【課題】レジスト以外の基板材料を酸化させること無く、溶剤を用いた従来のレジスト除去方法に比べてレジストを効果的に除去することができるレジスト除去装置を提供することにある。
【解決手段】レジストを成膜したウェハＷからレジストを除去するレジスト除去装置に、有機系溶剤分子が複数集合してなるクラスターをウェハＷに噴射するクラスター噴射手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記化学増幅型レジスト組成物が、（Ａ）樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法。式（Ｉ）中、Ａは、環状の有機基を表す。その他の各符号は所定の構造を表す。
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【課題】レジスト膜をスタティックな現像方式で現像したときに発生する異物付着を解決し、スタティックな現像方式の利点を活かしつつ、異物の少ないフォトマスク製造方法を提供する。
【解決手段】基板１に形成したレジスト膜３に露光処理を施した後、レジスト膜３に静置状態で現像液を付与することで露光部分を現像液中に溶解させるレジスト膜の現像方法において、現像のための溶解中に、基板１、異物７を帯電させることにより、電気的な反発作用によって異物７を脱離、付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】セルアレイ内部とセルアレイの端部とでパターンを均一に形成できる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明は、第１の領域と第２の領域とが画定された基板上にエッチング対象層を形成するステップと、該エッチング対象層上に第１の開口を有する第１の感光膜パターンを形成するステップと、該第１の感光膜パターンの表面に遮光膜を形成するステップと、該遮光膜が形成された第１の感光膜パターン上に、前記第１の領域と第２の領域とを同時に露光して複数の第２の開口を有する第２の感光膜パターンを形成するステップと、前記第１の感光膜パターンと第２の感光膜パターンとをエッチングバリアとして、前記エッチング対象層をエッチングして複数のパターンを形成するステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有し、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物から発生する酸のｌｏｇＰ値が、１．５以上１２．０以下であるネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高いスループットが得られる現像装置を提供すること。
【解決手段】処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に搬入された基板の表面に現像液を結露させて液膜を形成するために、当該処理容器内に現像液のミストを供給する雰囲気ガス供給部と、前記液膜による現像を停止するために基板を乾燥する乾燥部と、を備えるように現像装置を構成する。現像液とレジストとの反応を停止させることができるので、洗浄モジュールによる洗浄処理と並行して現像処理を行うことができ、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】基板表面全体に均一性高く現像液の液膜を形成すると共に高いスループットが得られる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】現像モジュールと、洗浄モジュールと、前記現像モジュールにより現像された基板を前記洗浄モジュールに搬送する搬送機構と、を備え、前記現像モジュールは、処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に設けられ、基板を載置し、冷却するための温調プレートと、前記処理容器内に現像液のミストを含む雰囲気ガスを供給する蒸気供給部と、前記温調プレートを、前記蒸気が基板上に結露する温度に調整するための温度調整部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。現像モジュールと洗浄モジュールとで並行して処理を行えるので、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】簡便な手段で有機電子デバイスの寿命を劣化させる樹脂凸版からの溶出物を低減し、かつ耐刷性にすぐれた高精細印刷凸版の製造方法および該印刷用凸版を用いた有機電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂層に対してフォトマスクを介して凸パターン状に露光・現像して凸版を形成する工程と、凸版全体に対して少なくとも、２００〜３００ｎｍの波長領域、及び３００〜４００ｎｍの波長領域、及び４００〜４５０ｎｍの波長領域のそれぞれに１つ以上の輝線スペクトルをもつ光源を用いて露光する第二の露光工程と、有機溶剤を用いて凸版を洗浄する工程と、を有することを特徴とする印刷用凸版の製造方法としたものである。 （もっと読む）

【課題】所望の２次元形状パラメータを有したパターンを基板上に形成可能な露光量を正確に決定することができる露光量決定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスク上に形成されるマスクパターンと所望のマスクパターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量分布を、マスクパターンマップｍ１として取得するマスクパターンマップ取得ステップと、マスクをショット露光してウェハ上にパターンを形成した場合に形成されるウェハ上パターンと所望のウェハ上パターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量が所定の範囲内に収まるよう、マスクパターンマップｍ１に基づいて、露光ショット内での位置毎に露光量を決定する露光量決定ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】現像処理時に、感光性平版印刷版の表面に筋状のむらが発生することを防止できるブラシローラ、感光性平版印刷版の現像装置、および平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性平版印刷版の現像装置に適用され、感光性平版印刷版の表面をブラッシングするためのブラシローラ７１は、軸部材８１と、ブラシ素材をチャンネル部材に固定して形成され、軸部材７１の外周面に巻き付けられた複数のチャンネルブラシ８３と、を備える。複数のチャンネルブラシ８３は、それぞれが軸部材８１の外周面に所定のピッチでらせん状に巻き付けられており、軸部材８１の周方向にて互いに離隔して配設されている。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程Ｓ１２と、レジストパターンを疎水化する第１の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程Ｓ１４〜Ｓ１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離液耐性・リフロー耐性に優れ、アンダーフィル層およびシリコン基材への接着性が良好な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


で表される繰り返し単位を包含するポリアミド樹脂１００質量部、（Ｂ）光開始剤０．５〜２０質量部、及び（Ｃ）熱によりエポキシ樹脂と反応しうる基を有する有機ケイ素化合物０．１〜２５質量部を含む感光性ポリアミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程及び構成でスタンプを作製できるスタンプ作製方法及びスタンプ作製装置を提供する。
【解決手段】作製ステージテープＭＳＴ上に液体の感光性樹脂ＰＨＰを塗布し（図１（ａ））、感光性樹脂ＰＨＰを作製ステージテープＭＳＴとスタンプＳＴのベース部材であるスタンプテープＳＴＴとの間に挟んで展延し（図１（ｂ））、展延した感光性樹脂ＰＨＰのスタンプ形状に対応する領域に光を照射して硬化させ（図１（ｃ））、作製ステージテープＭＳＴとスタンプテープＳＴＴとを離間させて（図１（ｄ））、硬化した感光性樹脂ＰＨＰをスタンプテープＳＴＴ上に残し、スタンプテープＳＴＴに付着している未感光の感光性樹脂ＰＨＰを洗浄し、スタンプテープＳＴＴ上にスタンプＳＴを形成する（図１（ｅ））。 （もっと読む）

【課題】 従来の製版方法では、製版時に版表面に存在する酸素を除去する構造又は製版工程を有していないことから、露光時の版表面に存在する酸素により感光性樹脂層の効果反応が阻害され、高解像度のレリーフが形成されたフレキソ印刷版を得ることができない。
【解決手段】赤外レーザー融除層にマスクを形成後、十分な酸素遮断を行うことにより、解像度に優れたレリーフが形成された高解像度フレキソ印刷版を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高品質な印刷版が得られる表面処理方法を提供する。
【解決手段】ｐＨ８以上のアルカリ性電解水で印刷版表面を処理する、印刷版の表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成のスループットを向上できるようにする。
【解決手段】基板の上に、ブロックコポリマー膜３０３を形成する。続いて、ブロックコポリマー膜３０３の上に、水溶性ポリマー膜３０４を形成する。その後、ブロックコポリマー膜３０３膜と水溶性ポリマー膜３０４とをアニーリングする。 （もっと読む）

【課題】現像時に、処理液をミスト状に発生させてレジスト膜の現像を行うために、スプレー現像のような現像液の液滴によるレジストへのインパクト（衝撃）や、パドル現像のような基板に盛った現像液を振り切る際の現像液との摩擦によるパターン倒壊がなく、良好なレジスト膜のパターンを形成するパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】フォトマスクまたは半導体製造の微細加工におけるレジストのパターン形成方法において、現像液及び処理液をミスト状に発生させてレジストのパターン形成を行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

感光性印刷ブランクからレリーフ像印刷要素を作製する方法を提供する。少なくとも１つの光硬化性層上に配置されたレーザアブレーション可能な層を有する感光性印刷ブランクをレーザアブレーションして、その場マスクを作製する。次いで、その場マスクを通して少なくとも１つの化学線源に前記印刷ブランクを曝露して、光硬化性層の一部を選択的に架橋し、硬化させる。曝露工程中の少なくとも１つの光硬化性層への空気の拡散を制限し、曝露工程中に、少なくとも１つの化学線源の照明の種類、出力、及び入射角のうちの少なくとも１つを変化させることが好ましい。得られたレリーフ像は、複数のドットを含み、段ボールに印刷するために印刷フルーティングに対する耐性の高いドット形状の複数のドットが生成される。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上の塗布膜に対する減圧乾燥処理を急速に行うプロセスと緩慢に行うプロセスとの選択的な切り換えを可能とする。
【解決手段】この減圧乾燥ユニット１４において、気流制御部６０は、Ｙ方向において下部チャンバ２４の相対向する側壁２４(2)，２４(4)の内側でステージ３０の両側に配置される第１の仕切板６２Ａ，６２Ｂと、この第１の仕切板６２Ａ，６２Ｂを第１の高さ位置と第２の高さ位置との間で昇降移動させる第１の昇降機構６４とを有している。さらに、気流制御部６０は、ステージ３０の周囲または傍らに配置される横断面コ字状の第２の仕切板７６と、この第２の仕切板７６を第３の高さ位置と第４の高さ位置との間で昇降移動させる第２の昇降機構７８とを有している。 （もっと読む）