【課題】優れた剥離性、安全性及び防食性を有するレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表される２−アルコキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び水を含み、前記２−アルコキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び水の重量比が３０：７０〜１００：０であるレジスト剥離剤。


（式中、Ｒ^１はアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】感度が高く、現像後の加熱処理によるパターンの変形が小さい、ポジ型で耐熱性の感光性重合体組成物、解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基又はフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性のポリイミド前駆体又はポリイミド、（ｂ）光により酸を発生するｏ−キノンジアジド化合物、（ｃ）フェノール性水酸基を有する化合物、及び（ｄ）熱により（ａ）成分と架橋反応を起こす化合物を含有してなる感光性重合体組成物であって、上記（ｃ）成分が、一般式（II）


で表される化合物を含むことを特徴とする感光性重合体組成物を、電子部品の表面保護膜又は層間絶縁膜形成用の感光性重合体組成物として用いる。 （もっと読む）

【課題】高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池の実現を可能とする負極基材、この負極基材を用いた二次電池、この負極基材の形成に用いられるポジ型ホトレジスト組成物、及びこの負極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物により形成された有機膜を備えた支持体に、金属膜を形成してなることを特徴とする負極基材、又は前記有機膜をパターン露光により所定形状にパターン化したパターン化有機膜を備えたことを特徴とする負極基材によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 （もっと読む）

【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）カルボニル基に対してｏ−又はｍ−位に少なくとも一つの（置換）アミノ基を有し、一般式（Ｃ−１）等で表わされるベンゾフェノン化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有するレジストパターン形成方法。
【化１】
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【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）一般式（Ｃ−１）等で表わされるアゾ化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有することを特徴とするレジストパターン形成方法。
【化１】


（Ｒ^１１〜Ｒ^１４は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等であり、Ｒ^１１〜Ｒ^１４の全てが同時に水素原子であることはない。） （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成
することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を基板表面に塗布して２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−１）等で表わされるトリアゾール化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有するレジストパターン形成方法。
【化１】


（Ｒ^１１及びＲ^１２はα，α−ジメチルベンジル基等であり、少なくとも一方はα，α−ジメチルベンジル基又はアルコキシカルボニルエチル基。Ｒ^１３は水素原子等。） （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）カルボキシル基を有する特定の不飽和化合物、（ａ２）脂環式エポキシ骨格を有する特定の不飽和化合物ならびに（ａ３）上記（ａ１）および（ａ２）以外の不飽和化合物の共重合体ならびに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】感光性ポリイミド樹脂組成物を低弾性率化して低反り性を付与するために、ジアミン成分の一部をジアミノポリシロキサン系化合物やビス（アミノベンゾエート）系化合物で代替した場合であっても、汎用の有機溶媒に対する溶解性を維持したまま、弱アルカリ性水溶液による現像性を実現できるようにする。
【解決手段】特定構造のポリイミドユニットからなるポリイミド樹脂と、メラミンシアヌレート類縁体と、ジアゾアフトキノン類縁体とを含有し、該メラミンシアヌレート類縁体が、ポリイミド樹脂１００重量部に対し５〜５０重量部である弱アルカリ性水溶液でポジ型現像が可能で且つ有機溶媒に可溶な感光性ポリイミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、オキセタニル基含有不飽和化合物およびこれらの不飽和化合物以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに１，２−キノンジアジド化合物、ならびにオキセタニリルシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基あるいはオキセタニル基の少なくとも一つを含有する不飽和化合物、（メタ）アクリロイルモルホリンおよび他の不飽和化合物の共重合体ならびに１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、及び基板との接着性に優れるポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性のポリイミド又はポリイミド前駆体構造を含む樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０重量部、（Ｃ）テルペン化合物０．０１〜７０重量部、を含むポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】脱ガス量が少ない硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）、オキセタニル基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）、および式（１）で表される化合物から導かれる構成単位（ａ３）を有する重合体（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）、フェノール性水酸基含有高分子化合物（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、かつ、耐熱性、耐溶剤性に優れた硬化物を与えうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタン類および
（ａ３）前記（ａ１）成分および（ａ２）成分と異なるオレフィン系不飽和化合物
を共重合して得られる共重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、
［Ｃ］感熱性酸発生剤および［Ｄ］窒素含有架橋剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像液からの水分の蒸発による珪酸塩の析出、そしてそれによる固着物の発生による現像性能への影響、さらにはこうして生じる固着物の版材表面への転写による版材品質への影響を改善すること。
【解決手段】ポジ型感光性平版印刷版材の現像処理に用いられるアルカリ現像液であって、このアルカリ現像液が、珪酸のアルカリ金属塩（ａ）、炭素数２〜５の多価アルコール（ｂ）、キレート化剤（ｃ）および水を少なくとも含有し、この珪酸のアルカリ金属塩（ａ）の量は、アルカリ現像液１００重量部に対して６．２５〜７．００重量部であり、 この炭素数２〜５の多価アルコール（ｂ）の量は、アルカリ現像液１００重量部に対して０．２〜１０重量部であり、このキレート化剤（ｃ）の量は、アルカリ現像液１００重量部に対して０．００５〜０．５重量部である、アルカリ現像液。 （もっと読む）

【課題】露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物。
【解決手段】（ａ）シロキサンポリマー、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸アルキルエステルおよびその他の構造単位を有する共重合体からなる感光性シロキサン組成物であって、該共重合体は（メタ）アクリル酸の構造単位を１０〜５０モル％、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの構造単位を２５〜５０モル％、その他の構造単位を２５〜５０モル％含有することを特徴とする感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】透過率、低温で硬化した際の環化率のバランス優れたポリアミド樹脂を提供すること、また、前記ポリアミド樹脂を適用することにより、リフロー耐性に優れたポジ型感光性樹脂組成物提供すること、また、硬化膜、保護膜、絶縁膜およびそれを用いた半導体装置、表示体装置を提供する。
【解決手段】樹脂中のアミノフェノールの２つの芳香環がメチレンを介して結合している構造を含むポリアミド樹脂１００重量部に対して、感光性ジアゾキノン化合物を１〜５０重量部含むポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】厚膜化したレジスト膜の表面凹凸形状を維持した状態で熱硬化させることが可能な工程を備えた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に塗布成膜したレジスト膜に対して露光および現像処理を行うことにより当該レジスト膜をパターニングした後、乾燥処理する（Ｓ１）。乾燥処理後のレジスト膜に対して乾燥ガスを充填した雰囲気下において紫外線を照射する（Ｓ２）。この紫外線照射は加熱条件下において、乾燥ガスを充填した雰囲気を大気圧程度に保って行われる。紫外線を照射した後にレジスト膜を熱硬化させる（Ｓ３）。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するために好適に用いられる十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有する感放射線性樹脂組成物、およびそれから形成された突起、それを具備する液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）特定のオキセタニル基含不飽和化合物、並びに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物を共重合して得られる共重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のポジ型感放射線性樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を塗布し２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）