【解決課題】 指紋抜け現象やキズ現象の発生を防止し、耐キズ性や耐薬品性（耐溶剤性）に優れ、ＵＶインキを用いた印刷を行っても耐刷力に優れた感光層が設けられたコンベンショナルＰＳ版並びにサーマルポジ版用平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 ３−（１、２、３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチルメタクリレート由来の構造単位およびＮ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド由来の構造単位を有する共重合体を含有する画像形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】
本発明はフォトレジスト用ストリッパー組成物に関するものである。本発明に係るフォトレジスト用ストリッパー組成物は、一般的なフォトレジスト剥離方式だけでなく、リフト−オフ（Ｌｉｆｔ−ｏｆｆ）方式においても苛酷な写真エッチング工程によって変質されたフォトレジスト膜を低温で短い時間内にきれいに剥離することができ、中間洗浄液であるイソプロパノールを用いることなく、水で洗浄してもフォトレジスト下部の導電性膜または絶縁膜に損傷を与えず、フォトレジスト下部の導電性金属膜または絶縁膜に対する腐食防止力に優れる。 （もっと読む）

【課題】分光特性及び顔料の分散性に優れ、着色パターンとしたときのパターンの矩形性、並びに下層及び上層との密着性に優れ、かつ、樹脂の総使用量が少なく、顔料の濃度が高い顔料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよび画像記録材料を提供する
【解決手段】側鎖に重合性基を有するモノマーユニット及び側鎖に酸性基または塩基性基を有するモノマーユニットを有する共重合体と、顔料とを含み、全固形分中の顔料濃度が５０質量％以上１００質量％未満であることを特徴とする顔料含有硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、高い耐熱性とともに、破断伸びが大きい膜を形成できるポリアミド樹脂、該樹脂を用いた感光性樹脂組成物及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】芳香環と芳香環を二重結合を含有する基で連結した繰り返し単位を有するポリアミド樹脂、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、塗布欠陥が著しく低減された感光性樹脂組成物の製造方法、及び該方法により得られた感光性樹脂組成物を用いたレリーフパターンを提供する。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）感光剤、（Ｃ）溶剤を含む固形分濃度３０質量％以上のポジ型感光性樹脂組成物を０．１μｍ以下の中空糸フィルターで濾過する工程を含むポジ型感光性樹脂組成物の製造方法、及び該感光性樹脂組成物を用いて形成したレリーフパターン。 （もっと読む）

基板上に、アルカリ水溶液中に可溶性又は分散性であって、（メタ）アクリル反復単位、イミド反復単位、及び対応するエチレン系不飽和重合性モノマーから誘導されるアミド反復単位を含むコポリマーを含んで成る輻射線感光性塗膜を有し、前記コポリマーが、ネガ型又はポジ型となることができる平版印刷版前駆体に増強された耐化学薬品性を提供する、単層又は多層平版印刷版前駆体。 （もっと読む）

【課題】 湿式現像可能な反射防止膜組成物及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板表面とポジ型フォトレジスト組成物の間に塗布する反射防止膜組成物を開示する。反射防止膜組成物は、水性アルカリ性現像液中で現像可能である。この反射防止膜組成物は、ラクトン、マレイミド、及びＮ−アルキルマレイミドから成る群から選択される１つ又は複数の部分を含む少なくとも１つのモノマー単位と、１つ又は複数の吸光性部分を含む少なくとも１つのモノマー単位とを含むポリマーを含む。このポリマーは酸に不安定な基を含まない。本発明はまた、フォトリソグラフィにおいて本発明の反射防止膜組成物を用いて、レリーフ像を形成し転写する方法を開示する。 （もっと読む）

金属電極の製造方法であって、（Ｉ）基材の全面にコーティングまたは積層方式でフォトレジスト層を形成した後、前記基材の中で金属電極が形成される部位を除いた残り部位にだけ前記フォトレジスト層が残るように全面にフォトレジスト層が形成された前記基材に予備熱処理（Ｐｒｅ−ｂａｋｅ）、露光、現像及び後熱処理（Ｐｏｓｔ−ｂａｋｅ）を順次行ってパターンを形成する工程と、（ＩＩ）パターンが形成された前記基材を金属メッキして、基材の中でフォトレジスト層が形成されなかった部分にだけ金属電極を形成する工程と、（ＩＩＩ）基材上に残っているフォトレジスト層を剥離する工程とを含む。従来に比べ、電極形成用金属の損失量を大幅に減らして製造原価を節減し、耐熱性及び密着力に優れたフォトレジスト組成物を利用して基材に直接電極パターンを構成することにより、金属の損失量を減らすとともに高温処理工程を省略して、基材またはパターンの変形を減らし、メッキ触媒の蒸着工程を省略し、選択的メッキが可能でありながらも金属電極パターンを一層堅く形成することができる。
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【課題】得られる樹脂膜の耐熱形状保持性に優れ、パターン化樹脂膜を形成する際のメルトフロー時の温度マージンが広く、しかもレジスト材としても好適に用い得る感放射線性樹脂組成物、基板とこの上に積層された前記感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜とからなる積層体、及び、この積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に環状構造を有する環状オレフィン系重合体１００重量部、感放射線性化合物１〜１００重量部及びブロックされたイソシアネート基を有するブロック型ポリイソシアネート化合物５〜８０重量部を含有してなる感放射線性樹脂組成物；基板と、この上に積層された前記感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜と、からなる積層体；前記感放射線性樹脂組成物を用いて樹脂膜を基板上に形成する工程を有する積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、密着性が良好であるとともに、現像残渣が低減された感光性樹脂組成物、及び、該組成物を用いて、さらに密着性を向上、膜減りの低減を可能とする半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、シロキサン化合物、界面活性剤、及び感光剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基または１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基を含有する感光性シランカップリング剤。基板１の表面に感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行い、露光部３にカルボキシル基を発生させ、露光部３または未露光部４のみに選択的に微粒子５を配する。得られた微粒子パターンを用いて単一電子素子、パターンドメディア、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスを作製する。 （もっと読む）

【課題】高耐刷性及び優れた耐溶剤性を有し、高感度でかつトンボ抜けが生じにくいポジ型感光性平版印刷版を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液可溶性ノボラック樹脂およびｏ-ナフトキノンジアジド化合物を含有する層（Ａ）を有し、層（Ａ）と支持体との間に、側鎖に尿素結合を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂と、ｏ-ナフトキノンジアジド化合物を含有する層（Ｂ）を有するポジ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度にすぐれるポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部と式（２）で表されるカーボネート化合物及び式（３）で表される含窒素カルボニル化合物からなる群から選択される少なくとも１つのカルボニル０．０１〜５０質量部と光酸発生剤１〜５０質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】低温での硬化プロセスによっても、脆くなく、耐熱性に富んだ硬化膜となるようなポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成された半導体基板１に、ポジ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンのマスク上から光を照射する。アルカリ水溶液にて現像後、加熱（硬化）して、表面保護膜８を形成する。ポジ型感光性樹脂組成物は、その被膜を２００℃以下の温度で加熱処理した硬化膜の破断伸び率が２０％以上であるため、２００℃以下の硬化で懸念される膜の脆さを防ぐことができる。また、硬化膜のガラス転移温度が高いため、硬化膜を有する電子部品を実装する際に、封止や半田リフローなどの加熱工程に耐え得る。 （もっと読む）

【課題】 ＣＳＰと呼ばれる半導体装置において、電解メッキにより配線を形成する際に用いるフォトレジスト膜をポジ型化学増幅型のものによって形成するとき、解像不良が発生しないようにする。
【解決手段】 最上層に銅層を有するメッキ電流路としての下地金属層７の上面にアルミニウムからなるバリア層２２を成膜する。次に、バリア層２２の上面にポジ型化学増幅型のフォトレジスト膜２３を形成する。次に、配線形成領域に対応する部分に開口部２５を有する露光マスク２４を用いて紫外線を照射すると、配線形成領域に対応する部分におけるフォトレジスト膜２３中の光酸発生剤からパターン形成に必要な触媒としての酸が発生する。この場合、フォトレジスト膜２３で発生した酸はバリア層２２によって阻止されて下地金属層７の最上層の銅層中に侵入することがなく、したがってこの銅層とフォトレジスト膜２３との界面において酸が中和されることがなく、この酸中和に起因する解像不良が発生しないようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、高い感度を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】末端に−ＳＯ₂ＮＨ−を含む基を有するポリベンゾオキサゾール前駆体及び感光剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】合紙を用いなくても、輸送、保管時等において記録層に傷が付きにくく、かつ耐熱性に優れ、プレートクリーナー等の各種印刷用薬品、特にＵＶインキ用洗浄剤に対する耐性に優れた平版印刷版原版を提供することを目的とする。
【解決手段】支持体の片面に、ジアゾニウム塩またはｏ−キノンジアジド化合物を感光性化合物として紫外線感光性の記録層を有し、前記支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、エポキシ樹脂およびレゾール樹脂から選ばれる少なくとも一種の有機ポリマーと、架橋剤と、を含む溶液を塗布、乾燥することにより架橋反応を生じさせて形成された有機ポリマー層を有することを特徴とする紫外線感光性平版印刷版原版により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】安定性が良好で、低い熱硬化温度で使用しても優れた耐熱性と電気特性、機械特性などを有する、ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の一般式（１）で表わされる繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部と、特定のリン酸誘導体０．１〜３０質量部と、感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部とを含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、プラスチックを支持体とする（プラスチック支持体を有する）平版印刷版材料の作製方法および平版印刷版材料において、水酸基を有する下引き層上に有機チタン化合物を含有する親水性層を塗布し親水性層を塗設することによって、非画像部の膜強度を増すことにより異物耐性が向上した平版印刷版材料の作製方法および平版印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】プラスチック支持体上に、少なくとも、下引き層、親水性層、画像形成層、を有する平版印刷版材料の作製方法において、該平版印刷版材料がプラスチック支持体上に設けられた水酸基を有する下引き層上に、有機チタン化合物を含有する親水性層塗布液を塗布、乾燥することにより形成される親水性層を有することを特徴とする平版印刷版材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は低線熱膨張係数、高ガラス転移温度、低吸水率、各種用途に十分な膜靭性、およびエッチング特性を有する、各種電子デバイスにおける電気絶縁膜等として有益な、ポリエステルイミドとその前駆体およびこれらの製造方法を提供するものである。
【解決手段】式（２）：


（式中、ＸおよびＹは、それぞれ式（１）と同じである）で表される反復単位からなる、ポリエステルイミド。 （もっと読む）