【課題】ポリイミドの原料として有用である、新規な１，２，４，５‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物を提供する。
【解決手段】本発明に係る１，２，４，５‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物は、（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物である。上記化合物によれば、固有粘度の高いポリイミド前駆体を得ることができるため、有用なポリイミド原料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有機絶縁膜を被覆した無機絶縁膜のエッチング時にエッチング残渣が生成せず、金属配線や金属層などの銅及び銅合金の腐食を抑制する半導体装置及びその製造方法、感光性樹脂組成物並びに電子部品を提供する。
【解決手段】半導体装置は、パッド電極２が形成された半導体基板１と、少なくとも前記パッド電極２上に形成された無機絶縁膜３と、無機絶縁膜３上に形成された第１の有機絶縁膜４とを備える。第１の有機絶縁膜４は、樹脂構造にフッ素を含まないポリイミド系樹脂と、複素環状化合物、チオ尿素類及びメルカプト基を有する化合物から選択される少なくとも１種の化合物とを含有する樹脂組成物から形成される。 （もっと読む）

【課題】高い透過率を維持し、且つ、高感度であり、広いポストベーク温度範囲においてその温度の違いによるパターン形状等の変化が殆ど起きず、保存安定性にも優れたポジ型感光性樹脂組成物並びに該組成物から得られる硬化膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：側鎖に脂肪族水酸基を有するアルカリ可溶性アクリル重合体、（Ｂ）成分：１，２−キノンジアジド化合物、（Ｃ）成分：熱によりスルホン酸を発生する化合物（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いて得られる硬化膜並びに該硬化膜からなる液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】感光性フィルムとしたときに、めっき耐性が良好である感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ溶解性樹脂１００質量部に対して、（Ｂ）キノンジアジド構造を有する感光剤を１質量部〜５０質量部含有し、且つ熱処理後の弾性率と密着強度が下記式（ａ）を満たすことを特徴とする。
Ｙ≧０．０００４Ｘ 式（ａ）
（Ｙは密着強度（Ｎ／ｍｍ）、Ｘは熱処理後の弾性率（ＭＰａ）） （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、プロセスマージンに優れ、形成されるシリカ系被膜が解像性及び耐熱性に優れる感光性樹脂膜の形成方法及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 特定のシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、上記シロキサン樹脂が溶解する溶媒と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程を備える感光性樹脂膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】低温でも良好な膜特性を持つ硬化膜が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたポリベンゾオキサゾール膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）：
【化１】


（式中、Ｕ, Ｖ, Ｗは２価の有機基を示し、Ｕ又はＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基であり、Ｘは芳香環構造を含む２価の有機基であり、ｊ及びｋはそれぞれＡ構造単位及びＢ構造単位のモル分率を示し、ｊ及びｋの和は１００モル％である。）で示される構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体の共重合体と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）溶剤と、（ｄ）加熱により架橋または重合し得る架橋剤と、を含有してなる感光性樹脂組成物を課題の感光性樹脂組成物として用いる。 （もっと読む）

【課題】現像性に優れている感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】シロキサンポリマーを少なくとも含むアルカリ可溶性ポリマー１００重量部と、キノンジアジド化合物３〜１００重量部とを含有し、シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にある感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を現像液に可溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を除去し、未露光部の感光性組成物１からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径２〜５ｎｍであって、分画分子量が１０００〜４０００のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 （もっと読む）

【課題】低温硬化後の硬化膜が、高温で硬化したものと遜色なく、種々の有機溶媒に対して優れた薬品耐性を示すポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性樹脂組成物は、（ａ）複素環トリアミン残基を分岐部分として有するポリベンゾオキサゾール、ポリイミド又はそれらの前駆体と、及び（ｂ）光により酸を発生する化合物とを含有する。さらに、ポジ型感光性樹脂組成物は、(ｃ)成分として、熱により（ａ）成分と架橋しうる、あるいはそれ自身が重合しうる化合物を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】優れた防食性、環境性能及び剥離性能を有するレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるＮ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド化合物。


（式中、Ｒはメチル基又はエチル基である。）ジメチルアクリルアミド及びメトキシエタノール、又はジメチルアクリルアミド及びエトキシエタノールを塩基性触媒存在下で反応させることにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】現像性に優れ、キュア後の反りがなく、且つ、難燃性を有する感光性インク、及びそれを用いたプリント配線板を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性インクは、ポリイミドフィルム（膜厚２５ミクロン）の片面に、硬化膜の膜厚が２０ミクロン±２ミクロンとなるように、感光性インクを塗布した後、空気下にて１２０℃で６０分間、続いて１８０℃で６０分間焼成して得られるポリイミドフィルム片面に硬化膜を有する２層フィルムにおいて、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出した際、端部の持ち上がりが１０ｍｍ以下であり、且つ、該２層フィルムを用いて、ポリイミドフィルムの硬化膜が設けられている反対側の面に、硬化膜の膜厚が２０ミクロン±２ミクロンとなるように、感光性インクを塗布した後、空気下にて１２０℃で６０分間、続いて１８０℃で６０分間焼成して得られる３層フィルムが難燃性試験においてＶＴＭ−０を示すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基を有する化合物と、（Ｃ）（ｃ１）アルキルエーテル化したアミノ基を有する化合物、（ｃ２）エポキシ樹脂および（ｃ３）オキセタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋剤を含有するポジ型感光性接着剤組成物を基板に塗布し、プレベークした後、選択的に露光し、次いでアルカリ現像してレジストパターンを形成し、さらに加熱または露光した後、前記基板のレジストパターン形成面に被着体をプレスすることにより、基板と被着体とを接着させる接着方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は微細な導電性パタンが生産性高く得られる、安価な導電性パタン前駆体および導電性パタンの形成方法を提供することである。本発明の別の課題は、裏面から見て金属光沢を呈さず、パタン太りや欠点の少ない、密着性も優れたフルアディティブ法による導電性パタンの形成方法を提供することである。
【解決手段】絶縁性支持体上の少なくとも片面に、銀錯塩拡散転写法を用いて形成した銀薄膜層を有する材料の銀薄膜層上に感光性レジスト層を有する導電性パタン前駆体、およびそれを用いた導電性パタン形成方法。 （もっと読む）

【課題】金属膜の腐食を抑えながら厚膜レジストを残渣なく現像する、厚膜レジスト用現像液を提供すること。
【解決手段】塩基性化合物（ａ）と多価アルコール（ｂ）とを含む厚膜レジスト用現像液であって、前記多価アルコール（ｂ）を該厚膜レジスト用現像液全量に対して３質量％以上２０質量％未満の濃度で含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液による。特に、多価アルコール（ｂ）がグリセリン、プロピレングリコール及びエチレングリコールの中から選ばれるものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置を改造することなく、金属膜形成工程における側壁付着部の形成を防ぐことができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１１上に４層のレジスト層を形成するレジスト形成工程において、第１の難溶化層１５及び第２の難溶化層１９が、第１のレジスト層１３及び第２のレジスト層１７に対してアルカリ難溶性の材料よりなり、露光後に複数のレジスト層を現像する現像工程において、第１の難溶化層１５及び第２の難溶化層１９が、第１のレジスト層１３及び第２のレジスト層１７に対して庇形状に現像される。このような構成によれば、金属膜形成工程において、第１の難溶化層１５及び第２の難溶化層１９の突出部１５ａ，１９ａが、蒸着金属粒子の進路を遮り、第１のレジスト層１３の側壁部１３ｓへの金属膜の付着を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される１種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、３０℃〜１４０℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（１）［式（１）中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基等を示し、Ｘは加水分解性基を示す。］ （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂組成物に光活性剤として用いた場合に、高感度、高解像度を示し、保存安定性の良好な、ハロゲン元素を含まないナフトキノンジアジド化合物の提供。
【解決手段】ナフトキノンジアジド化合物は、一般式（１）：


｛式中、Ｒ_１及びＲ₂は、互いに独立に、１価の有機基（水素は除く）であり、Ｑ_１及びＱ_２は、互いに独立であり、かつ、Ｑ_１及びＱ_２の内の少なくとも１つは、スルホニル基を有するナフトキノンジアジド基であり、そしてＸは、ハロゲン元素を含まない２価の基又は単結合である。｝である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物において、現像後の密着性、耐熱性及び機械特性の更なる改善を図ること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光により酸を発生する化合物、（Ｃ）コアシェルポリマー、及び（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】難エッチング材を含む部材であっても、簡便に、かつ、良好な形状にパターニングすることができるドライエッチングによるパターニング方法及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】被エッチング部材のドライエッチングを施す面に感光性樹脂のマスク２４ａを形成した後、撥水処理２８を施す。撥水処理後、感光性樹脂のマスクをポストベークする。次いで、感光性樹脂のマスクを介してドライエッチングを施すことにより被エッチング部材をパターニングする。被エッチング部材としては、磁性体材料、強誘電体材料、及び貴金属の少なくとも一種を含む膜を有するものを好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】電気・電子材料の製造に有用な塗膜として、銅又は銅合金上で高い解像度の硬化レリーフパターンを与えうる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたパターン形成方法並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を有するポリイミド前駆体又は特定の構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体１００質量部と、（Ｂ）感光剤１〜４０質量部と、（Ｃ）特定の構造のフェノール化合物０．１〜２０質量部とを含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）