒機能を有する層を少なくとも1層以上形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】現像液中に分散する感光性樹脂成分を効率的に除去可能な現像装置を提供する。
【解決手段】印刷原版１に現像液５を供給する供給装置３１と、印刷原版１の感光性樹脂組成物層から遊離した感光性樹脂組成物が分散している現像液５が通され、現像液５中に分散している感光性樹脂組成物を凝集させる分散物フィルタ１３と、分散物フィルタ１３を通過した現像液５から、凝集された感光性樹脂組成物を除去する凝集物フィルタ１５と、凝集物フィルタ１５を通過した現像液５を静置する静置槽７１と、を備える、現像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、自然経時により発生する微小残膜を抑制する平版印刷版原版を提供すること、並びに、前記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷版を提供すること。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、（成分Ａ）複素環を有する高分子顔料分散剤、及び、（成分Ｂ）顔料、を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。前記平版印刷版原版を、画像露光する露光工程、及び、現像液により現像処理する現像工程、を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。前記平版印刷版の製版方法により製造されたことを特徴とする平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】合成が容易で、触媒活性が高い塩基である３級のアミンやアミジンを発生可能な塩基発生剤、及び当該塩基発生剤を用いた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸と塩基を含む構造を有し、電磁波の照射により塩基を発生することを特徴とする塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、下記成分（Ｓ１）及び成分（Ｓ２）の少なくとも一方を含んだ溶剤とを含有している。
（Ｓ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート；
（Ｓ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル、鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、及びアルキレンカーボネートからなる群より選択される少なくとも１つ。 （もっと読む）

【課題】検版性に優れ、かつ火膨れ耐性が良好な水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層と、有色顔料を含むシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、前記有色顔料の粒度分布が、少なくとも４００ｎｍ以上の領域および１５０ｎｍ以下の領域にそれぞれ極大値を有することを特徴とする水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】選択的位置のレジスト膜とその下地との密着性を高め、非選択的位置のレジスト膜の残渣を減少させる。
【解決手段】下地１に第１レジスト材３を塗布し（工程１―１）、所望パターンとは逆パターンで第１レジスト材３をパターニングして前記下地の表面のうち前記所望パターンの表面を露出させ（工程１―２）、該下地の前記露出された表面を疎水化処理し（工程１―３）、該疎水化処理後に下地１から前記パターニングされた第１レジスト材３を除去（工程１―４）して下地１に第２レジスト材２を塗布し、（工程１―５）、第２レジスト材２を前記所望パターンでパターニングする（工程１―６）。 （もっと読む）

【課題】印刷不良を防ぎ、版表面に付着する異物を限りなく減らし、高精細パターンを高精度で印刷できる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】本発明の印刷用凸版は、基材１１と、この基材１１の一方の面に形成された接着層１２と、この接着層１２の上に形成され、当該接着層１２を保護する耐溶剤層１３と、この耐溶剤層１３の上に形成され、所定パターンの凸部を有する感光性樹脂層１４と、この感光性樹脂層１４の上に設けられ、当該感光性樹脂層１４を保護する保護層１５とを具備している。 （もっと読む）