【課題】低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】保護膜２が形成された半導体基板１上に、第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成されている。本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。その後、加熱（硬化）して、表面保護膜８を形成する。この表面保護膜８は、導体層３，７を外部からの応力、α線などから保護するものであり、得られる半導体装置は信頼性に優れる。 （もっと読む）

【課題】透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ）カルボキシスチレン骨格を有するモノマー単位、及び、（ｂ）環状エーテル基、を有するモノマー単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）感光剤と、（Ｃ）溶剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、上記問題を鑑み、ウエハ上に樹脂膜形成する際、気泡によるクラックを抑制でき、信頼性に優れた樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜、保護膜、絶縁膜、半導体装置および表示体装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の樹脂ワニスは、半導体ウエハまたは表示体装置に用いられる樹脂膜を形成するための樹脂ワニスであって、前記樹脂ワニスは、５０［ｃｃ］容量のメスシリンダーに液面高さが２０ｃｍとなるように該樹脂ワニスを採取し、ゲージ圧−９８［ｋＰａ］で６０分間処理した際の気泡の数が５個以下であることを特徴とする。また、本発明の樹脂膜は、上記に記載の樹脂ワニスを塗布してなることを特徴とする。また、本発明の半導体装置は、上記に記載の樹脂膜を有していることを特徴とする。また、本発明の表示体装置は、上記に記載の樹脂膜を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下記の化学式で示されるポリアミド誘導体および熱酸発生剤を含むポジ型感光性組成物を開示する。
【化２０】


【解決手段】上記の化学式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、およびＲ⁵はそれぞれ独立的に２〜４価のアリール基であり、Ｒ³は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、ｋはそれぞれ独立的に１０〜１０００の定数であり、ｌは１〜１０００の定数であり、ｎおよびｍはそれぞれ独立的に０〜２の定数であり（ただし、ｎ＋ｍ＞０）、Ｘは水素原子または炭素数２〜３０のアリール基である。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性と現像寛容度に優れ、透明性、耐溶剤性及び耐熱性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物に由来するモノマー単位、及び、その他の不飽和化合物に由来するモノマー単位を含有し、エポキシ基及びオキセタニル基のいずれをも含有しないアルカリ可溶性樹脂、（成分Ｂ）ラクトン構造を含有する不飽和化合物に由来するモノマー単位、並びに、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を含有する不飽和化合物に由来するモノマー単位を含有する架橋性樹脂、並びに、（成分Ｃ）感光剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 ２５０℃以下で硬化しても、硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】
（ａ）一般式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ｕ及びＶは２価の有機基を示し、Ｕ及びＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基である。）で示される構造単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体と、
（ｂ）感光剤と、
（ｃ）溶剤と、
（ｄ）加熱により架橋または重合し得る架橋剤と、
（ｅ）ウレア結合を有するシランカップリング剤と、
を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性及び現像性に優れ、優れた膜物性と高い透明性を有する硬化膜を与えることができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来するモノマー単位を有し、アルカリ可溶性基を有し、オキシラニル基及びオキセタニル基のいずれをも有さず、加熱によりカルボキシ基を生成する残基を含有するアルカリ可溶性樹脂、（成分Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、並びに、（成分Ｃ）（メタ）アクリルエステルに由来し、オキシラニル基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位を含み、不飽和カルボン酸又は不飽和酸無水物に由来するモノマー単位を有しない架橋性樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】最終加熱時においてメルトを起こすことなく、また、最終加熱以降の加熱においても架橋成分等の昇華及びガス成分の発生が少ない層間絶縁膜又は表面保護膜を成膜可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（Ｉ）で表される構造単位を有し、酸性官能基若しくはその誘導基を両末端に有する重合体、（Ｂ）溶媒及び（Ｃ）特定のウレイド化合物を含んでなる電子部品の絶縁膜又は表面保護膜用樹脂組成物。
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【課題】低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】保護膜２が形成された半導体基板１上に、第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成されている。本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。その後、加熱（硬化）して、表面保護膜８を形成する。この表面保護膜８は、導体層３，７を外部からの応力、α線などから保護するものであり、得られる半導体装置は信頼性に優れる。 （もっと読む）

【課題】現像ムラが生じない塗膜を形成し得る着色硬化性樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）着色硬化性樹脂組成物を構成する成分を混合し、混合物を得る混合工程、（２）混合工程で得られた混合物を攪拌する攪拌工程を含み、さらに攪拌工程で得られた混合物を、（３）２０℃以上４０℃以下の温度で、１０時間以上７２０時間以下静置する保温処理工程及び（４）濾過して濾液を回収する濾過工程を任意の順に含む、着色硬化性樹脂組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】キノンジアジド化合物との相溶性が高く、ＩＴＯ膜エッチング工程におけるレジスト剥離液耐性に優れた層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］シロキサンポリマー、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有し、［Ａ］シロキサンポリマー中のアリール基のＳｉ原子に対する含有率が６０モル％を超え９５モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。［Ａ］シロキサンポリマーが、下記式（１）（式中、Ｒ^１は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。但し、これらのアルキル基、アルケニル基、及びアルキル基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。ｎは０から３の整数を表す）で示される化合物を少なくとも含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であってよい。
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【課題】キュア形状に優れ、高感度な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリベンズオキサゾール前駆体及び可溶性ポリイミドより選ばれる少なくとも一種のアルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、（Ｃ）下記一般式（３）：


で表される有機ケイ素化合物１〜４０質量部、及び（Ｄ）架橋性化合物１〜４０質量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、接着性に優れ、さらに２８０℃以下で行なわれる低温硬化プロセスで用いても耐熱性に優れ、吸水率の低い、良好な形状のパターンが得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、（ｂ）感光剤、（ｃ）溶剤、及び（ｄ）アリールスルホン酸又はアルキルスルホン酸を発生する熱酸発生剤を含有してなる感光性樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｕ又はＶは２価の有機基を示し、特定の構造を含む］ （もっと読む）

【課題】放射線感度及び耐メルトフロー性が優れると共に、高い耐熱性、透明性等を有する層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］加水分解性シラン化合物及び／又はその加水分解縮合物であるシロキサンポリマー、［Ｂ］Ｃ１〜６のアルキレン基、フェニレン基、１，４-ジアルキルフェニレン基で結合された構造のビスシラン化合物、並びに［Ｃ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物。 （もっと読む）

【解決課題】スカムなく高感度での現像が可能で硬化後の膜が低着色で、更に低吸水であるポジ型の感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置、表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、ジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）、フェノール性水酸基を含まず−ＣＨ₂ＯＨ基を含む化合物（Ｃ）を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であり、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、特定の構造を有するポリアミド樹脂であり、化合物（Ｃ）が−ＣＨ₂ＯＨ基を２つ以上有するものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い化学薬品耐性、及び基材に対する優れた密着性を有する硬化膜が形成できるポジ型感光性樹脂組成物であって、特に無電解めっき工程に用いられる薬品に対して高い化学薬品耐性を有し、半導体装置の層間絶縁膜等のパターン硬化膜の製造に好適に用いることのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（ａ）〜（ｄ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
（ａ）アルカリ性水溶液に可溶なポリマー
（ｂ）光の照射を受けて酸を発生する化合物
（ｃ）フェノール骨格を含有していない架橋剤
（ｄ）ウレア結合を有するシランカップリング剤 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好でかつ感度が高い感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターンの製造方法及び該製造方法によって製造された硬化レリーフパターンを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００質量部、並びに（Ｂ）下記式（１）：


｛式中、Ｘは、有機基を表し、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素原子又は炭素数１〜３０の有機基を表し、Ｒ¹及びＲ²は互いに連結していてもよく、ｎは、３〜６の整数であり、複数のＱは、各々独立に、水素原子又はナフトキノンジアジドスルホニル基。｝で表されるナフトキノンジアジド化合物１〜５０質量部を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と第２のシラン化合物との混合物を加水分解縮合し、更に加熱処理して得られる第２のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ透明性及び解像性に優れるシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 （ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：上記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステルと、を含有する感光性樹脂組成物を用いてシリカ系被膜を形成する方法であって、上記感光性樹脂組成物からなる塗膜を３００℃未満の温度で加熱硬化する加熱工程を有する、シリカ系被膜の形成方法。
【化１】



［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）